【總結(jié)】金屬-氧化物-半導(dǎo)體(MOS)場效應(yīng)管結(jié)型場效應(yīng)管(JFET)*砷化鎵金屬-半導(dǎo)體場效應(yīng)管各種放大器件電路性能比較MOSFET放大電路P溝道耗盡型P溝道P溝道N溝道增強型N溝道N溝道(耗盡型)FET場效應(yīng)管JFET結(jié)型MOSFET絕緣柵型(IGFET)場效應(yīng)管的分類:(電場效應(yīng),單
2025-02-21 10:49
【總結(jié)】2022/2/61《集成電路設(shè)計概述》2022/2/62目的?認識集成電路的發(fā)展歷史、現(xiàn)狀和未來?了解集成電路設(shè)計工藝?熟悉集成電路設(shè)計工具?培養(yǎng)集成電路設(shè)計興趣2022/2/63主要內(nèi)容集成電路的發(fā)展集成電路的分類
2025-01-09 14:11
【總結(jié)】CMOS集成電路設(shè)計基礎(chǔ)-數(shù)字集成電路基礎(chǔ)對邏輯門的基本要求1)魯棒性(用靜態(tài)或穩(wěn)態(tài)行為來表示)靜態(tài)特性常常用電壓傳輸特性(VTC)來表示即輸出與輸入的關(guān)系),傳輸特性上具有一些重要的特征點。邏輯門的功能會因制造過程的差異而偏離設(shè)計的期望值。(2)噪聲容限:芯片內(nèi)外的噪聲會使電路的響應(yīng)偏離設(shè)計的期望值(電感、電容耦合,電源
2025-01-09 01:07
【總結(jié)】55/55PLD設(shè)計問答1.?答:SCF文件是MAXPLUSII的仿真文件,可以在MP2中新建.1.用Altera_Cpld作了一個186(主CPU)控制sdram的控制接口,發(fā)現(xiàn)問題:要使得sdram讀寫正確,必須把186(主CPU)的clk送給sdram,而不能把clk經(jīng)cpld的延時送給sdram.兩者相差僅僅4ns.而時序通過邏輯分析儀
2025-07-09 12:48
【總結(jié)】第四章第四章集成電路設(shè)計第四章集成電路是由元、器件組成。元、器件分為兩大類:無源元件電阻、電容、電感、互連線、傳輸線等有源器件各類晶體管集成電路中的無源源件占的面積一般都比有源器件大。所以設(shè)計時盡可能少用無源元件,尤其是電容
2025-05-04 18:03
【總結(jié)】集成電路設(shè)計基礎(chǔ)實驗報告專業(yè):電子信息工程班級:姓名:學(xué)號:電子與信息工程學(xué)院實驗一Tanner軟件的安裝和使用一、實驗?zāi)康?.掌握Tanner的安裝過程。2.了解Tanne
2025-03-23 12:40
2024-07-24 18:10
【總結(jié)】Chapter51第5章模擬集成電路及應(yīng)用Chapter52主要內(nèi)容?集成運算放大器簡介?集成運算放大器的線性應(yīng)用?集成運算放大器的非線性應(yīng)用Chapter53集成電路:采用半導(dǎo)體制造工藝,在一小塊硅單晶片上制作的具有特定功能的電子線路。★集成電路的基本概念分類:模擬集成電路與數(shù)字集成電路。
2025-01-19 12:01
【總結(jié)】CMOS集成電路設(shè)計基礎(chǔ)-MOS器件MOS器件多晶硅GSD氧化層LeffLdrawnN+N+P型襯底LDWNMOS管的簡化結(jié)構(gòu)制作在P型襯底上(P-Substrate,也稱bulk或body,為了區(qū)別于源極S,襯底以B來表示),兩個重摻雜N區(qū)形成源區(qū)和漏區(qū),
2025-01-12 16:50
【總結(jié)】集成電路設(shè)計基礎(chǔ)莫冰華僑大學(xué)電子工程系廈門市專用集成電路系統(tǒng)重點實驗室第四章集成電路器件工藝雙極型集成電路的基本制造工藝MESFET和HEMT工藝MOS工藝和相關(guān)的VLSI工藝BiCMOS工藝第四章集成電路器件工藝IC材料、工藝、器件和電路材料工藝器件
2025-01-07 01:54
【總結(jié)】2022/2/41第二章IC制造材料結(jié)構(gòu)與理論了解集成電路材料半導(dǎo)體基礎(chǔ)知識PN結(jié)與結(jié)型二極管雙極型晶體管基本結(jié)構(gòu)與工作原理MOS晶體管基本結(jié)構(gòu)與工作原理2022/2/42表集成電路制造所應(yīng)用到的材料分類
【總結(jié)】電子科學(xué)與工程學(xué)院南京郵電大學(xué)2022-6-121第1章集成電路設(shè)計導(dǎo)論1、微電子(集成電路)技術(shù)概述2、集成電路設(shè)計步驟及方法電子科學(xué)與工程學(xué)院南京郵電大學(xué)2022-6-122?“自底向上”(Bottom-up)“自底向上”的設(shè)計路線,即自工藝開始,先進行單元設(shè)計,在精心設(shè)計
2025-04-29 03:20
【總結(jié)】華?僑?大?學(xué)?專?用?集?成?電?路?系?統(tǒng)?實?驗?室?IC設(shè)計基礎(chǔ)EDAC華僑大學(xué)電子工程電系2022年華?僑?大?學(xué)?專?用?集?成?電?路?系?統(tǒng)?實?驗?室?2022/2/42第3章IC制造工藝
2025-01-08 15:42
【總結(jié)】《集成電路設(shè)計基礎(chǔ)》山東大學(xué)信息學(xué)院劉志軍BCEP+P+PMOSN+PN阱N阱縱向NPN-SUBP+N+N+NMOS-P-epiN+N+-BLN+-BL2022/2/13《集成電路設(shè)
2025-01-17 09:42
【總結(jié)】集成電路設(shè)計基礎(chǔ)莫冰華僑大學(xué)電子工程系廈門市專用集成電路系統(tǒng)重點實驗室第五章MOS場效應(yīng)管的特性MOS場效應(yīng)管MOS管的閾值電壓體效應(yīng)MOSFET的溫度特性MOSFET的噪聲MOSFET尺寸按比例縮小MOS器件的二階效應(yīng)MOS場效應(yīng)管
2025-01-07 01:55