薄膜物理與技術(shù)ppt課件(已修改)
2025-05-15 06:00 本頁面
【正文】 薄膜的性質(zhì) 薄膜的性質(zhì) 進入 20世紀以來 ． 薄膜技術(shù)無論在學術(shù)上還是在實際應用中都取得了豐碩的成果 。 其中特別應該指出的是下述三個方面 。 第一是以防反射膜 、 干涉濾波器等為代表的光學薄膜的研究開發(fā)及其應用 。 這種薄膜在學術(shù)上有重要意義 ， 同時 ， 具有十分廣泛的實用性 ， 對此人們寄予了很大的希望 。 第二是在集成電路 （ IC、 LSI） 等電子工業(yè)中的應用 。一個顯著成果是外延薄膜生長 。 特別是隨著電路的小型化 ，薄膜實際的體積接近于零這一特點就顯得更加重要了 。 薄膜的性質(zhì) 第三是對材料科學的貢獻 。 薄膜技術(shù)本身屬于非平衡過程 ， 與通常的材料的熱平衡制備法相比 ， 薄膜材料的非平衡特征非常明顯 。 雖然這種非平衡過程也有缺點 ，但可以制備普通相圖中不存在的物質(zhì) 。 這些都是很突出的優(yōu)點 。 在研究物性時 ， 發(fā)現(xiàn)物體的大小會對物性產(chǎn)生影響 。這種效應稱為尺寸效應 。 在粉末 、 微粒子等狀態(tài)中也發(fā)現(xiàn)有這種效應 。 薄膜的性質(zhì) ★ 熔點降低 ★ 干涉效應 ★ 表面散射 ★ 平面磁化各向異性 ★ 表面能級 ★ 量子尺寸效應 對于薄膜來說 ． 在厚度這一特定方向上 ， 尺寸很小 ，而且在厚度方向上由于表面 、 界面的存在 ， 使物質(zhì)的連續(xù)性發(fā)生中斷 ， 由此對薄膜性質(zhì)產(chǎn)生各種各樣的影響 。 薄膜的性質(zhì) —— 熔點降低 ★ 熔點降低 在此考慮半徑為 的固體球 。 考慮此球與其外側(cè)相 （ 液體 ） 的界面能 ， 求塊體 (buk)材料熔點 和小球熔點 之間的關(guān)系 。 rmT sT設(shè)：固 液相間的界面能為 固體的熔解熱為 熔解過程中熵的變化 固體的密度為 ?LS??薄膜的性質(zhì) —— 熔點降低 當質(zhì)量為 的物質(zhì)熔化變?yōu)橐后w ． 球的表面積產(chǎn)生的 變化 ， 其熱力學平衡關(guān)系式如下： dWdA0sL dW T Sd W dA?? ? ? ? 對于體材料： 0mL dW T Sd W? ? ? 將
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