半導體芯片制造中級復習題a(文件)
【正文】 率，并影響其電學性能和可靠 性，所以半導體芯片制造工藝需在超凈廠房內進行。1 用肉眼或顯微鏡可觀察二氧化硅的以下質量：顏色是否均勻 、結構 是否致密；表面無 斑點 、無 白霧、不發(fā)花；表面無裂紋、無針孔。作用：（略）2. 什么是離子？答：原子（原子團）、分子（分子團）失去或獲得電子后所形成的帶電粒子稱為離子3. 操作人員的質量職責是什么？答：操作人員的質量職責是：（1）按規(guī)定接受培訓考核，以達到所要求的技能、能力和知識；（2）嚴格按工藝規(guī)范和工藝文件進行操作，對工藝質量負責；（3）按規(guī)定填寫質量記錄，對其準確性、完整性負責；（4）做好所使用的儀器、設備、工具的日常維護保養(yǎng)工作；（6）對違章作業(yè)造成的質量事故負直接責任。所以潔凈技術是半導體芯片制造過程中的一項重要技術。(2)寸器件在版圖設計時還采用折疊的方式減小一維方向上的尺寸。 (2)傳輸信號和分配電源的作用。 對光刻工藝質量的基本要求是：刻蝕的圖形完整、尺寸準確、邊緣整齊、線條陡直；圖片內無小島、不染色、腐蝕干凈；圖形套合十分準確；介質膜或金屬膜上無針孔；硅片表面清潔、不發(fā)花、無殘留的被腐蝕物質。7。答：在氣相外延生長過程中，首先是反應劑輸運到襯底表面；接著是它在襯底便面發(fā)生反應釋放出硅原子，硅原子按襯底晶向成核，長大成為單晶層。(4)環(huán)境保護的作用。同時，由于在一維方向上的工藝離散性，也將導致最左端的叉指和最右端的叉指所對應的并聯(lián)器件在參數(shù)和結構上產(chǎn)生失配。答：(1)S管的版圖一般采用并聯(lián)晶體管結構。生產(chǎn)中的污染，除了由于化學試劑不純、氣體純化不良、去離子質量不佳引入之外，環(huán)境中的塵埃、雜質及有害氣體、工作人員、設備、工具、日用雜品等引入的塵埃、毛發(fā)、皮屑、油脂、手汗、煙霧等都是重要汚染來源。 工藝人員完成工藝操作后要認真、及時填寫工藝記錄，做到記錄內容詳細、 真實、完整、書寫工整、數(shù)據(jù)準確。1 在半導體工藝中，硫酸常用于去除 光刻膠和配制 洗液 等。1 離子注入是借其 動能 強行進入靶材料中的一個非平衡 物理過程。比較通用的則是根據(jù)其化學組成可分為元素 半導體、 化合物 半導體、固溶半導體三大類。全定制、半定制版圖設計中用到的單元庫包含 符號圖 、抽象圖 、線路圖 和
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