【正文】 重大關鍵核心技術研發(fā)項目資金申請報告項目名稱 高端微納光刻裝備研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化 項目承擔單位 蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司 項目負責人 陳林森 聯(lián)系電話 051262868882826 項目主持部門 江蘇省發(fā)展和改革委員會 申報日期 2015年3月11日 江蘇省推進戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展工作領導小組辦公室二○一五年一月目錄一、項目的背景和必要性 3（一） 國內(nèi)外現(xiàn)狀： 3（二）技術發(fā)展趨勢： 5（三）擬解決的關鍵技術和問題： 6（四）對產(chǎn)業(yè)發(fā)展的作用與影響： 7（五）市場分析： 8二、項目法人基本情況 9三、項目的技術基礎 13（一）成果來源及知識產(chǎn)權情況 13（二）產(chǎn)學研合作情況 15（三）已完成的研究開發(fā)工作及中試情況和鑒定年限 17（四）技術或工藝特點以及與現(xiàn)有技術或工藝比較所具有的優(yōu)勢 22（五）重大關鍵技術突破對行業(yè)技術進步的重要意義和作用 24四、項目建設方案 26（一）建設的主要內(nèi)容、建設規(guī)模 26（二）工藝技術路線與技術工藝特點 27（三）設備選型及主要技術經(jīng)濟指標 28（四）產(chǎn)品市場預測 30（五）建設地點、建設周期和進度安排、建設期管理等 32五、項目投資 34（一）項目總投資規(guī)模、資金來源、投資使用方案 34（二）資金籌措方案 35六、項目財務分析、經(jīng)濟分析及主要指標 36（一）財務分析 36（二）風險分析 38（三）經(jīng)濟效益分析 39（四）社會效益分析 39八、資金申請報告附件 41本項目符合《江蘇省“十二五”培育和發(fā)展戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)規(guī)劃》中產(chǎn)業(yè)發(fā)展重點：（七）高端裝備制造產(chǎn)業(yè) 智能制造裝備，同時也是（二）新材料產(chǎn)業(yè)中的上游核心設備，負責工藝流程中前端制程，具有關鍵支撐作用。一、項目的背景和必要性國內(nèi)外現(xiàn)狀和技術發(fā)展趨勢，擬解決的關鍵技術和問題，對產(chǎn)業(yè)發(fā)展的作用與影響，市場分析。（一） 國內(nèi)外現(xiàn)狀：高端微納光刻裝備是開展微納新材料、半導體、MEMS、生物芯片、精密電路、平板顯示、固態(tài)照明等領域技術研發(fā)和產(chǎn)品生產(chǎn)的必要設備。目前，一場新型柔性功能材料的革命性改變正在發(fā)生：超薄柔性材料的功能化，成為推動行業(yè)發(fā)展的革命性力量，使得精密加工制造技術向微米納米結構和智能制造發(fā)展。隨著移動互聯(lián)的高速發(fā)展，便攜、可穿戴光電子器件需要進一步解決節(jié)能、低成本問題。柔性電子制造領域國家計劃與政府投入：美國FDCASU計劃、在2012年美國“總統(tǒng)報告”中將柔性電子制造作為先進制造11個優(yōu)先發(fā)展的尖端領域、2012年NASA制定柔性電子戰(zhàn)略、2014年成了柔性混合電子器件制造創(chuàng)新中心；歐盟（第7研究框架、地平線計劃）的印刷技術在柔性塑料基底上進行制備、英國（“拋石機”計劃、建設英國的未來計劃）將塑料電子作為制造業(yè)主要發(fā)展領域；德國投資數(shù)十億歐元建立柔性顯示生產(chǎn)線；韓國《韓國綠色IT國家戰(zhàn)略》2010年投資720億美金發(fā)展AMOLED；日本TRADIM計劃在2011年成立先進印刷電子技術研發(fā)聯(lián)盟；我國電子信息制造業(yè)“十二五”發(fā)展規(guī)劃，新型顯示器件、太陽能光伏等作為發(fā)展重點方向，國家自然科學基金12135規(guī)劃中將柔性電子作為微納制造重要研究領域。柔性光電功能材料具有數(shù)以千億計的潛在市場需求。在下一代裸眼3D顯示、大尺寸柔性觸控屏、OLED照明的納米襯底、可穿戴電子器件，具有微米級線寬納米結構，現(xiàn)有的光刻設備達不到這種精度加工的要求。微納光刻裝備是高端技術密集型微納產(chǎn)業(yè)中的核心設備，負責工藝流程中前端制程。這些產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，離不開微納光刻裝備。高端微納光刻設備，對于科學研究中的工藝試驗研究、新品研發(fā)、產(chǎn)品生產(chǎn)，實現(xiàn)跨越發(fā)展都具有重大意義。目前高端微納光刻裝備領域的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化工作開展較好的公司在國外，如德國Heidelberg Instruments、瑞典Micronic、以色列Orbotech、美國Applied Material，能夠?qū)κ袌鲂枨蠛驮O備研發(fā)制造形成良性的循環(huán)，另外，韓國、日本等一些研發(fā)型公司也在進行該項工作的推進。我國科研院所在微納光刻領域的研究，主要模式是采購國外科研型設備，進行工藝和器件的開發(fā)，對高端裝備技術的研究開展較少。國內(nèi)產(chǎn)業(yè)環(huán)境的發(fā)展，產(chǎn)品創(chuàng)新對高端微納直寫光刻與加工裝備具有大量需求；與國外企業(yè)相比，在技術溝通、服務響應能力方面具有優(yōu)勢；國內(nèi)還缺乏“微納級別”的高端智能激光直寫光刻裝備的研發(fā)與制造企業(yè)，蘇大維格公司通過國家863計劃的重點項目的資助，掌握了微納直寫裝備的核心技術，擁有人才團隊，依托于國家發(fā)改委批準的“國家地方聯(lián)合工程研究中心”，公司在高端微納智能裝備的研發(fā)具有，同時公司也是創(chuàng)業(yè)板上市公司在產(chǎn)業(yè)化上也有優(yōu)勢。值得一提的是，本公司（蘇大維格）在國家863計劃和江蘇省攀登計劃支持下，在高端微納光刻設備的研發(fā)上卓有成效，積累了若干光機電關鍵技術，激光智能SLM干涉直寫儀器等設備填補行業(yè)空白，在100nm特征尺寸的直寫系統(tǒng)上，研發(fā)成功HoloScanV、HoloMakerIII和iGrapher200等系列化的儀器設備，具有行業(yè)領先水平，在國內(nèi)著名高等研究院所應用，并出口日本、以色列等國。獲2011年國家科技進步二等獎，省科技進步一等獎。（二）技術發(fā)展趨勢：微納米技術產(chǎn)業(yè)作為先導性領域，對我國新興產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新發(fā)展中具有不可或缺的先導作用，高端微納光刻裝備是進行微納技術的科學研究、新器件、新功能材料的研發(fā)與應用的核心儀器，具有關鍵支撐作用。舉例說明，“光電轉(zhuǎn)換效率提升”是新型光電器件（LED，太陽能、新型照明、低耗能材料）研究的核心問題，除了材料自身的光電特性之外，微納結構分布與高效制備是推進高性能器件研制的重要方向，例如，在LED領域，納米圖形化技術是提升器件發(fā)光效率的重要途徑，目標達到每瓦150流明以上，納圖形理論和實驗研究是重點領域；薄膜太陽能電池的效率提升需納米陷光結構襯底的制備；在平板立體顯示領域，納米線柵結構、3D位相延遲片偏振片、濾光片是提升顯示光能利用率的重要研究方向；在光電子、微機電系統(tǒng)器件等科學研究領域，需要有高分辨、高效、3D曝光的多功能圖形化手段和檢測儀器，尤其在大尺寸納米結構器件的無損檢測是急需解決的重大問題；在國防領域，超大幅面光柵的研制，需要有更好的檢測儀器。在納米印刷研究和開發(fā)領域，高端圖形化與檢測是提供無油墨納米色彩圖像品質(zhì)的必由之路。因此，該類型的高端微納圖形化儀器設備的研制，可打破國外技術壟斷，具有重大戰(zhàn)略意義。微納圖形直寫與檢測儀器設備的研制，對于科學研究中的工藝試驗研究、新品研發(fā)中的圖形快速制備與檢測，實現(xiàn)跨越發(fā)展具有重大意義。（三）擬解決的關鍵技術和問題：1. 紫外大視場平場成像光學系統(tǒng)研制：光學系統(tǒng)是微納光刻裝備的基礎性關鍵部件，對裝備的總體性能具有重要影響。針對各種不同影響，設備的光學系統(tǒng)將做相應的設計和研制。本公司在紫外位相空間混合調(diào)制的微納光學系統(tǒng)具有自主知識產(chǎn)權，是高效微納米圖形光刻的有效解決手段。2. 自動化多軸控制技術：基于可編程多軸控制器的自動化控制技術，是精密光刻設備運行的關鍵技術。通過編寫程序?qū)崿F(xiàn)設備光、機、電的協(xié)調(diào)運行，實現(xiàn)設備的預期功能?？刂萍夹g包含了同步曝光技術、數(shù)據(jù)分割和上載技術、圖像處理技術、高速多軸平臺閉環(huán)控制技術等。本公司在基于PMAC、ACS等的控制器的控制技術有了長期研發(fā)基礎，研發(fā)了飛行曝光技術、Z校正自動聚焦技術、積分曝光技術等，為設備功能多樣化開發(fā)積累了經(jīng)驗。3. 微納數(shù)據(jù)處理技術：大幅面微納結構圖形的數(shù)據(jù)是海量的，例如，1000mm1000mm圖形的數(shù)據(jù)量將達到16TB。微納結構數(shù)據(jù)，采用具有行業(yè)共性的GDSII、DXF、GERBER、CIF等格式。數(shù)據(jù)處理技術，流程是：數(shù)據(jù)格式轉(zhuǎn)換數(shù)據(jù)圖形化圖形數(shù)據(jù)切割和組合。光刻是數(shù)據(jù)分批分隊列上載到光刻設備，通過控制軟件將圖形光刻輸出。4. 工藝開發(fā)和優(yōu)化：針對具體應用方向，需要對光刻工藝進行探索和研究，通過測試和分析結果，對工藝的控制參數(shù)、部件參數(shù)進行優(yōu)化，最終滿足應用需求。（四）對產(chǎn)業(yè)發(fā)展的作用與影響： “十二五”期間，國家和江蘇省鼓勵新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展，江蘇省及蘇州地方將納米技術產(chǎn)業(yè)作為主導發(fā)展產(chǎn)業(yè)，迫切需要研究并解決產(chǎn)業(yè)發(fā)展中缺乏上游微納制造技術的共性問題。2014年，國家發(fā)展改革委深入貫徹落實創(chuàng)新驅(qū)動戰(zhàn)略，以加快經(jīng)濟結構戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型為主攻方向，以改革創(chuàng)新促發(fā)展，切實推動高技術產(chǎn)業(yè)和戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)平穩(wěn)健康發(fā)展。其中的一個重點就是深入推進新型平板顯示、高性能醫(yī)學診療設備等重大創(chuàng)新發(fā)展工程建設，擴大節(jié)能環(huán)保、信息惠民、衛(wèi)星導航、智能制造等領域的示范應用，重點突破深刻影響產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關鍵核心技術，推動傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)改造升級，加快