[精選]集成電路工藝原理-資料下載頁

【總結(jié)】集成電路工藝原理第七章離子注入原理(上)1集成電路工藝原理集成電路工藝原理第七章離子注入原理(上)2大綱第一章前言第二章晶體生長(zhǎng)第三章實(shí)驗(yàn)室凈化及硅片清洗第四章光刻第五章熱氧化第六章

2025-01-08 13:40

[精選]集成電路制備工藝-資料下載頁

【總結(jié)】集成電路Contentsv集成電路的定義v集成電路的分類v集成電路的工藝微電子技術(shù)課程ppt微電子技術(shù)課程ppt集成電路定義v集成電路（integrated?circuit）是一種微型電子器件或部件。采用一定的工藝，把一個(gè)電路中所需的晶體管、二極管、電阻、電容和電感等元件及布線互連

2025-01-08 12:24

[精選]集成電路器件工藝-資料下載頁

【總結(jié)】1第四章集成電路器件工藝雙極型集成電路的基本制造工藝MESFET和HEMT工藝MOS工藝和相關(guān)的VLSI工藝BiCMOS工藝2第四章集成電路器件工藝表3圖幾種IC工藝速度功耗區(qū)位圖4雙極型集成電路的基本制造工藝MESFET和HEMT工藝MOS工藝和相關(guān)的V

2025-01-06 18:35

集成電路封裝工藝-資料下載頁

【總結(jié)】畢業(yè)設(shè)計(jì)（論文）專業(yè)班次姓名指導(dǎo)老師成都信息工程學(xué)院二零零九年六月成都信息工程學(xué)院光電學(xué)院畢業(yè)論文設(shè)計(jì)設(shè)計(jì)2集成電路封裝工藝

2024-11-01 13:42

[精選]第1章集成電路制造工藝-資料下載頁

【總結(jié)】國(guó)際微電子中心集成電路設(shè)計(jì)原理第一章集成電路制造工藝集成電路（IntegratedCircuit）制造工藝是集成電路實(shí)現(xiàn)的手段，也是集成電路設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)。2/1/2023韓良1國(guó)際微電子中心集成電路設(shè)計(jì)原理?隨著集成電路發(fā)展的過程，其發(fā)展的總趨勢(shì)是革新工

2025-02-15 05:39

[精選]集成電路的基本制造工藝教材-資料下載頁

【總結(jié)】半導(dǎo)體半導(dǎo)體集成電路集成電路2.雙極集成電路中元件結(jié)構(gòu)雙極集成電路中元件結(jié)構(gòu)2023/1/28pn+n-epin+P-Sin+-BLCBESP+P+雙極集成電路的基本工藝雙極集成電路的基本工藝2023/1/28P-SiTepiCBEpn+n-epin+P-SiP+P+Sn+-BLTepiA

2025-01-06 18:37

[精選]集成電路制造工藝及常用設(shè)備-資料下載頁

【總結(jié)】1.高溫氧化工藝硅的熱氧化硅的熱氧化是指在高溫下，硅片表面同氧氣或水進(jìn)行反應(yīng)，生成SiO2。硅的熱氧化有：干氧、濕氧、水汽氧化三種。如果氧化前已存在厚度為t0的氧化層，則（3-11）微分方程的解為：（tOX：是總的氧化層厚度）??????tBAttOXOX2

2025-01-06 18:43

[精選]集成電路的制造工藝流程-資料下載頁

【總結(jié)】半導(dǎo)體制造工藝流程半導(dǎo)體相關(guān)知識(shí)?本征材料：純硅9-10個(gè)9?N型硅：摻入V族元素磷P、砷As、銻Sb?P型硅：摻入III族元素—鎵Ga、硼B(yǎng)?PN結(jié)：NP------+++++半導(dǎo)體元件制造過程可分為

2025-01-06 18:46

微電子概論—大規(guī)模集成電路基礎(chǔ)-資料下載頁

【總結(jié)】微電子學(xué)概論第三章大規(guī)模集成電路基礎(chǔ)(FundamentalsofLargeScaleIntergratedCircuit)?導(dǎo)論?半導(dǎo)體集成電路概述?CMOS集成電路基礎(chǔ)?半導(dǎo)體存儲(chǔ)器集成電路參考書第三章大規(guī)模集成電路基礎(chǔ)

2025-07-20 05:00

[精選]集成電路制造工藝之光刻與刻蝕工藝-資料下載頁

【總結(jié)】第八章光刻與刻蝕工藝光刻是集成電路工藝中的關(guān)鍵性技術(shù)。在硅片表面涂上光刻膠薄層，經(jīng)過光照、顯影，在光刻膠上留下掩模版的圖形。在集成電路制造中，利用光刻膠圖形作為保護(hù)膜，對(duì)選定區(qū)域進(jìn)行刻蝕，或進(jìn)行離子注入，形成器件和電路結(jié)構(gòu)。隨著集成電路的集成度不斷提高，器件的特征尺寸不斷減小，期望進(jìn)一步縮小光刻圖形的尺寸。

2025-01-08 14:36

集成電路基本工藝ppt課件-資料下載頁

【總結(jié)】集成電路設(shè)計(jì)基礎(chǔ)第三章集成電路制造工藝華南理工大學(xué)電子與信息學(xué)院廣州集成電路設(shè)計(jì)中心殷瑞祥教授第3章IC制造工藝外延生長(zhǎng)掩膜制作光刻原理與流程氧化淀積與刻蝕摻雜原理與工藝2關(guān)心每一步工藝對(duì)器件性

2025-05-04 18:03

集成電路光刻工藝ppt課件-資料下載頁

【總結(jié)】1第六章光刻工藝§1基本概念2一、光刻的定義：光刻是一種圖形復(fù)印和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的精密表面加工技術(shù)。二、光刻的目的：光刻的目的就是在二氧化硅或金屬薄膜上面刻蝕出與掩膜版完全對(duì)應(yīng)的幾何圖形，從而實(shí)現(xiàn)選擇性擴(kuò)散和金屬薄膜布線的目的。3三、工藝流程：以負(fù)膠為例來說明這八個(gè)步驟，一般可分為

2025-05-07 07:17

[精選]集成電路工藝課件-資料下載頁

【總結(jié)】1集成電路工藝信息學(xué)院電子科學(xué)與技術(shù)2?參考書：?.Chang,.Sze,“ULSITechnology”?王陽元等,“集成電路工藝原理”?M.Quirk,J.Serda,“半導(dǎo)體制造技術(shù)”?成績(jī)計(jì)算：?平時(shí)成績(jī)（出勤、作業(yè)、小測(cè)驗(yàn)）20％＋期終考試

2025-01-08 13:07

[精選]集成電路基本工藝-資料下載頁

【總結(jié)】2023/1/281第3章IC制造工藝外延生長(zhǎng)掩膜制作光刻原理與流程氧化淀積與刻蝕摻雜原理與工藝?關(guān)心每一步工藝對(duì)器件性能的影響，讀懂PDK，挖掘工藝潛力。2023/1/282外延生長(zhǎng)(Epitaxy)外延生長(zhǎng)的目的n半導(dǎo)體工藝流程中的基

2025-01-08 12:24

集成電路工藝原理相關(guān)試題-資料下載頁

【總結(jié)】集成電路工藝原理相關(guān)試題-----------------------作者：-----------------------日期：一、填空題（30分=1分*30）10題/章晶圓制備1．用來做芯片的高純硅被稱為（半導(dǎo)體級(jí)硅），英文簡(jiǎn)稱（GSG），有時(shí)也被稱為（電子級(jí)硅）。2．單晶硅生長(zhǎng)常用（

2025-03-26 05:15

微電子學(xué)概論ch4集成電路制造工藝雙極集成電路工藝-文庫吧在線文庫

微電子學(xué)概論ch4集成電路制造工藝雙極集成電路工藝(完整版)

微電子學(xué)概論ch4集成電路制造工藝雙極集成電路工藝(更新版)

微電子學(xué)概論ch4集成電路制造工藝雙極集成電路工藝(專業(yè)版)

微電子學(xué)概論ch4集成電路制造工藝雙極集成電路工藝(留存版)