【摘要】第四章集成電路制造工藝?集成電路設(shè)計(jì)與制造的主要流程框架設(shè)計(jì)芯片檢測(cè)單晶、外延材料掩膜版芯片制造過(guò)程封裝測(cè)試系統(tǒng)需求集成電路的設(shè)計(jì)過(guò)程:設(shè)計(jì)創(chuàng)意+仿真驗(yàn)證集成電路芯片設(shè)計(jì)過(guò)程框架From吉利久教授
2025-05-07 07:17
【摘要】第四章第四章集成電路設(shè)計(jì)第四章集成電路是由元、器件組成。元、器件分為兩大類:無(wú)源元件電阻、電容、電感、互連線、傳輸線等有源器件各類晶體管集成電路中的無(wú)源源件占的面積一般都比有源器件大。所以設(shè)計(jì)時(shí)盡可能少用無(wú)源元件,尤其是電容
2025-05-04 18:03
【摘要】?掌握集成電路、半導(dǎo)體集成電路的基本概念,掌握集成度的概念,能夠正確區(qū)分SSI、MSI、LSI、VLSI、ULSI等不同集成度的集成電路。?掌握數(shù)字集成電路與模擬集成電路的概念,了解兩者的聯(lián)系與區(qū)別。?了解集成電路的分類方法。?了解目前半導(dǎo)體集成電路的發(fā)展趨勢(shì)。?熟悉典型雙極型半導(dǎo)體集成電路的工藝流程,了解其工藝特點(diǎn)。?了解集成電路
2025-05-06 12:49
【摘要】模擬集成電路中的直流偏置技術(shù)差分式放大電路的傳輸特性集成電路運(yùn)算放大器實(shí)際集成運(yùn)算放大器的主要參數(shù)和對(duì)應(yīng)用電路的影響差分式放大電路模擬電子技術(shù)基礎(chǔ)(第五版)課件康華光模擬集成電路中的直流偏置技術(shù)BJT電流源電路FET電流源1.鏡像電流源2.微電流源3.高輸出阻抗電流源4.
2025-01-02 09:03
【摘要】模擬集成電路中的直流偏置技術(shù)差分式放大電路的傳輸特性集成電路運(yùn)算放大器實(shí)際集成運(yùn)算放大器的主要參數(shù)和對(duì)應(yīng)用電路的影響差分式放大電路變跨導(dǎo)式模擬乘法器放大器中的噪聲和干擾模擬集成電路中的直流偏置技術(shù)BJT電流源電路FET電流源1.鏡像電流源2.
2025-04-29 05:02
【摘要】設(shè)計(jì)報(bào)告姓名:徐彭飛學(xué)號(hào):201221030137姓名:楊萍學(xué)號(hào):201250300004 差分放大器設(shè)計(jì)報(bào)告設(shè)計(jì)內(nèi)容:設(shè)計(jì)一個(gè)差分放大器的模擬集成電路模塊,給出電路原理圖,對(duì)電路進(jìn)行直流、交流、瞬態(tài)分析并給出仿真結(jié)果,給出簡(jiǎn)單的集成電路版圖。差分放大器的性能指標(biāo):1、負(fù)載電容CL=2pF2、VDD
2025-01-18 23:03
【摘要】CMOS模擬集成電路設(shè)計(jì)穩(wěn)定性和頻率補(bǔ)償2022/2/9提綱2提綱?1、概述?2、多極點(diǎn)系統(tǒng)?3、相位裕度?4、頻率補(bǔ)償?5、兩級(jí)運(yùn)放的補(bǔ)償2022/2/9概述31、概述?反饋系統(tǒng)存在潛在不穩(wěn)定性?振蕩條件(巴克豪森判據(jù))1、在ω1下,圍繞環(huán)路的相
2025-01-12 16:52
2025-03-23 09:45
【摘要】123456789101112131415161718192021222324252627
2025-08-05 16:51
【摘要】2023/3/24共88頁(yè)1Spectre/Virtuoso/Calibre工具使用介紹實(shí)驗(yàn)地點(diǎn):信息科學(xué)實(shí)驗(yàn)中心研究生實(shí)驗(yàn)訓(xùn)練基地馮立松汪瀚2023/3/24共88頁(yè)2模擬集成電路的設(shè)計(jì)流程(spectre)(virtuoso)(DRCLVS)(
2025-03-05 06:15
【摘要】1第六章光刻工藝§1基本概念2一、光刻的定義:光刻是一種圖形復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的精密表面加工技術(shù)。二、光刻的目的:光刻的目的就是在二氧化硅或金屬薄膜上面刻蝕出與掩膜版完全對(duì)應(yīng)的幾何圖形,從而實(shí)現(xiàn)選擇性擴(kuò)散和金屬薄膜布線的目的。3三、工藝流程:以負(fù)膠為例來(lái)說(shuō)明這八個(gè)步驟,一般可分為
【摘要】集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)第三章集成電路制造工藝華南理工大學(xué)電子與信息學(xué)院廣州集成電路設(shè)計(jì)中心殷瑞祥教授第3章IC制造工藝外延生長(zhǎng)掩膜制作光刻原理與流程氧化淀積與刻蝕摻雜原理與工藝2關(guān)心每一步工藝對(duì)器件性
【摘要】電子科學(xué)與工程學(xué)院南京郵電大學(xué)2022-6-121第1章集成電路設(shè)計(jì)導(dǎo)論1、微電子(集成電路)技術(shù)概述2、集成電路設(shè)計(jì)步驟及方法電子科學(xué)與工程學(xué)院南京郵電大學(xué)2022-6-122?“自底向上”(Bottom-up)“自底向上”的設(shè)計(jì)路線,即自工藝開始,先進(jìn)行單元設(shè)計(jì),在精心設(shè)計(jì)
2025-04-29 03:20
【摘要】《集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)》山東大學(xué)信息學(xué)院劉志軍BCEP+P+PMOSN+PN阱N阱縱向NPN-SUBP+N+N+NMOS-P-epiN+N+-BLN+-BL2022/2/13《集成電路設(shè)
2025-01-17 09:42
【摘要】第八章專用集成電路和可編程集成電路???????、標(biāo)準(zhǔn)單元與可編程集成電路的比較?專用集成電路(ASIC)被認(rèn)為是用戶專用電路(customspecificIC),即它是根據(jù)用戶的特定要求.能以低研制成本、短交貨周期供貨的集成電路。它最主要的優(yōu)點(diǎn)在于:?(1)