沉淀滴定和重量分析(文件)
【正文】 長 ? 晶核的形成 成核作用 均相 、 異相 生長過程 擴散 、 沉積 聚集 定向排列 構晶離子 晶核 沉淀微粒 無定形沉淀 晶形沉淀 續(xù)前 ? 晶核的形成 均相成核 （自發(fā)成核）：過飽和溶液中，構晶離子通過相互 靜電作用締和而成晶核 異相成核 ：非過飽和溶液中，構晶離子借助溶液中固體微粒 形成晶核 ? 晶核的生長 影響沉淀顆粒大小和形態(tài)的因素： 聚集速度 ：構晶離子聚集成晶核后進一步堆積成沉淀微粒的 速度 定向速度 ：構晶離子以一定順序排列于晶格內(nèi)的速度 注： 沉淀顆粒大小和形態(tài)決定于聚集速度和定向速度比率大小 聚集速度＜ 定向排列速度 → 晶形沉淀 聚集速度＞ 定向排列速度 → 無定形沉淀 五、影響沉淀純凈的因素 1．共沉淀現(xiàn)象 2．后沉淀 3．提高沉淀純度措施 1． 共沉淀現(xiàn)象 （ 1）表面吸附 吸附共沉淀 ：沉淀表面吸附引起雜質(zhì)共沉淀 ? 吸附規(guī)則 第一吸附層：先吸附過量的構晶離子 再吸附與構晶離子大小接近 、 電荷相同的離子 濃度較高的離子被優(yōu)先吸附 第二吸附層：優(yōu)先吸附與構晶離子形成的鹽溶解度小的離子 離子價數(shù)高 、 濃度大的離子 ， 優(yōu)先被吸附 ? 減小方法 制備大顆粒沉淀或晶形沉淀 適當提高溶液溫度 洗滌沉淀，減小表面吸附 圖示 BaSO4晶體表面吸附示意圖 沉淀表面形成雙電層： ? 吸附層 —— 吸附剩余構晶離子 SO42 ? 擴散層 —— 吸附陽離子或抗衡離子 Fe3+ 續(xù)前 （ 2）形成混晶：存在與構晶離子晶體構型相同、離 子半徑相近、電子層結構相同的雜質(zhì)離子，沉 淀時進入晶格中形成混晶 ? 減小或消除方法 將雜質(zhì)事先分離除去； 加入絡合劑或改變沉淀劑 ， 以消除干擾離子 ? 例： BaSO4與 PbSO4 ， AgCL與 AgBr 同型混晶 BaSO4中混入 KMnO4（粉紅色） 異型混晶 續(xù)前 （ 3） 吸留 或 包埋 ：沉淀速度過快，表面吸附的雜質(zhì) 來不及離開沉淀表面就被隨后沉積下來的沉淀 所覆蓋，包埋在沉淀內(nèi)部，這種因吸附而留在 沉淀內(nèi)部的共沉淀現(xiàn)象稱～ ? 減少或消除方法 改變沉淀條件 ， 重結晶或陳化 2． 后沉淀（繼沉淀） ： 溶液中被測組分析出沉淀之后在與母液放置過程中， 溶液中其他本來難以析出沉淀的組分（雜質(zhì)離子） 在該沉淀表面繼續(xù)沉積的現(xiàn)象 ? 注： 繼沉淀經(jīng)加熱 、 放置后會更加嚴重 ? 消除方法 —— 縮短沉淀與母液的共置時間 示例 ? 例： 草酸鹽的沉淀分離中 ? 例：金屬硫化物的沉淀分離中 ?????? ????? ???? Z n SC u SC u SZnCu SH (22 2, 長時間????? ????? ?? ??? 42424222 242, OM g COC a COC a CMgCa OC 長時間逐漸沉積當表面吸附長時間放置，?????????42)(24222422424242]][[][OM g CKOCMgOCOCOC a COM g CSP逐漸沉積當表面吸附長時間放置，?????????ZnSKSZnSSC u SZ n SSP )(2222]][[][3．提高沉淀純度措施 1） 選擇適當分析步驟 測少量組分含量時 ， 首先沉淀含量少的組分 2） 改變易被吸附雜質(zhì)的存在形式 ， 降低其濃度 分離除去 ， 或掩蔽 3） 選擇合適的沉淀劑 選用有機沉淀劑可有效減少共沉淀 4） 改善沉淀條件 溫度 ， 濃度 ， 試劑加入次序或速度 ， 是否陳化 5） 再沉淀 有效減小吸留或包埋的共沉淀及后沉淀現(xiàn)象 六、沉淀條件的選擇 1． 晶形沉淀 2． 無定形沉淀 3．均勻沉淀法 1．晶形沉淀 ? 特點：顆粒大 ， 易過濾洗滌； 結構緊密 ， 表面積小 ， 吸附雜質(zhì)少 ? 條件： a． 稀溶液 —— 降低過飽和度 ， 減少均相成核 b． 熱溶液 —— 增大溶解度 ， 減少雜質(zhì)吸附 c． 充分攪拌下慢慢滴加沉淀劑 —— 防止局部過飽和 d． 加熱陳化 —— 生成大顆粒純凈晶體 陳化：沉淀完成后 ， 將沉淀與母液放置一段時間 ， 這一過程稱為～ （ 加熱和攪拌可以縮短陳化時間 ） 2．無定形沉淀 ? 特點：溶解度小 ， 顆粒小 ， 難以過濾洗滌； 結構疏松 ， 表面積大 ， 易吸附雜質(zhì) ? 條件： a． 濃溶液 —— 降低水化程度，使沉淀顆粒結構緊密 b． 熱溶液 —— 促進沉淀微粒凝聚 ， 減小雜質(zhì)吸附 c． 攪拌下較快加入沉淀劑 —— 加快沉淀聚集速度 d． 不 需要陳化 —— 趁熱過濾 、 洗滌 ， 防止雜質(zhì)包裹 e． 適當加入電解質(zhì) —— 防止膠溶 3．均勻沉淀法 利用化學反應，在溶液中逐步、均勻地產(chǎn)生所需 沉淀劑，避免局部過濃現(xiàn)象，降低相對過飽和度， 使沉淀在溶液中緩慢、均勻析出，形成易濾過洗 滌的大顆粒沉淀 ? 優(yōu)點： 避免了局部過濃或相對過飽和度過大現(xiàn)象 ? 注： 均勻沉淀法制成的
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