醫(yī)學(xué)]斷層解剖學(xué)課件1斷層--頭部-文庫吧
2025-12-06 06:41 本頁面
【正文】 窗位和窗寬 空間分辨力 是指鑒別結(jié)構(gòu)大小的能力，常用像素大小來說明。 密度分辨力 （又稱對(duì)比度分辨力），是指能夠區(qū)分出密度微小差別的能力。以百分率表示。 窗寬 是指 CT圖像上顯示的 CT值范圍， CT值高于或低于此范圍的結(jié)構(gòu)均分別以白影或黑影顯示。窗位 是窗寬的中心值，通常欲觀察某一組織結(jié)構(gòu)及發(fā)生的病變，應(yīng)以該組織的 CT值為窗位。 第一章 頭部斷層解剖 第一節(jié) 概述 一、境界與分區(qū) 二、標(biāo)志性結(jié)構(gòu) ：恰對(duì)大腦額葉下緣。 ：眉弓上方 5cm處的最突出部位，正對(duì)額中回。 ：耳廓尖上方 5cm處，其下 2cm處對(duì)應(yīng)大腦外側(cè)溝后支末端。 ：頭后方正中處，內(nèi)面正對(duì)竇匯。 ：枕外窿凸兩側(cè)，平對(duì)橫竇。 1. 上眶耳線 (supraobitomeatal line,SML):眶上緣至外耳道中點(diǎn)的連線。經(jīng)該線平面約與顱底平面一致，有利于顯示顱后窩結(jié)構(gòu)及減少顱骨偽影。 2. Reid基線 （ Reid’s base line,RBL）： 下眶耳線 ，為眶下緣至外耳道中點(diǎn)的連線。頭部橫斷層標(biāo)本的制作多以此線為準(zhǔn)。冠狀斷層標(biāo)本制作常以該線的垂線為基線。 RBL 與 SML 成角為 176。 177。 176。 三、頭部斷層解剖常用的基線 外眥與外耳道中點(diǎn)的連線。 顱腦橫斷層掃描（ MRI、 CT ）多以此為基線。 實(shí)際工作中，依檢查目的的不同使掃描平面與 CML向上或向下成 020186。角。 3. 眥耳線 (Canthomeatal line, CML) 或 稱眶耳線 （ Orbitomeatal line,OML） 又稱 ACPC線 為前連合后緣中點(diǎn)至后連合前緣中點(diǎn)的連線。 腦立體定位斷層解剖 研究多以此為基線。如腦立體定位手術(shù)、 X刀、 γ 刀治療多以此線為準(zhǔn)。 4. 連合間線（ intermissural line）： 5. 冠狀斷層常用基線 經(jīng)外耳門中點(diǎn)向眥耳線所作的垂線即為 冠狀斷層常用基線。但腦的立體定位術(shù)和腦的冠狀斷層解剖學(xué)研究多采用經(jīng)AC— PC連線中點(diǎn)所作的垂線為冠狀斷層基線。 6. 矢狀斷層常用基線 顱的正中矢狀面即為 矢狀斷層基線。 端腦的主體結(jié)構(gòu) 大腦皮質(zhì) 髓質(zhì) 基底核 側(cè)腦室 第二節(jié) 大腦溝、回 的應(yīng)用解剖 大腦縱裂 外側(cè)溝 中央溝 頂枕溝 恒定的溝 大腦縱裂 頂枕溝 中央溝 外側(cè)溝 分葉 額葉 頂葉 顳葉 枕葉島葉 一、大腦半球上外側(cè)面的溝和回 額葉 中央前溝 ,額上溝 ,額下溝 。中央前回 ,額上、中、下回 頂葉 中央后溝 、中央后回；頂內(nèi)溝 、頂
教學(xué)課件相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號(hào)-1