頭部斷層解剖ppt課件(已修改)
2025-01-17 09:30 本頁面
【正文】 頭部斷層解剖 （一） 一、 頭部斷層常用基線 ?Reid基線 Reid’s base line， RBL ?眥耳線 canthomeatal line， CML ?眶耳線 orbitomeatal line， OML ?上眶耳線 supraorbitomeatal line ， SML ?連合間線 intermissural line， ACPC線 Reid基線 （ RBL）：為眶下緣至外耳道中點的連線，為頭部斷層標本制作的常用基線。 外耳道 眶上緣 眶下緣 ? 上眶耳線 （ SML ） ：為眶上緣至外耳道中點的連線，通過該線的斷層面約與顱底平面一致。 外眥 眥耳線 （ CML）或眶耳線（ OML）：為外眥與外耳道中點的連線，為頭部橫斷層掃描的常用基線。 上眶耳線 SML 眥耳線 CML Reid基線 RBL 頭部斷層常用基線 連合間線 ?連合間線 （ intermissural line）：前連合（ anterior missure ,AC）后緣與后連合 posterior missure,PC）前緣中點的連線，又稱 ACPC線。 用于人腦立體位斷層解剖研究與腦立體定向手術。 前連合 后連合 以眥耳線為基線的連續(xù)橫斷層 連續(xù)冠、矢狀斷層 以 Reid 基線的選擇性橫斷層 二、腦和腦室的斷層面解剖 腦的位置與分部 端腦 小腦 小腦 腦干 端腦 間腦 中 腦 腦 橋 延髓 腦的位置與分部 端腦 小腦 端 腦 中腦 腦橋 （一）端腦的外形和分葉 1.大腦半球的主要腦溝和分葉 Central sulcus 中央溝 Lateral cerebral sulcus 外側溝 Parietoo
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