vd鍍金基礎(chǔ)知識(shí)ppt課件(已修改)
2025-01-29 15:26 本頁(yè)面
【正文】 PVD鍍金基礎(chǔ)知識(shí) 內(nèi)容大綱 ? 一、物體表面鍍膜方法分類(lèi) ? 二、同濕式鍍膜相比，干式鍍膜的特點(diǎn) ? 三、真空鍍膜與 PVD ? 四、 PVD鍍金工藝流程 ? 五、 PVD鍍金產(chǎn)品外觀檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn) 一、物體表面鍍膜方法分類(lèi) 電鍍法 原理 ：通電，使電解液電解，被電解的離子膜鍍到作為電解液另一個(gè)電極的基體表面上。 缺點(diǎn) ：基體必須是電的良導(dǎo)體、膜層厚度難以控制，且生產(chǎn)過(guò)程會(huì)產(chǎn)生大量廢液造成環(huán)境污染。 化學(xué)鍍膜法 原理 ：采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液并能迅速的參加還原反應(yīng)。 缺點(diǎn) ：這種鍍膜方法不但膜的牢固性差，而且膜厚既不均勻又不易控制，同時(shí)還產(chǎn)出大量化學(xué)廢液造成了嚴(yán)重的環(huán)境污染。 真空鍍膜方法 原理 ：在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)（或?yàn)R射），使其在被涂覆的物體（稱(chēng)為基板、基塊或基
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