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氮化鋁陶瓷的燒結(jié)簡(jiǎn)介及調(diào)控畢業(yè)論文-wenkub

2023-07-12 15:54:26 本頁(yè)面
 

【正文】 燒成等靜壓成型干壓成型造粒性能測(cè)試(1)配料,使用量筒稱取100ml乙醇,讓配方粉料和酒精在球磨罐中均勻混合,密封罐口。為氮化鋁陶瓷基片的產(chǎn)業(yè)化提供一些基礎(chǔ)理論依據(jù)。氮化鋁共價(jià)鍵性很強(qiáng),在常壓下無(wú)熔點(diǎn),但在2450℃時(shí)直接升華分解,所以難以燒結(jié)成致密體。 本文的研究方向氮化鋁陶瓷以其優(yōu)良的性能使之成為商業(yè)前景極大的新型電子陶瓷材料。至20世紀(jì)九十年代初,出現(xiàn)了高質(zhì)量的A1N基片和封裝材料,而且產(chǎn)品穩(wěn)定性亦逐步提高,目前,A1N粉體以及基片和封裝材料己經(jīng)實(shí)現(xiàn)了商業(yè)化生產(chǎn)。隨著粉末冶金技術(shù)的發(fā)展以及人們對(duì)A1N研究的不斷深入,至七十年代中后期,致密的A1N陶瓷得以制備,其優(yōu)良的熱學(xué)性能和電學(xué)性能引起了國(guó)內(nèi)外研究者的廣泛興趣。由于A1N屬于共價(jià)化合物,原子的自擴(kuò)散系數(shù)小,其固有的難以燒結(jié)的缺點(diǎn)限制了它的進(jìn)一步發(fā)展,在這一階段的幾十年中,有關(guān)A1N的研究進(jìn)展不大。另外,它還非常適合于VLSL組件,微波真空管的封裝殼體以及混合功率開(kāi)關(guān)的封裝等,它視為新一代的電子封裝材料。目前Al/AlN、AlN/TiN、AlNBN等復(fù)合材料的研究也取得了很大進(jìn)展,這些復(fù)合材料性能優(yōu)異,具有十分很好的應(yīng)用前景【20】。(2)高溫耐蝕材料方面AlN陶瓷具有良好的高溫耐蝕性,它能與許多金屬在高溫下共存,因此是優(yōu)良的坩堝材料,同時(shí)也可用作腐蝕性物質(zhì)的容器和處理器。過(guò)去的基片材料采用Al2O3,而AlN的熱導(dǎo)率是Al2O3的510倍,更能滿足大規(guī)模集成電路的需求。放電等離子燒結(jié)系統(tǒng)利用脈沖能、放電脈沖壓力和焦耳熱產(chǎn)生的瞬間高溫場(chǎng)來(lái)實(shí)現(xiàn)燒結(jié)過(guò)程。微波燒結(jié)是通過(guò)物質(zhì)吸收微波的能量而進(jìn)行自身加熱,其加熱過(guò)程是在整個(gè)體積內(nèi)同時(shí)進(jìn)行,升溫迅速、溫度均勻。(2)微波燒結(jié)進(jìn)入21世紀(jì),納米陶瓷已成為了新興陶瓷的主流,納米陶瓷具有一般陶瓷無(wú)法媲美的性能。熱壓燒結(jié)的燒結(jié)溫度為1500~1700℃,施加壓力為20MPa左右。(1)常壓燒結(jié)和熱壓燒結(jié)氮化鋁陶瓷燒結(jié)工藝主要有2種:常壓燒結(jié)和熱壓燒結(jié)。對(duì)燒結(jié)的物質(zhì)傳遞方式和機(jī)理許多學(xué)者都進(jìn)行了研究,提出了許多見(jiàn)解,目前主要有四種看法,即:(l)蒸發(fā)和凝聚;(2)擴(kuò)散;(3)粘滯流動(dòng)與塑性流動(dòng);(4)溶解和沉淀【17】。14. 陶瓷燒結(jié)簡(jiǎn)化圖圖14是陶瓷燒結(jié)過(guò)程的簡(jiǎn)化圖。首先,化合物AlN在自然界并不存在,必須由人工方法合成。它的基本工藝過(guò)程是:首先將具有特定粒度和表面形態(tài)的陶瓷粉末與有機(jī)粘結(jié)劑混合均勻,制成喂料。然后按照所需形狀切割、沖片或打孔,最后排膠和燒結(jié)得到符合所需特性要求的陶瓷基片。(3)流延法成型 流延成型的具體工藝是首先把陶瓷粉體(有時(shí)候還包括燒結(jié)助劑)和分散劑在特定的溶劑介質(zhì)中球磨、超聲或機(jī)械攪拌混合一段時(shí)間,待分散均勻后加入粘結(jié)劑、塑性劑進(jìn)行二次球磨混合,得到分散良好、穩(wěn)定的漿料。常用的成型劑有石蠟、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯醉縮丁醛(PVB)。而以烷基鋁作為原料,反應(yīng)過(guò)程簡(jiǎn)單,不會(huì)產(chǎn)生腐蝕性氣體,且生成的烷基會(huì)在高溫下?lián)]發(fā)。(5)化學(xué)氣相沉積法化學(xué)氣相沉積法制備氮化鋁粉體,最常用的是以鹵化鋁或鋁的金屬有機(jī)化合物為原料,與NH3 經(jīng)過(guò)兩個(gè)氣相反應(yīng)過(guò)程,最終合成AlN。其特點(diǎn)是:制備過(guò)程與設(shè)備簡(jiǎn)單,耗費(fèi)能源極少;可快速生產(chǎn),成本低廉;伴隨燃燒所產(chǎn)生的高溫可將反應(yīng)物中易揮發(fā)的雜質(zhì)予以氣化并自反應(yīng)物中移除,達(dá)到純化的目的;可合成各種不同形狀結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品,如粉體、多孔雜塊狀物、致密粉體等;反應(yīng)過(guò)程涉及快速升溫及降溫,制成的氮化鋁具有較高燒結(jié)活性。 R3Al:NH3174。因此為了在較低溫度下獲得純度高、粒度細(xì)的AlN 粉體,一般選用機(jī)械活化后粒度較細(xì)甚至達(dá)到納米級(jí)的Al2O3和炭黑作為原料,其碳熱反應(yīng)的氮化溫度可以在1100 ~ 1250 ℃進(jìn)行,比沒(méi)有機(jī)械活化處理的降低400 ℃左右。該方法的優(yōu)點(diǎn)是原料豐富、工藝過(guò)程簡(jiǎn)單,合成的粉體純度高、粒徑小且分布均勻;其缺點(diǎn)在于合成時(shí)間比較長(zhǎng)、氮化溫度較高,而且反應(yīng)后還需要對(duì)過(guò)量的碳進(jìn)行除碳處理,導(dǎo)致生產(chǎn)成本比較高。其缺點(diǎn)是產(chǎn)率低、粉體易團(tuán)聚結(jié)塊。氮化鋁粉體的制備方法有很多,目前國(guó)內(nèi)外研究的主要有以下幾種方法: 鋁粉直接氮化法【12】、Al2O3碳熱還原法【13】、自蔓延高溫合成法【14】、溶劑熱合成法、溶膠凝膠法【15】、等離子化學(xué)合成法、化學(xué)氣相沉積法、利用水引發(fā)固相反應(yīng)法、氮化鋁的氨熱合成法等。A12O3和Y2O3的還原氮化如式(14)和式(15);(14)(15)式(14)中生成的AlN殘留在燒結(jié)體中,而式(15)生成的YN殘留在燒結(jié)體表面,之后蒸發(fā),最后凝縮在燒結(jié)容器的低溫部位。還原氣氛燒成之所以能提高熱導(dǎo)率,是因?yàn)樵贏lN完成致密化之后,晶界遷移,晶粒長(zhǎng)大。因此一定種類的燒結(jié)助劑及合適的添加量,才能保證既降低燒結(jié)溫度,又提高AlN陶瓷的熱導(dǎo)率。(2)選擇合理種類和數(shù)量的燒結(jié)助劑考慮到AlN陶瓷燒結(jié)過(guò)程中氧不能以分解或還原的方式逸出,所以燒結(jié)助劑的引入,可以生成熱力學(xué)穩(wěn)定的鋁酸鹽。因此,晶界第二相的存在有雙重作用。 圖13. 氮化鋁陶瓷中第二相不同分布的顯微模型圖13是氮化鋁陶瓷中第二相不同分布的顯微模型【6】。(3)氮化鋁陶瓷微觀結(jié)構(gòu)對(duì)熱導(dǎo)率的影響此外,A1N陶瓷的顯微結(jié)構(gòu)對(duì)其熱導(dǎo)率也有重要的影響,通過(guò)控制顯微結(jié)構(gòu)可以提高熱導(dǎo)率。當(dāng)然這種關(guān)系也不是線性的,因?yàn)锳1N陶瓷晶格中的氧含量對(duì)其熱導(dǎo)率有著決定性的影響。K)。(1)氧雜質(zhì)對(duì)熱導(dǎo)率的影響如同所有的固體介質(zhì),氮化鋁的晶格雜質(zhì)會(huì)對(duì)其導(dǎo)熱系數(shù)產(chǎn)生不利影響,其中主要的雜質(zhì)是晶格氧。 氮化鋁熱導(dǎo)率的影響因素從上一節(jié)氮化鋁陶瓷的導(dǎo)熱機(jī)理可知,影響其熱導(dǎo)率的主要因素是聲子的平均自由程。因微粒的振動(dòng)互相作用,互相影響,所以在晶體內(nèi)部就發(fā)生微粒振動(dòng)動(dòng)能的轉(zhuǎn)移,動(dòng)能由動(dòng)能大的部分向動(dòng)能小的部分傳遞,從而實(shí)現(xiàn)熱量的傳導(dǎo),熱量傳導(dǎo)的實(shí)質(zhì)也就是能量的遷移。如定義熱流密度Jθ,表示單位時(shí)間內(nèi)通過(guò)單位截面?zhèn)鬏數(shù)臒崮?,比例系?shù)k稱為熱傳導(dǎo)系數(shù)或熱導(dǎo)率。表11. 纖鋅礦結(jié)構(gòu)氮化鋁的物理和光學(xué)性能[910]物理參數(shù)纖維鋅礦氮化鋁密度(g/cm3)熱穩(wěn)定性(℃)2200熔點(diǎn)(℃)2400功函數(shù)(eV)禁帶寬度(eV)熱導(dǎo)率(W/m?k)320熱膨脹系數(shù)(K1)?a/a=?106 ?c/c=?106電阻率(?cm)~1013介電強(qiáng)度(kV/mm)14介電常數(shù)177。同時(shí)強(qiáng)度極大的共價(jià)鍵使得氮化鋁具備高熔點(diǎn),且藉由共價(jià)鍵的共振形成聲子傳遞熱能,使得氮化鋁同時(shí)具備高熱傳導(dǎo)性。B2鍵就是由Al原子的空軌道與N原子的滿軌道形成的。其晶胞結(jié)構(gòu)如圖12所示:圖12. 氮化鋁的晶胞結(jié)構(gòu)Al原子與周?chē)?個(gè)N原子形成一個(gè)四面體,其中3個(gè)Ali(i=l,2,3)鍵,稱之為Bl,;沿c軸方向的AlN0鍵,稱之為B2。 氮化鋁陶瓷的基本性質(zhì)A1N是一種人造陶瓷材料,ⅢⅤ族半導(dǎo)體氮化物(GaN、AlN、BN、InN)一般在光學(xué)、電學(xué)和半導(dǎo)體領(lǐng)域都具有很大應(yīng)用潛能。因此,隨著航空、航天及其他智能功率系統(tǒng)對(duì)大功率耗散要求的提高,AlN基片已成為大規(guī)模集成電路以及大功率模塊的一種重要的新型無(wú)毒基片材料。目前,市場(chǎng)上高熱導(dǎo)率材料主要有BeO、SiC和AlN。氮化鋁陶瓷的燒結(jié)簡(jiǎn)介及調(diào)控畢業(yè)論文目錄摘要 2ABSTRACT 3第一章:緒論 4 氮化鋁陶瓷的基本性質(zhì) 4 氮化鋁陶瓷的導(dǎo)熱機(jī)理 7 氮化鋁熱導(dǎo)率的影響因素 8 10 氮化鋁陶瓷的制備工藝 11 氮化鋁粉末的制備及方法 11 氮化鋁坯體的成型 13 氮化鋁陶瓷的燒結(jié) 15 氮化鋁陶瓷的應(yīng)用和發(fā)展 17 氮化鋁陶瓷的應(yīng)用 17 氮化鋁陶瓷的發(fā)展 18 本文的研究方向 19第二章:實(shí)驗(yàn) 21 實(shí)驗(yàn)原料及儀器設(shè)備 21 原料 21 儀器設(shè)備 21 實(shí)驗(yàn)步驟 22 氮化鋁陶瓷的性能測(cè)試 23 體積密度測(cè)試 23 XRD測(cè)試 23 導(dǎo)熱性能測(cè)試 24 介電性能測(cè)試 24 24第三章:實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)處理分析 25 燒結(jié)助劑對(duì)氮化鋁陶瓷體積密度的影響 26 GaF2 Sm2O3體系的燒結(jié)助劑對(duì)氮化鋁體密度的影響 26 GaF2 Nd2O3體系復(fù)合燒結(jié)助劑對(duì)氮化鋁體密度的影響 28 保溫時(shí)間對(duì)氮化鋁陶瓷性能的影響 28 保溫時(shí)間對(duì)氮化鋁陶瓷致密度的影響 28 保溫時(shí)間對(duì)氮化鋁陶瓷介電性能的影響 30第四章總結(jié)與展望 33 總結(jié) 33 展望 33致謝 34參考文獻(xiàn) 35附錄 38第一章:緒論隨著信息技術(shù)和智能終端設(shè)備的飛速發(fā)展,大規(guī)模集成電路向著高速化、高效率、多功能、小型化的方向發(fā)展,各種應(yīng)用對(duì)高性能、高密度電路的需求越來(lái)高。BeO是一種性能優(yōu)異的封裝材料,但遺憾的是,BeO是一種有毒的物質(zhì),目前世界上許多的國(guó)家已將BeO列入禁用材料,對(duì)于含有BeO的元件或系統(tǒng)的使用也有著很多限制;SiC熱導(dǎo)率雖然高達(dá)270W/mK,但是其介電常數(shù)大(約40,1MHz),這個(gè)缺陷大大限制了SiC在高頻領(lǐng)域的應(yīng)用,不適合做基板材料;但是AlN不僅有高的熱導(dǎo)率(25℃下為140200W/(m許多發(fā)達(dá)國(guó)家都相繼投入了大量的人力物力,開(kāi)展了對(duì)AlN基板材料的研究開(kāi)發(fā),并取得了顯著的成果。氮化鋁(AlN)是Al、N唯一穩(wěn)定的化合物,氮原子和鋁原子之間主要以共價(jià)鍵結(jié)合,屬于二元共價(jià)化合物。 186。因此在c軸方向的B2鍵離子成分大,B2鍵的鍵能比其他三個(gè)等性的Bl鍵的鍵能相對(duì)要小,易斷裂,因而c軸方向的沉積所需的濺射粒子能量大。純凈的AlN陶瓷事無(wú)色透明的,然而通常使用的氮化鋁材料由于混入的雜質(zhì)不同而呈現(xiàn)出各種顏色。表面聲速(cm/s)6?105折射率177。(11)(公式中負(fù)號(hào)表明熱能傳輸總是從高溫流向低溫)固體導(dǎo)熱既可以通過(guò)電子運(yùn)動(dòng)導(dǎo)熱,也可以通過(guò)格波的傳播導(dǎo)熱,其中前者稱為電子熱導(dǎo),后者稱為晶格熱導(dǎo)。根據(jù)晶格固體振動(dòng)理論,聲子作為晶格振動(dòng)的能量量子,所以晶格熱傳導(dǎo)可以看成是聲子擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)的結(jié)果【4】。在實(shí)際生產(chǎn)應(yīng)用中,晶體中或多或少會(huì)存在缺陷,且氮化鋁結(jié)構(gòu)基元的分布也會(huì)有差異。Slack在其單晶研究基礎(chǔ)上,提出了氧原子會(huì)固溶入氮化鋁晶格,由于氧原子與氮原子是非等價(jià)置換,根據(jù)缺陷方程會(huì)導(dǎo)致一個(gè)鋁空缺三個(gè)氧原子,如下缺陷方程所示:Al2O32AlAl+3ON+ VAl(13)這就造成了大量鋁格位和鋁空位的產(chǎn)生,使得氮化鋁晶格呈現(xiàn)出非諧性,影響聲子散射,從而使氮化鋁陶瓷熱導(dǎo)率急劇降低。這也說(shuō)明氧元素對(duì)AlN陶瓷熱導(dǎo)率的影響極大【45】。另一方面,隨著致密度的提高,機(jī)械性能也會(huì)得到改善。研究表明,氮化鋁陶瓷燒結(jié)過(guò)程中常加入一些助劑以降低氮化鋁陶瓷的燒結(jié)溫度。由圖可得,相對(duì)于第二相分布于晶界處氮化鋁陶瓷,第二相分布于晶界三角處的氮化鋁陶瓷具有更好的熱傳導(dǎo)性能,因?yàn)楹笳咴诘X熱傳導(dǎo)過(guò)程中產(chǎn)生的相干散射要少。這就解釋了添加一定燒結(jié)助劑,引入適量晶界第二相可以提高熱導(dǎo),但是過(guò)量的晶界相又是對(duì)導(dǎo)熱性能不利的現(xiàn)象【7】。燒結(jié)助劑易與AlN粉末中的雜質(zhì)氧(主要以Al2O3形式存在)反應(yīng)生成低共熔物,使反應(yīng)溫度大大降低。從上述影響熱導(dǎo)率因素中可以得出,燒結(jié)助劑的選擇應(yīng)滿足以下條件【9】:(1)能在較低溫度下與A1N顆粒表層的A1203發(fā)生反應(yīng),生成液相,而且產(chǎn)生的液相能對(duì)A1N顆粒具有良好的浸潤(rùn)性;(2)液相的流動(dòng)性好,燒結(jié)后期在A1N晶粒生長(zhǎng)過(guò)程的驅(qū)動(dòng)下向三叉晶界流動(dòng),不至于形成A1N晶粒間的熱阻層;(3)添加劑與A1203有較強(qiáng)的結(jié)合能力,以利于脫除氧雜質(zhì),凈化A1N晶格;(4)添加劑最好不與A1N發(fā)生反應(yīng),否則既容易產(chǎn)生晶格缺陷,又難以形成多面體形態(tài)的A1N完整晶形。在晶界遷移過(guò)程中,晶界相捕集氧的能力大大提高,AlN晶粒中固溶的氧在界面力的作用下拖曳到晶界相中,從而使AlN晶粒內(nèi)的固溶氧減少。因而,在還原氣氛中燒成AlN陶瓷或致密的AlN陶瓷在碳還原氣氛中熱處理,可以達(dá)到凈化晶格,改變晶界相組成、含量及分布的作用,能顯著提高熱導(dǎo)率。(1) 直接氮化法直接氮化法是一種工業(yè)上制備AlN粉末的方法。為了在較低制備成本下提高氮化鋁的產(chǎn)率、降低氮化層對(duì)N2的阻礙,采用粒度較細(xì)且活化度高的鋁粉,且添加合適的添加劑是更為有效地手段。由反應(yīng)式可見(jiàn),此方法需要Al2O3與C的物質(zhì)的量的比為1:3,并且要使Al2O3轉(zhuǎn)化完全,需要碳過(guò)量。在Al2O3碳熱還原法制備AlN 粉體的工藝中,常加入CaO、CaFY2O3等作為催化劑,其中加CaF2可以更有效的降低反應(yīng)活化能,提高反應(yīng)速率。AlN + 3RH (16)式中 R——CH3,C2H5,C4H9。但該方法一方面反應(yīng)過(guò)程較難控制;另外該法所需的氮?dú)鈮毫ζ毡檩^大,甚至當(dāng)?shù)獨(dú)鈮毫_(dá)到180 MPa時(shí)也很難獲得100 %的AlN,所以限制了其發(fā)展。如Masayuki等以碘化鋁和氨氣為原料,在常壓下利用鹵化物 化學(xué)氣相沉積法(AP HCVD)獲得了氮化鋁薄膜。但烷基鋁價(jià)格比較昂貴,限制了其大規(guī)模的工業(yè)應(yīng)用。其中PVA不溶于大多數(shù)有機(jī)溶劑,只溶于熱水中。成型時(shí)漿料從料斗下部流至載帶之上,通過(guò)載帶和括刀的相對(duì)移動(dòng)形成素坯膜。流延法已成為電子工業(yè)用氮化鋁陶瓷基片的主要成形工藝,流延法只適宜成形片狀材料,無(wú)法滿足氮化鋁陶瓷的復(fù)雜形狀成形問(wèn)題,同時(shí)由于陶瓷材料固有的韌性低、性脆且難加工的缺點(diǎn),使得用傳統(tǒng)的機(jī)械加工方法也難以制備復(fù)雜形狀的AN陶瓷零部件,這大大限制了氮化鋁在一些特殊場(chǎng)合的應(yīng)用。以有機(jī)粘結(jié)劑為載體,使得喂料在一定的溫度下具有流動(dòng)性,喂料在注射成形機(jī)上在力和熱的作用下流動(dòng)填充模腔成形,得到注射坯體,隨后經(jīng)過(guò)脫脂和燒結(jié)得到全致密或接近全致密的產(chǎn)品。其次,與其他大多數(shù)氮化物一樣,AlN是高熔點(diǎn)的強(qiáng)共價(jià)鍵化合物,難于燒結(jié)致密,必須加入添加劑并且通常在1850℃以上的高溫進(jìn)行燒結(jié)以獲得高致密度和優(yōu)良性能,因而導(dǎo)致制造成本居高不下。燒結(jié)也可分為燒
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