光學(xué)薄膜的市場調(diào)研報告-(已修改)
2025-04-06 02:55 本頁面
【正文】 光學(xué)薄膜的市場調(diào)研報告 1光學(xué)薄膜的制備技術(shù)（PVD）1）熱蒸發(fā)光學(xué)薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造，此方法簡單、經(jīng)濟、操作方便。盡管光學(xué)薄膜制備技術(shù)得到長足發(fā)展，但是真空熱蒸發(fā)依然是最主要的沉積手段，當(dāng)然熱蒸發(fā)技術(shù)本身也隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展與時俱進。2）濺射濺射指用高速正離子轟擊膜料（靶）表面，通過動量傳遞，使其分子或原子獲得足夠的動能面從靶表而逸出（濺射），在被鍍件表面凝聚成膜。其膜層附著力強，純度高，可同時濺射多種不同成分的合金膜或化合物。3）離子鍍離子鍍兼有熱蒸發(fā)的高成膜速率和濺射高能離子轟擊獲得致密膜層的雙優(yōu)效果，離子鍍膜層附著力強、致密，離子鍍常見類型：蒸發(fā)源和離化方式。4）離子輔助鍍在熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中增設(shè)離子發(fā)生器――離子源，產(chǎn)生離子束，在熱蒸發(fā)進行的同時，用離子束轟擊正在生長的膜層，形成致密均勻結(jié)構(gòu)（聚集密度接近于1），使膜層的穩(wěn)定性提光學(xué)薄膜制備技術(shù)高，達到改善膜層光學(xué)和機械性能。離子輔助鍍技術(shù)與離子鍍技術(shù)相比，薄膜的光學(xué)性能更佳，膜層的吸收
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