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正文內(nèi)容

改良西門子法生產(chǎn)多晶硅工藝流程-文庫吧

2024-10-19 00:15 本頁面


【正文】 帶走熱量維持爐壁的溫度。 出合成爐頂部挾帶有硅粉的合成氣,經(jīng)三級旋風除塵器組成的干法除塵系統(tǒng)除去部分硅粉后,送入濕法除塵系統(tǒng),被四氯化硅液體洗滌,氣體中的部分細小硅塵被洗下;洗滌同時 ,通入濕氫氣與氣體接觸,氣體所含部分金屬氧化物發(fā)生水解而被除去。除去了硅粉而被凈化的混合氣體送往合成氣干法分離工序。 4. 合成氣干法分離工序 從三氯氫硅氫合成工序來的合成氣在此工序被分離成氯硅烷液體、氫氣和氯化氫氣體,分別循環(huán)回裝置使用。 三氯氫硅合成氣流經(jīng)混合氣緩沖罐,然后進入噴淋洗滌塔,被塔頂流下的低溫氯硅烷液體洗滌。氣體中的大部份氯硅烷被冷凝并混入洗滌液中。出塔底的氯硅烷用泵增壓,大部分 經(jīng)冷凍降溫后循環(huán)回塔頂用于氣體的洗滌,多余部份的氯硅烷送入氯化氫解析塔。 出噴淋洗滌塔塔頂除去了大部分氯硅烷的氣體,用混合氣壓縮機壓縮并經(jīng)冷凍降溫后,送入氯化氫吸收塔,被從氯化氫解析塔底部送來的經(jīng)冷凍降溫的氯硅烷液體洗滌,氣體中絕 大部分的氯化氫被氯硅烷吸收,氣體中殘留的大部分氯硅烷也被洗滌冷凝下來。出塔頂?shù)臍怏w為含有微量氯化氫和氯硅烷的氫氣,經(jīng)一組變溫變壓吸附器進一步除去氯化氫和氯硅烷后,得到高純度的氫氣。氫氣流經(jīng)氫氣緩沖罐,然后返回氯化氫合成工序參與合成氯化氫的反應。吸附器再生廢氣含有氫氣、氯化氫和氯硅烷,送往廢氣處理工序進行處理。 出氯化氫吸收塔底溶解有氯化氫氣體的氯硅烷經(jīng)加熱后,與從噴淋洗滌塔底來的多余的氯硅烷匯合,然后送入氯化氫解析塔中部,通過減壓蒸餾操作,在塔頂?shù)玫教峒兊穆然瘹錃?體。出塔氯化氫氣體流經(jīng)氯化氫緩沖罐,然后送至設置于三氯氫硅合成工序的循環(huán)氯化氫緩沖罐;塔底除去了氯化氫而得到再生的氯硅烷液體,大部分經(jīng)冷卻、冷凍降溫后,送回氯化氫吸收塔用作吸收劑,多余的氯硅烷液體(即從三氯氫硅合成氣中分離出的氯硅烷)經(jīng)冷卻后送往氯硅烷貯存工序的原料氯硅烷貯槽。 5. 氯硅烷分離提純工序 在三氯氫硅合成工序生成,經(jīng)合成氣干法分離工序分離出來的氯硅烷液體送入氯硅烷貯存工序的原料氯硅烷貯槽;在三氯氫硅還原工序生成,經(jīng)還原尾氣干法分離工序分離出來的 氯硅烷液體送入氯硅烷貯存工序的還原氯硅烷貯槽;在四氯化硅氫化工序生成,經(jīng)氫化氣干法分離工序分離出來的氯硅烷液體送入氯硅烷貯存工序的氫化氯硅烷貯槽。原料氯硅烷液體、還原氯硅烷液體和氫化氯硅烷液體分別用泵抽出,送入氯硅烷分離提純工序的不同精餾塔中。 6. 三氯氫硅氫還原工序 經(jīng)氯硅烷分離提純工序精制的三氯氫硅,送入本工序的三氯氫硅汽化器,被熱水加熱汽化;從還原尾氣干法分離工序返回的循環(huán)氫氣流經(jīng)氫
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