《離子注入》ppt課件 (2)-文庫吧
2025-04-19 08:07 本頁面
【正文】 了注入離子在無定形靶中的濃度分布為高斯分布其方程為 其中 φ為注入劑量 χ為離樣品表面的深度 Rp為平均投影射程 △ Rp為投影射程的平均標準偏差 ? 離子注入的濃度分布曲線 ? 離子注入濃度分布的最大濃度 Nmax 從上式可知， 注入離子的劑量 φ越大，濃度峰值越高 從濃度分布圖看出， 最大濃度位置在樣品內的平均投 影射程處 ? 離子注入結深 Xj m a xj p pB2 l nNx R RN??? ? ? ????其中 NB為襯底濃度 ? RP和△ RP的計算很復雜，有表可以查用 入射能量 （ KEV） 注入的離子 20 40 60 80 100 120 140 160 180 B RP 662 1302 1903 2465 2994 3496 3974 4432 4872 ?RP 283 443 556 641 710 766 813 854 890 P RP 253 486 730 891 1238 1497 1757 2022 2279 ?RP 119 212 298 380 456 528 595 659 719 As RP 159 269 374 478 582 686 791 898 1005 ?RP 59 99 136 172 207 241 275 308 341 （一）各種離子在 Si中的 Rp和△ Rp 值 (197。) （二）各種離子在 光刻膠 中的 Rp和△ Rp 值 (197。) 入射能量 （ KEV） 注入的離子 20 40 60 80 100 120 140 160 180 B RP 2267 4587 6736 8721 10569 12305 13947 15511 17007 ?RP 475 763 955 1095 1202 1288 1359 1420 1472 P RP 866 1654 2474 3320 4182 5053 5927 6803 7675 ?RP 198 353 499 636 765 886 999 1104 1203 As RP 673 1129 1553 1966 2375 2783 3192 3602 4015 ?RP 126 207 286 349 415 480 543 606 667 （三）各種離子在 SiO2中的 Rp和△ Rp 值 (197。) 入射能量 （ KEV） 注入的離子 20 40
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鄂ICP備17016276號-1