集成電路工藝課程設(shè)計(jì)報(bào)告--d觸發(fā)器工藝設(shè)計(jì)(已修改)
2025-01-31 00:36 本頁面
【正文】 許妙佳 異步八進(jìn)制加法計(jì)數(shù)器 11180033深圳職業(yè)技術(shù)學(xué)院Shenzhen Polytechnic《集成電路工藝基礎(chǔ)》課程設(shè)計(jì)報(bào)告 課 題： D觸發(fā)器工藝設(shè)計(jì) 學(xué) 院： 電子與通信工程學(xué)院 班 級(jí)： 11微電子1班 組 員： 學(xué) 號(hào)： 指導(dǎo)老師： 2013年6月 24日 課程設(shè)計(jì) D觸發(fā)器工藝流程目錄緒論 1第一章 N阱硅柵CMOS電路 2 N阱硅柵CMOS電路 2第二章 D觸發(fā)器原理圖設(shè)計(jì) 3 D觸發(fā)器原理圖設(shè)計(jì) 3 3 3第三章 D觸發(fā)器版圖設(shè)計(jì) 5 版圖設(shè)計(jì)規(guī)則 5 D觸發(fā)器版圖設(shè)計(jì) 6第四章 工藝流程 7 N阱CMOS工藝流程 7第五章 制備掩膜版 13 集成電路對(duì)掩膜版的要求 13 掩膜版版圖 13總結(jié) 18參考文獻(xiàn) 18緒論當(dāng)前，我國(guó)集成電路行業(yè)正處于發(fā)展的黃金時(shí)期，集成電路的設(shè)計(jì)、制造和封裝測(cè)試都面臨極大的發(fā)展機(jī)遇。以后，集成電路器件的特征尺寸將從目前的深亞微米進(jìn)入納米量級(jí)，并且有可能將一個(gè)子系統(tǒng)乃至整個(gè)系統(tǒng)集成在一個(gè)芯片上。今天，版圖設(shè)計(jì)是在一個(gè)不斷變化的環(huán)境中進(jìn)行的。軟件工具和設(shè)計(jì)方法，計(jì)算機(jī)平臺(tái)，工具廠商、客戶，正在實(shí)現(xiàn)的應(yīng)用，以及我們所面對(duì)的市場(chǎng)壓力，所有這一切都在逐年變化著。所有這一切變化已使該行業(yè)成為一個(gè)另人感興趣的行業(yè)，但不應(yīng)該忘記的是，在制作優(yōu)質(zhì)版圖后面的基本概念是基于物理特性和電學(xué)特性的，這是永遠(yuǎn)不會(huì)改變的。 通過集成電路版圖設(shè)計(jì)，按照版圖設(shè)計(jì)的圖形加工成光刻掩膜，可以將立體的電路系統(tǒng)轉(zhuǎn)變?yōu)槠矫鎴D形，再經(jīng)過工藝制造還原成為硅片上的立體結(jié)構(gòu)。 第一章 N阱硅柵CMOS電路 N阱硅柵CMOS電路CMOS工藝是在NMOS和PMOS工藝基礎(chǔ)上發(fā)展起來的。COMS中的C表示“互補(bǔ)”，即將NMOS器件和PMOS器件同時(shí)制作在同一硅襯底上，制作CMOS集成電路。CMOS集成電路具有功耗低、速度快、抗干擾
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