多弧離子鍍調(diào)查研究報告-wenkub
2023-05-07 23:39:05 本頁面
【正文】 系統(tǒng)、半導(dǎo)體等。 歐瑞康巴爾查斯有限公司公司成立于2003年09月。PLATIT的最大優(yōu)點是開發(fā)納米結(jié)構(gòu)涂層，而且宣傳的非常好，PLATIT的設(shè)備是目前在國內(nèi)銷售的最多的外國涂層設(shè)備。這樣在深度負偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。濺射鍍膜基本原理是充氬氣的真空條件下，使氬氣進行輝光放電，這時氬原子電離成氬離子，氬離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。目錄引言 11 物理氣相沉積技術(shù) 3 3 3 PLATIT涂層設(shè)備公司 3 賽利涂層技術(shù)有限公司 4 歐瑞康巴爾查斯有限公司 4 德國PVT涂層有限公司 4 瑞士Sulzer 4 亞特梯爾鍍層科技有限公司 5 愛恩邦德技術(shù)有限公司 5 豪澤（Hauzer）技術(shù)鍍層公司 5 北京丹普表面技術(shù)有限公司 6 物理氣相沉積技術(shù)總結(jié) 62多弧離子鍍 6 6 7 7 7 83多弧離子鍍技術(shù)制備銀膜 9 9 9 94生產(chǎn)成本分析 9 9 10： 10 10 10 10 11 115多弧離子鍍工藝問題分析和改進方向 11 11 11 靶源電流 11 12 126結(jié)語 131 物理氣相沉積技術(shù)物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition，PVD)技術(shù)是在真空條件下，采用物理方法，將材料源——固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子，并通過低壓氣體（或等離子體）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)。由于多弧離子鍍技術(shù)具有鍍膜速度高，膜層的致密度大，膜的附著力好等特點，使多弧離子鍍鍍層在工具、模具的超硬鍍膜、裝飾鍍膜等領(lǐng)域的應(yīng)用越來越廣泛，并將占據(jù)越來越重要的地位。最早由蘇聯(lián)人開發(fā)，80年代初，美國的MultiArc公司首先把這種技術(shù)實用化，至此離子鍍達到工業(yè)應(yīng)用水平。20世紀90年代初至今，在鐘表行業(yè)，尤其是高檔手表金屬外觀件的表面處理方面得到越來越為廣泛的應(yīng)用。離子鍍技術(shù)是在真空蒸鍍和真空濺射的基礎(chǔ)上于20世紀60年代初發(fā)展起來的新型薄膜制備技術(shù)，于1963年由D．M．Mattox提出，1971年Chamber等發(fā)表了電子束離子鍍技術(shù)，1972年又出現(xiàn)了反應(yīng)蒸發(fā)鍍（ARE）技術(shù)，并制作了TIN及TIC超硬膜。離子鍍種類很多，蒸發(fā)遠加熱方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱、高頻感應(yīng)加熱等 然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區(qū)別。離子鍍技術(shù)是當(dāng)前使用面最為廣泛、最為先進的表面處理技術(shù)之一，而多弧離子鍍更是其中的佼佼者。 物理氣相沉積的主要方法有（1）真空蒸鍍；（2）濺射鍍膜；（3）離子鍍膜。如果采用直流輝光放電，稱直流(Qc)濺射，射頻(RF)輝光放電引起的稱射頻濺射。 PLATIT涂層設(shè)備公司PLATIT公司總部位于瑞士，屬于BCI集團旗下企業(yè)。 賽利涂層技術(shù)有限公司2005年04月，天威賽利成功通過德國T252。 歐瑞康巴爾查斯產(chǎn)品在國市場的占有份額約為15％～20％，這一份額已經(jīng)是國內(nèi)最大的PVD涂層公司，比其它涂層公司要高出很多，目前巴爾查斯在全球市場所占份額約為三分之一。 瑞士Sulzer瑞士Sulzer公司成立于1984年，1987年在德國Bevgisch Gladbach建立獨立的涂層中心，主要以MAXIT耐磨涂層為主。 亞特梯爾鍍層科技有限公司亞特梯爾鍍層科技有限公司是由香港Art Technology Development LTD與英國Teer Coating LTD共同投資組建的外資企業(yè)。 豪澤（Hauzer）技術(shù)鍍層公司豪澤（Hauzer）技術(shù)鍍層公司是PVD技術(shù)的全球供應(yīng)商，該技術(shù)廣泛應(yīng)用于切削刀具、汽車零部件及衛(wèi)浴五金件。Hauzer在汽車發(fā)動機零部件涂層上的市場份額是全球第一的，另外他最突出的涂層技術(shù)是在DLC膜上，這幾年刀具涂層方面的業(yè)務(wù)發(fā)展迅速。 物理氣相沉積技術(shù)總結(jié)磁控濺射技術(shù)和電弧技術(shù)在工具涂層領(lǐng)域各有優(yōu)勢，到目前
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