薄膜材料與薄膜技術(shù)復(fù)習(xí)資料-文庫(kù)吧
2025-07-21 15:59 本頁(yè)面
【正文】 射法 、掃描電子顯微鏡分析法 和 俄歇電子能譜法 。19. 紅外吸收是由引起偶極矩變化的分子振動(dòng)產(chǎn)生的，而拉曼散射則是由引起極化率 變化的分子振動(dòng)產(chǎn)生的。由于作用的方式不同，對(duì)于具有對(duì)稱中心的分子振動(dòng)， 紅外吸收 不敏感，拉曼散射 敏感；相反，對(duì)于具有反對(duì)稱中心的分子振動(dòng)，紅外吸收 敏感而 拉曼散射 不敏感。對(duì)于對(duì)稱性高的分子振動(dòng)，拉曼散射 敏感。20. 拉曼光譜 和 紅外吸收光譜 是測(cè)量薄膜樣品中分子振動(dòng)的振動(dòng)譜，前者是 散射 光譜，而后者是 吸收 光譜。21. 表征濺射特性的主要參數(shù)有 濺射閾值 、 濺射產(chǎn)額 、濺射粒子的速度和能量等。 什么叫真空？寫出真空區(qū)域的劃分及對(duì)應(yīng)的真空度。真空，一種不存在任何物質(zhì)的空間狀態(tài)，是一種物理現(xiàn)象?！〈终婵?105～102Pa 粘滯流，分子間碰撞為主 低真空 102～101 Pa 過渡流 高真空 102～101 Pa分子流，氣體分子與器壁碰撞為主 超高真空 105～108 Pa氣體在固體表面吸附滯留為主 極高真空 108 Pa以下 什么是真空蒸發(fā)鍍膜法？其基本過程有哪些？真空蒸發(fā)鍍膜是在真空中通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，由三個(gè)步驟組成：蒸發(fā)源材料由凝聚相轉(zhuǎn)變成氣相，在蒸發(fā)源與基片之間蒸發(fā)粒子的運(yùn)輸，蒸發(fā)粒子到達(dá)基片后凝結(jié)、成核、長(zhǎng)大、成膜。 什么是濺射鍍膜？列舉常見的濺射鍍膜的類型（至少三種）。用帶電粒子轟擊靶材，加速的離子轟擊固體表面時(shí)，發(fā)生表面原子碰撞并發(fā)生能量和動(dòng)量的轉(zhuǎn)移，使靶材原子從表面逸出并淀積在襯底材料上的過程。輝光放電直流濺射、三級(jí)濺射、射頻濺射 簡(jiǎn)述正常輝光放電和異常輝光放電的特征。在正常輝光放電時(shí)，放電僅僅覆蓋陰極的一部分表面，隨著放電電流變化，覆蓋面也變化，但兩極間電壓不隨電流變化。在異常輝光放電時(shí)，放電已經(jīng)覆蓋陰極表面的全部，電流變化會(huì)導(dǎo)致電流密度變化，必須有比最合適條件高的放電電壓。 磁控濺射為什么具有“低溫”、“高速”兩大特點(diǎn)？磁控濺射是以磁場(chǎng)來(lái)改變電子的運(yùn)動(dòng)方向并束縛和延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)軌跡從而提高電子對(duì)工作氣體的電離幾率和有效的利用了電子的能量。因此是正離子對(duì)
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