【正文】 作用 —— 表面電鍍最終鍍層，具有一定的穩(wěn)定性。產(chǎn)品制造基礎(chǔ)電鍍工藝控制電鍍主要工藝參數(shù) : 1）缸液溫度 2）電鍍時(shí)間 3）波美度 4） PH值 產(chǎn)品制造基礎(chǔ) 其它表面處理技術(shù) 化學(xué)鍍 電刷鍍 熱噴涂產(chǎn)品制造基礎(chǔ) 化學(xué)鍍 依賴電解液中的還原劑將被鍍金屬離子在自催化表面還原為金屬原子并形成鍍層的過(guò)程叫化學(xué)鍍。 化學(xué)鍍不使用電源，以還原劑與被鍍金屬離子的電位差為動(dòng)力，為了得到致密的鍍層，使用絡(luò)合劑阻滯還原過(guò)程，并形成一定程度的極化，同時(shí)也為了控制反應(yīng)速度。 化學(xué)不存在分散能力的問(wèn)題，也不存在邊角效應(yīng)等電鍍中常出現(xiàn)的問(wèn)題，只要能與溶液接觸，就可獲得質(zhì)量一致的鍍層。 化學(xué)鍍?nèi)芤褐械倪€原劑與被鍍金屬離子需不斷補(bǔ)充。目前工業(yè)應(yīng)用常選用次磷酸鈉。216?；瘜W(xué)鍍鎳化學(xué)鍍鎳產(chǎn)品制造基礎(chǔ)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)216。酸性堿性酸性堿性產(chǎn)品制造基礎(chǔ)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)化學(xué)鍍鎳液的配方組成 目前應(yīng)用廣泛的化學(xué)鍍鎳溶液，大致可分為酸性鍍液及堿性鍍液兩種。產(chǎn)品制造基礎(chǔ)1．主鹽 化學(xué)鍍鎳液的主鹽是提供金屬鎳離子的可溶性鎳鹽，在化學(xué)還原反應(yīng)中是氧化劑的角色，可供采用的有硫酸鎳、氯化鎳、醋酸鎳、氨基磺酸鎳、次磷酸鎳等。 有足夠的主鹽，可以維持比較高的沉積速度．保證鎳離子的充分補(bǔ)給，但也不能太多，大約在鎳含量 6g/L10g/L(HiSO4而且主鹽與絡(luò)合劑、主鹽與還厚劑的比例都有一個(gè)合理范圍。6H2O與NaH2PO2產(chǎn)品制造基礎(chǔ)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)2．還原劑 化學(xué)鍍鎳中，多數(shù)使用次磷酸鈉做為還原劑。一般次磷酸鈉的含量為 20g/L～ 40g/L產(chǎn)品制造基礎(chǔ)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)3 絡(luò)合劑 為了使鍍液穩(wěn)定及獲得性能良好的化學(xué)鍍鎳層，必須選擇適當(dāng)?shù)慕j(luò)合劑及確定合理的用量范圍。 一般的配方組成中除了有一個(gè)主絡(luò)合劑之外，還配以其他的輔助絡(luò)合劑。產(chǎn)品制造基礎(chǔ)圖 21－ 8 不同絡(luò)合劑對(duì)沉積速度的影響NiCl2H2O 10g/L乳酸羥基乙酸甘氨酸琥珀酸水楊酸鄰苯二酸產(chǎn)品制造基礎(chǔ) 合理地選擇絡(luò)合劑及絡(luò)合劑用量可以在同樣條件下，下得到更高的鍍層沉積速度。 隨著化學(xué)鍍鎳液工作時(shí)間的延長(zhǎng)，還原劑的分解產(chǎn)物亞磷酸根不斷累積，很容易產(chǎn)生亞磷酸鎳的白色沉淀(NiHPO3 絡(luò)合劑可以抑制亞磷酸鎳的沉淀，提高鍍液對(duì)亞磷酸根的容忍量。一般弱酸及弱酸鹽或多元弱酸都可能形成一個(gè)理沖體系。因而必須加入穩(wěn)定劑。 穩(wěn)定劑可以在一定程度上阻止鍍液自發(fā)分解的發(fā)生。如果穩(wěn)定劑過(guò)量，則會(huì)成為鍍液的毒化劑，使鍍液不能起鍍。L 沉 積 速度μm /hPbCl2試驗(yàn)時(shí)間/s空白Pb2+KIO3順 丁 烯 二酸反丁 烯 二酸012010010016816131563288無(wú)限160143產(chǎn)品制造基礎(chǔ)6．促進(jìn)劑 在化學(xué)鍍鎳液中能提高鎳沉積速度的成分稱為促進(jìn)劑。有些有機(jī)酸是很好的絡(luò)合劑，同時(shí)也是化學(xué)鍍液的促進(jìn)劑，其促進(jìn)作用如表 21—9 所示。光亮劑有鄰甲苯磺酰胺，苯二磺酸鈉，奈磺酸鈉，糖精，鎘鹽等。產(chǎn)品制造基礎(chǔ)化學(xué)鍍鎳的典型工藝產(chǎn)品制造基礎(chǔ)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)工藝參數(shù)控制的影響1） PH值產(chǎn)品制造基礎(chǔ)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)2）溫度的影響 化學(xué)鍍鎳反應(yīng)須超過(guò)一定的溫度才能啟動(dòng)．溫度越高，沉積速度越快 (見(jiàn)圖 21—11) ，但為避免溫度過(guò)引起鍍液的自發(fā)分解，任何化學(xué)鍍鎳的工作溫度都必須限制在一個(gè)合理的范圍之內(nèi)。對(duì)鍍層含磷量特殊要求的更加需要注意對(duì)溫度的控制。首先攪拌可以提高均勻性，防止漏鍍，其次攪拌有利于消除針孔麻點(diǎn)。產(chǎn)品制造基礎(chǔ) 電刷鍍與電鍍的區(qū)別： 電刷鍍所用的溶液中含有欲鍍的金屬離子，并且比電鍍過(guò)程中溶液中的金屬離子的濃度要高得多。應(yīng)用： 主要用于機(jī)械設(shè)備的維修，如滾動(dòng)軸承和軸頸的修理，孔類零件的修理，平面、鍵槽的修理等。產(chǎn)品制造基礎(chǔ) 熱噴涂將金屬或非金屬材料加熱至熔化或半熔軟化狀態(tài)后 ,高速噴射到工件表面上 ,形成牢固涂層的工藝方法稱為熱噴涂（ TiC）?？蛇m用各種材料的噴涂216。涂層厚度可控216。被噴零件所受熱影響小熱噴涂的特點(diǎn)產(chǎn)品制造基礎(chǔ)熱噴涂的分類按熱源分類主要有：252。 中心火焰最高可達(dá) 3000℃252。 適用于熔點(diǎn)低于 2500℃ 材料252。電弧噴涂產(chǎn)品制造基礎(chǔ)電弧噴涂特點(diǎn)：252。 霧化顆粒速度可達(dá) 180—335m/s252。 設(shè)備投資低產(chǎn)品制造基礎(chǔ)252。 等離子體溫度可達(dá) 10000℃ 以上252。 適用于各種材料252。激光噴涂產(chǎn)品制造基礎(chǔ)涂層的形成產(chǎn)品制造基礎(chǔ)涂層斷面 SEM照片 產(chǎn)品制造基礎(chǔ)涂層與基底的結(jié)合252。 冶金 化學(xué)結(jié)合：擴(kuò)散、合金化、微焊252。 涂層殘余應(yīng)力涂層與基底結(jié)合力的檢測(cè)252。 彎曲法252。 剪切法涂層的質(zhì)量產(chǎn)品制造基礎(chǔ)p基底處理216。 基底表面氧化膜去處216。 噴砂 252。 化學(xué)腐蝕 252。 表面預(yù)熱處理 (200300℃)216。 輸入功率：根據(jù)粉末種類、送粉量、噴槍效率等確定216。 噴涂距離與噴涂角： 75130mm 900最佳216。 細(xì)長(zhǎng)薄壁零件緩冷216。 涂層封孔處理（孔隙率 18%）：重熔、封孔劑等離子噴涂工藝產(chǎn)品制造基礎(chǔ)缸體熱噴涂產(chǎn)品制造基礎(chǔ)南京理工大學(xué)Thank You!