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正文內(nèi)容

專利申請(qǐng)撰寫之背景技術(shù)部分書寫(已修改)

2024-11-09 13:05 本頁(yè)面
 

【正文】 第一篇:專利申請(qǐng)撰寫之背景技術(shù)部分書寫專利申請(qǐng)撰寫之背景技術(shù)部分書寫中國(guó)最高法院司法解釋(法釋〔2009〕21號(hào))第2條規(guī)定,人民法院應(yīng)當(dāng)根據(jù)權(quán)利要求的記載,結(jié)合本領(lǐng)域普通技術(shù)人員閱讀說(shuō)明書及附圖后對(duì)權(quán)利要求的理解,確定權(quán)利要求的內(nèi)容。該規(guī)定明確了權(quán)利要求的折衷解釋的原則。在該原則下,權(quán)利要求解釋的范疇,并不限于解決權(quán)利要求中的術(shù)語(yǔ)不清楚的問(wèn)題,還包括基于說(shuō)明書和附圖等內(nèi)容,將原本含義清楚的術(shù)語(yǔ)所涵蓋的范圍,進(jìn)行擴(kuò)大或縮小的解釋。因此,要達(dá)到既能夠維持專利權(quán)穩(wěn)定,又能夠?yàn)闄?quán)利行使提供一個(gè)較理想的保護(hù)范圍,申請(qǐng)文件的撰寫非常重要。并且,對(duì)于很多發(fā)明,申請(qǐng)人都要在世界各國(guó)申請(qǐng)專利。這樣,申請(qǐng)文件的撰寫,還要考慮各國(guó)的法律要求。實(shí)務(wù)中,對(duì)于權(quán)利要求書、說(shuō)明書的發(fā)明內(nèi)容部分、具體的實(shí)施方式部分等重要部分,撰寫中通常都會(huì)受到足夠的重視。而對(duì)于背景技術(shù)部分的撰寫,其重要性往往容易被忽視。然而,即使是對(duì)于背景技術(shù)部分,撰寫上的不慎,也可能會(huì)給申請(qǐng)人造成難以彌補(bǔ)的損失。本文立足于中國(guó)專利申請(qǐng),結(jié)合其他國(guó)家的專利申請(qǐng)實(shí)踐,對(duì)說(shuō)明書背景技術(shù)部分的撰寫問(wèn)題進(jìn)行簡(jiǎn)要的探討?;谥袊?guó)實(shí)務(wù)的撰寫策略根據(jù)中國(guó)審查指南第二部分第二章第2。2。3節(jié)的規(guī)定,背景技術(shù)部分應(yīng)當(dāng)寫明對(duì)發(fā)明或者實(shí)用新型的理解、檢索、審查有用的背景技術(shù),并且盡可能引證反映這些背景技術(shù)的文件。尤其要引證包含發(fā)明或者實(shí)用新型權(quán)利要求書中的獨(dú)立權(quán)利要求前序部分技術(shù)特征的現(xiàn)有技術(shù)文件。此外,還要客觀地指出背景技術(shù)中存在的問(wèn)題和缺點(diǎn),但是,僅限于涉及由發(fā)明或者實(shí)用新型的技術(shù)方案所解決的問(wèn)題和缺點(diǎn)。在中國(guó)的實(shí)務(wù)中,背景技術(shù)部分的撰寫,主要可以從以下對(duì)幾個(gè)方面產(chǎn)生的影響而進(jìn)行權(quán)衡。(1)對(duì)說(shuō)明書的充分公開的影響發(fā)明通常都是在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上做出的,其中一部分技術(shù)特征屬于已知的技術(shù)特征,一部分特征屬于相對(duì)于已知技術(shù)做出貢獻(xiàn)的技術(shù)特征。對(duì)于已知的技術(shù)特征,說(shuō)明書中往往不作詳細(xì)的描述,甚至在背景技術(shù)部分也絲毫沒有提及。在中國(guó),要考慮避免因?yàn)闆]有對(duì)這種現(xiàn)有技術(shù)特征沒有進(jìn)行描述而導(dǎo)致說(shuō)明書公開不充分的問(wèn)題,特別是對(duì)于化學(xué)領(lǐng)域的發(fā)明,更要特別留意。例如,在化學(xué)領(lǐng)域的制備方法發(fā)明中,使用一種已知的特定氧化物作為催化劑。然而,說(shuō)明書中沒有記載該氧化物的具體結(jié)構(gòu),也沒有記載該氧化物的來(lái)源,這樣就可能會(huì)導(dǎo)致本領(lǐng)域技術(shù)人員不知道使用何種氧化物作為催化劑而無(wú)法實(shí)現(xiàn)發(fā)明。即使申請(qǐng)人在申請(qǐng)日之后詳細(xì)說(shuō)明了該氧化劑的結(jié)構(gòu),并提供證據(jù)證明該氧化劑是已知的催化劑,也可能無(wú)法克服說(shuō)明書公開不充分的問(wèn)題,因?yàn)?,現(xiàn)有技術(shù)中存在很多作為催化劑的氧化物,本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)說(shuō)明書記載的內(nèi)容無(wú)法得知發(fā)明中所使用特定氧化物催化劑為申請(qǐng)人所述的催化劑。對(duì)于這種情況,如果在背景技術(shù)中對(duì)該氧化物催化劑進(jìn)行了說(shuō)明,或者引證了記載該氧化劑催化劑相關(guān)技術(shù)內(nèi)容的文獻(xiàn),并表明發(fā)明是在該技術(shù)內(nèi)容的基礎(chǔ)上改進(jìn)而來(lái)的,則可以避免該公開不充分的問(wèn)題。因此,對(duì)于上述特定氧化物催化劑,雖然該催化劑本身屬于現(xiàn)有技術(shù),但將其用于申請(qǐng)專利的發(fā)明,并不是已知的,最好在發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明部分對(duì)其結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明,或者至少給出其所在文獻(xiàn)出處。(2)對(duì)創(chuàng)造性評(píng)價(jià)的影響對(duì)于某些發(fā)明,其與現(xiàn)有技術(shù)非常接近,僅僅是對(duì)某一細(xì)微技術(shù)內(nèi)容進(jìn)行了改進(jìn)。若審查員檢索到該最接近的現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn),往往會(huì)發(fā)明不具備創(chuàng)造性的問(wèn)題。此時(shí),即便有數(shù)據(jù)表明,發(fā)明相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)在技術(shù)效果上有一定的改善,但也有可能被認(rèn)為不屬于預(yù)料不到的技術(shù)效果而不認(rèn)可創(chuàng)造性。然而,如果在申請(qǐng)文件的背景技術(shù)中對(duì)該現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行了說(shuō)明,并指出其存在的技術(shù)缺陷(包括某方面的技術(shù)效果不夠好)。并在發(fā)明內(nèi)容部分,特別是實(shí)施例部分,對(duì)發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)效果進(jìn)行對(duì)比,從而明確發(fā)明的貢獻(xiàn)所在。這樣,可能會(huì)對(duì)審查員起到先入為主的效果。在審查員沒有檢索到涉及該改進(jìn)內(nèi)容的現(xiàn)有技術(shù)的情況下,有可能就不會(huì)指出發(fā)明不具備創(chuàng)造性的問(wèn)題。(3)對(duì)權(quán)利要求保護(hù)范圍的解釋的影響如上所述,在中國(guó),法院會(huì)根據(jù)權(quán)利要求的記載,結(jié)合本領(lǐng)域普通技術(shù)人員閱讀說(shuō)明書及附圖后對(duì)權(quán)利要求的理解,確定權(quán)利要求的內(nèi)容。因此,要特別注意防止說(shuō)明書中記載的內(nèi)容,對(duì)權(quán)利要求的保護(hù)范圍產(chǎn)生不恰當(dāng)?shù)南拗谱饔?。例如,在說(shuō)明書的背景技術(shù)部分,指出了由于現(xiàn)有技術(shù)中使用了技術(shù)特征a,使得現(xiàn)有技術(shù)在某方面的效果上不夠好,而申請(qǐng)專利的發(fā)明采用了技術(shù)特征a’,結(jié)果在該技術(shù)效果上有了改進(jìn)。這樣,如權(quán)利要求中限定了技術(shù)特征a’,則申請(qǐng)人就很難主張技術(shù)特征a屬于技術(shù)特征a’的等同特征,而將包括技術(shù)特征a的發(fā)明也納入權(quán)利要求的保護(hù)范圍。綜上所述,對(duì)于背景技術(shù)部分,具有應(yīng)當(dāng)如何撰寫,也要因個(gè)案而定,而不能千篇一律。對(duì)于創(chuàng)造性相對(duì)較高的發(fā)明,可以考慮不對(duì)現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行過(guò)多的闡述,以免由此導(dǎo)致某些技術(shù)內(nèi)容無(wú)法納入專利的保護(hù)范圍。如果審查員對(duì)背景技術(shù)的內(nèi)容給出了審查意見,則根據(jù)需要進(jìn)行爭(zhēng)辯或修改即可,在中國(guó),基本上不會(huì)因?yàn)楸尘凹夹g(shù)中沒有記載相關(guān)現(xiàn)有技術(shù)的內(nèi)容而導(dǎo)致無(wú)法授權(quán)的后果。不過(guò),此時(shí),應(yīng)當(dāng)注意,在發(fā)明內(nèi)容部分,特別是發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明部分,要對(duì)發(fā)明進(jìn)行充分的說(shuō)明,以滿足充分公開的要求。對(duì)于發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)非常接近,創(chuàng)造性相對(duì)較低的發(fā)明,可以考慮在背景技術(shù)中對(duì)該最接近的現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行說(shuō)明,并將發(fā)明與該現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)效果進(jìn)行對(duì)比,以充分體現(xiàn)發(fā)明的貢獻(xiàn)所在,有利于主張發(fā)明的創(chuàng)造性。另外,在中國(guó),根據(jù)審查指南第二部分第二章第2。2。3節(jié)的規(guī)定,關(guān)于引證文件,應(yīng)當(dāng)注意,當(dāng)所引證的非專利文件和外國(guó)專利文件的公開日在本申請(qǐng)的申請(qǐng)日之前,所引證的中國(guó)專利文件的公開日不晚于本申請(qǐng)的公開日時(shí),才可以認(rèn)為本申請(qǐng)說(shuō)明書中記載
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