半導(dǎo)體芯片制造中級復(fù)習(xí)題a(文件)
【正文】 率，并影響其電學(xué)性能和可靠 性，所以半導(dǎo)體芯片制造工藝需在超凈廠房內(nèi)進(jìn)行。1 用肉眼或顯微鏡可觀察二氧化硅的以下質(zhì)量：顏色是否均勻 、結(jié)構(gòu) 是否致密；表面無 斑點 、無 白霧、不發(fā)花；表面無裂紋、無針孔。作用：（略）2. 什么是離子？答：原子（原子團(tuán)）、分子（分子團(tuán)）失去或獲得電子后所形成的帶電粒子稱為離子3. 操作人員的質(zhì)量職責(zé)是什么？答：操作人員的質(zhì)量職責(zé)是：（1）按規(guī)定接受培訓(xùn)考核，以達(dá)到所要求的技能、能力和知識；（2）嚴(yán)格按工藝規(guī)范和工藝文件進(jìn)行操作，對工藝質(zhì)量負(fù)責(zé)；（3）按規(guī)定填寫質(zhì)量記錄，對其準(zhǔn)確性、完整性負(fù)責(zé)；（4）做好所使用的儀器、設(shè)備、工具的日常維護(hù)保養(yǎng)工作；（6）對違章作業(yè)造成的質(zhì)量事故負(fù)直接責(zé)任。所以潔凈技術(shù)是半導(dǎo)體芯片制造過程中的一項重要技術(shù)。(2)寸器件在版圖設(shè)計時還采用折疊的方式減小一維方向上的尺寸。 (2)傳輸信號和分配電源的作用。 對光刻工藝質(zhì)量的基本要求是：刻蝕的圖形完整、尺寸準(zhǔn)確、邊緣整齊、線條陡直；圖片內(nèi)無小島、不染色、腐蝕干凈；圖形套合十分準(zhǔn)確；介質(zhì)膜或金屬膜上無針孔；硅片表面清潔、不發(fā)花、無殘留的被腐蝕物質(zhì)。7。答：在氣相外延生長過程中，首先是反應(yīng)劑輸運到襯底表面；接著是它在襯底便面發(fā)生反應(yīng)釋放出硅原子，硅原子按襯底晶向成核，長大成為單晶層。(4)環(huán)境保護(hù)的作用。同時，由于在一維方向上的工藝離散性，也將導(dǎo)致最左端的叉指和最右端的叉指所對應(yīng)的并聯(lián)器件在參數(shù)和結(jié)構(gòu)上產(chǎn)生失配。答：(1)S管的版圖一般采用并聯(lián)晶體管結(jié)構(gòu)。生產(chǎn)中的污染，除了由于化學(xué)試劑不純、氣體純化不良、去離子質(zhì)量不佳引入之外，環(huán)境中的塵埃、雜質(zhì)及有害氣體、工作人員、設(shè)備、工具、日用雜品等引入的塵埃、毛發(fā)、皮屑、油脂、手汗、煙霧等都是重要汚染來源。 工藝人員完成工藝操作后要認(rèn)真、及時填寫工藝記錄，做到記錄內(nèi)容詳細(xì)、 真實、完整、書寫工整、數(shù)據(jù)準(zhǔn)確。1 在半導(dǎo)體工藝中，硫酸常用于去除 光刻膠和配制 洗液 等。1 離子注入是借其 動能 強(qiáng)行進(jìn)入靶材料中的一個非平衡 物理過程。比較通用的則是根據(jù)其化學(xué)組成可分為元素 半導(dǎo)體、 化合物 半導(dǎo)體、固溶半導(dǎo)體三大類。全定制、半定制版圖設(shè)計中用到的單元庫包含 符號圖 、抽象圖 、線路圖 和
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