原子分子光譜-第七次(已修改)
2025-08-28 02:19 本頁面
【正文】 1 原子分子光譜 郭福明 原子與分子物理研究所 ,13514412463 2 儲(chǔ)存環(huán)示意圖 插入件：產(chǎn)生各類 不同特征的同步輻射 同步加速腔：加速 電子，并補(bǔ)充同步 輻射損失的能量 真空室：減少因殘留氣體 碰撞而損失光束線能量 四極磁鐵：以透鏡 機(jī)制聚焦光束線 彎轉(zhuǎn)磁鐵 ： 使束流軌 道轉(zhuǎn)彎，產(chǎn)生同步輻射 同步輻射 回顧 3 回顧 4 1. 輻射光的波長連續(xù)可調(diào)、 范圍寬 ； 2. 亮度高 ； 3. 準(zhǔn)直性好； 4. 單色性好 ； 5. 偏振光； 6. 有特定的時(shí)間結(jié)構(gòu)； 7. 穩(wěn)定。 同步輻射特性： 回顧 5 入射狹縫 準(zhǔn)直鏡 物鏡 棱鏡 焦面 出射狹縫 f 分光系統(tǒng) 將由不同波長的 “ 復(fù)合光 ” 分開為一系列 “ 單一 ” 波長的 “ 單色光 ” 的器件。 1. 棱鏡： 棱鏡分光系統(tǒng)使輻射沿焦面呈非線性色散，短波的色散大于長波。 回顧 6 一 . 衍射光柵 1). 光柵 反射光柵 透射光柵 透光寬度 不透光寬度 2) . 光柵常數(shù) d bad ?? ab— 大量等寬等間距的平行狹縫 (或反射面 )構(gòu)成的光學(xué)元件 光柵寬度為 l ， 每毫米縫數(shù)為 m ，則 總縫數(shù) lmN ?? 7 光柵制作： 以特殊的工具 （ 如鉆石 ） ， 在硬質(zhì) 、 磨光的光 學(xué)平面上刻出大量 緊密而平行的刻槽 。 以此為 母板 ， 可用液態(tài)樹脂在其上復(fù)制出光柵 。 制作 的光柵有 平面透射光柵 、 平面反射光柵 及 凹面 反射光柵 。 通常的刻線數(shù)為 3002022刻槽 /mm。 最常用的是 12001400刻槽 /mm（ 紫外可見 ） 及 100200刻 槽 /mm（ 紅外 ） 。 8 x2sdP1soaad 3? f3). 光柵衍射的基本特點(diǎn) 屏上的強(qiáng)度為單縫衍射和縫間干涉的共同結(jié)果。 ?以二縫光柵為例 x結(jié)論 ： 1? 0 1 k1 0II2? 2只考慮單縫衍射強(qiáng)度分布 只考慮雙縫干涉強(qiáng)度分布 雙縫光柵強(qiáng)度分布 1? 0 1 k1 0II3? 0 3 k6? 60II19 sin?d二 . 多縫干涉 1). 五 縫干涉例子 ?? kd ??s in? 主極大角位置條件 ??,2,1,0?kk 稱為 主極大級(jí)數(shù) π2s i nπ2 kdδ ?? ? ??A???? AA ?? ??5??? IAI ??? 22 5相鄰兩縫在 P點(diǎn) 引起 的光振動(dòng)相位差為 ? 主極大強(qiáng)度 為主極條件下單縫在 P 點(diǎn)引起光振動(dòng)矢量的振幅 Pba??Lfo??A?10 對(duì) N 縫干涉兩主極大間有 N 1個(gè) 極小， N 2 個(gè)次極大。 1??m 0?m 1?m081I? I1??m 0?m 1?m04I? I2?N5?N9?N衍射屏上總能量 NE ?主極大的強(qiáng)度 2NI ?由能量守恒，主極大的寬度 N1?隨著 N 的增大，主極大變得更為尖銳 ，且主極大間為暗背景
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