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正文內(nèi)容

專利技術(shù)交底書通用模版-文庫吧

2025-06-10 02:57 本頁面


【正文】 有技術(shù)(背景技術(shù))背景技術(shù):【用于方便讀者理解本發(fā)明的技術(shù)背景,背景技術(shù)是對最接近的現(xiàn)有技術(shù)的說明,它是做出本申請技術(shù)方案的基礎(chǔ)(背景技術(shù)是指對發(fā)明的理解、檢索、審查有用的現(xiàn)有技術(shù),可以引證反映這些背景技術(shù)的文件,引證文獻(xiàn)、資料的,應(yīng)寫明其出處)】 【要對最接近本申請的同類已有技術(shù)狀況加以分析說明,必要時(shí)借助附圖加以說明,具體內(nèi)容可包括:其構(gòu)造,各部件間的位置和連接關(guān)系,信號(hào)傳遞關(guān)系等】【根據(jù)與本發(fā)明最接近的實(shí)現(xiàn)技術(shù)方案內(nèi)容客觀地指出背景技術(shù)中存在的問題和缺點(diǎn),兩者對應(yīng),不涉及現(xiàn)有技術(shù)其它的缺點(diǎn)(例如:現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)可以是成本高,效率底,耗時(shí)間等類似問題,同時(shí)闡述闡述這些缺點(diǎn)的原因在哪里)】四、發(fā)明內(nèi)容: 發(fā)明目的【發(fā)明
點(diǎn)擊復(fù)制文檔內(nèi)容
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