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正文內(nèi)容

光纖生產(chǎn)流程-全文預(yù)覽

  

【正文】 勻度及材料的烘干,目前抽絲速率可達(dá)300600米 /分。而其外圍保護(hù)層的材料亦可分為兩大類: ,如高分子環(huán)氧 基 丙烯酸 紙、 ,如矽樹(shù)脂及各種高分子材料。 光纖生產(chǎn)方式為,先作預(yù)型 體( preform),采用汽相沈積法,可分為垂直沈積式( VAD,由日本 NTT 開(kāi)發(fā))、外部沈積式( OVD,由康寧開(kāi)發(fā))及內(nèi)部沈積式( MCVD,由 Bell Lab開(kāi)發(fā))等方式,目前光纖業(yè)者大多采用 MCVD 制作 多膜光纖。單膜主要用在長(zhǎng)途通信(須與 半導(dǎo)體 雷射配合), 因此產(chǎn)品要求較嚴(yán)苛,而全球光纖使用量目前仍以單膜為主。光纖以傳輸模態(tài)可分單膜及多膜,若將纖核直徑大小限制在10μm 左右,在 1300nm 傳輸波長(zhǎng)中,便僅有一個(gè)傳輸模態(tài)在光纖中傳輸,即為單膜,若將纖核直徑加大,光纖內(nèi)有多種路徑供傳遞,則稱為多膜。全球光纖 1999 年的市場(chǎng)占有率如下:康寧 30%、 Lucent 15%、 Alcatel 13%、 Sumitomo(住友電工) 7%、 Furukawa(古河電工)、 Fujikura(藤倉(cāng))各占 7%。光纖的抽絲速率主要受限于鍍膜過(guò)程,因必須考慮保護(hù)層的均
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