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正文內(nèi)容

無機(jī)材料物理性能習(xí)題解答關(guān)振鐸-張中太--焦金生版-wenkub

2023-04-19 02:26:13 本頁面
 

【正文】 排除立即恢復(fù)后的應(yīng)變,應(yīng)變的回復(fù)方程就可寫成 110當(dāng)取Tg為參考溫度時(shí)log中的C1=,C2=,求以Tg+50℃為參考溫度時(shí)WLF方程中的常數(shù)C1和C2。103 N/m2,若可用單一Maxwell模型來描述,求其松弛時(shí)間τ值。解:Maxwell模型可以較好地模擬應(yīng)力松弛過程: Voigt模型可以較好地模擬應(yīng)變?nèi)渥冞^程: 以上兩種模型所描述的是最簡單的情況,事實(shí)上由于材料力學(xué)性能的復(fù)雜性,我們會用到用多個(gè)彈簧和多個(gè)黏壺通過串并聯(lián)組合而成的復(fù)雜模型。若該陶瓷含有5 %的氣孔,再估算其上限和下限彈性模量。解:根據(jù)題意可得下表拉伸前后圓桿相關(guān)參數(shù)表體積V/mm3直徑d/mm圓面積S/mm2拉伸前拉伸后 由計(jì)算結(jié)果可知:真應(yīng)力大于名義應(yīng)力,真應(yīng)變小于名義應(yīng)變。12一試樣長40cm,寬10cm,厚1cm,受到應(yīng)力為1000N拉力,109 N/m2,能伸長多少厘米?1cm10cm40cmLoadLoad解: 108 N/m2,,計(jì)算其剪切模量和體積模量。解:令E1=380GPa,E2=84GPa,V1=,V2=。如采用四元件模型來表示線性高聚物的蠕變過程等。解:根據(jù)Maxwell模型有: 可恢復(fù) 不可恢復(fù) 依題意得:所以松弛時(shí)間τ=η/E=105/2104=5(s).19一非晶高聚物的蠕變行為可用一個(gè)Maxwell模型和一個(gè)Voigt模型串聯(lián)描述,若t=104 N/m2至10小時(shí),移去應(yīng)力后的回復(fù)應(yīng)變可描述為,t為小時(shí),請估算該力學(xué)模型的四個(gè)參數(shù)值。 解:FττNτ60176。5102030405060250500950125014701565169070809010012015016601500140013801380(斷)ε屈服點(diǎn)揚(yáng)氏模量,由圖中未達(dá)屈服點(diǎn)時(shí)線段的斜率可求出。解: 115波函數(shù)的幾率流密度,取球面坐標(biāo)時(shí),算符,求定態(tài)波函數(shù)的幾率流密度。彈性模量從60到75Gpa=118 融熔石英玻璃的性能參數(shù)為:E=73 Gpa;γ= J/m2;理論強(qiáng)度σth=28 Gpa。如果E=380 Gpa,μ=,求KIc值,設(shè)極限荷載達(dá)50Kg。討論用此試件來求KIC值的可能性。(3)2 um, 分別求上述三種情況下的臨界應(yīng)力。94= J/22 康寧1723玻璃(硅酸鋁玻璃)具有下列性能參數(shù):λ=(.℃)。=226*==447℃2系統(tǒng)自由能的增加量,又有若在肖特基缺陷中將一個(gè)原子從晶格內(nèi)移到晶體表面的能量求在0℃產(chǎn)生的缺陷比例(即)是多少?25在室溫中kT=,,采用玻爾茲曼統(tǒng)計(jì)分布函數(shù)計(jì)算時(shí),相對于費(fèi)米狄拉克統(tǒng)計(jì)分布函數(shù)計(jì)算的誤差有多少?26 NaCl和KCl具有相同的晶體結(jié)構(gòu),它們在低溫下的Debye溫度θD分別為310K和230K,*102J/(),試計(jì)算NaCl在5K和KCl在2K的定容摩爾熱容。 29 試計(jì)算一條合成剛玉晶體Al2O3棒在1K的熱導(dǎo)率,它的分子量為102,直徑為3mm,聲速500m/s,密度為4000kg/m3,德拜溫度為1000K。(2) 若給定T1=500K,σ1=109(T2=1000K,σ2=106( 計(jì)算電導(dǎo)活化能的值。(4)討論添加Al2O3對NiO電導(dǎo)率的影響。試回答以下問題:(1)設(shè)N=1023cm3,k=”*, Si(Eg=),TiO2(Eg=)在室溫(20℃)和500℃時(shí)所激發(fā)的電子數(shù)(cm3)各是多少:(2)半導(dǎo)體的電導(dǎo)率σ()可表示為式中n為載流子濃度(cm3),e為載流子電荷(*1019C),μ為遷移率()當(dāng)電子(e)和空穴(h)同時(shí)為載流子時(shí),假定Si的遷移率μe=1450(),μh=500(),且不隨溫度變化。49 設(shè)硅中施主雜質(zhì)電離能,施主雜質(zhì)濃度,以施主雜質(zhì)電離90%作為達(dá)到強(qiáng)電離的最低標(biāo)準(zhǔn),試計(jì)算保持飽和雜質(zhì)電離的溫度范圍。解:垂直于板面方向磁化,則為垂直于磁場方向J = μ0M = 1Wb/m2退磁場Hd = NM大薄片材料,退磁因子Na
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