負(fù)折射率介質(zhì)ppt課件-閱讀頁
2025-05-18 18:20本頁面
【正文】 因． r??? ,1??rn ??2?rn ??2理論解釋 在一般條件下有 。式中 E、 H分別為電場強(qiáng)度、磁場強(qiáng)度；如果，我們 μ0,ε0,就得到負(fù)的和，亦即負(fù)電磁能量。然而，在 20世紀(jì) 90年代，英國倫敦帝國理工學(xué)院的彼德利認(rèn)為建造折射率為負(fù)值的人造材料是可能的。這些材料不像任何常規(guī)的物質(zhì)，因此他們的名字叫作“ 超穎物質(zhì) ” 。然后，多林在這樣金屬三明治上蝕刻上一群方孔，以創(chuàng)造出一種類似于金屬絲網(wǎng)的柵格。前者只能工作在微波波段，而后者的工作波段可延伸到可見光和紅外區(qū)域。 負(fù)折射效應(yīng)可以說是非均勻媒質(zhì)對電磁波的復(fù)雜集體響應(yīng)行為的等效表觀現(xiàn)象 。 步進(jìn) )，這時(shí)試驗(yàn)人員就可以對 RHM， LHM分別測量其接收電平與角度 ()的關(guān)系，并作比較．下圖左是取頻率f=10． 5GHz時(shí)接收電平與折射角的關(guān)系，為了方便，把兩種樣品的峰值電平都?xì)w一化為 1。 處，對應(yīng) n＝1． 40． 1。 處，對應(yīng) n＝－ 2． 7 0． 1．可見，在 LHM情況下、折射角與 BHM相差 88176。 上圖是折射率與頻率的關(guān)系 (藍(lán)實(shí)線為Tenflon，黑實(shí)線為 LHM)．當(dāng) f＝ 10． 2—10， 8GHz時(shí)， LHM處在負(fù)折射率頻區(qū)，且高度色散性．總之， Veselago在 32年前的預(yù)測得到了證明． 返回 隱身技術(shù) 要實(shí)現(xiàn)材料的隱身，最關(guān)鍵的技術(shù)就是制造出能扭曲可見光波的材料，只要制造出性能合適的材料，實(shí)用的 “ 隱身衣 ” 完全可能在近期問世，因此，能使光波 “ 彎曲 ” 的負(fù)折射率材料在實(shí)驗(yàn)上的成功合成，為可見光的區(qū)的隱身技術(shù)提供了關(guān)鍵性的基礎(chǔ)。當(dāng)光從具有正折射率的材料（常規(guī)材料）入射到具有正折射率材料的界面時(shí)，入射光線和折射光線分別位于法線兩側(cè)，這是我們所熟知的結(jié)果。 光學(xué)器件上的應(yīng)用 負(fù)折射介質(zhì)的一個(gè)重要應(yīng)用是透鏡成像。而且， 所成的像可在近場區(qū)域之外，像距隨物距的增大而線性增大 ，這些特征和一個(gè)理想的折射率為 1的介質(zhì)平板的折射和成像行為十分吻合，充分表明了所制備的準(zhǔn)晶光子結(jié)構(gòu)具有優(yōu)良的負(fù)折射性質(zhì)。這將在 核磁共振成像、光存儲和超大規(guī)模集成電路中的光刻技術(shù) 等諸多方面得到應(yīng)用。我們知道， 用常規(guī)材料制作眼鏡，為了進(jìn)行不失真的成像，眼鏡片必須做成弧線形狀，而負(fù)折射率材料由于對光線的偏折方向相反，所以可以做成平面鏡片，不失真并且保持超高的分辨率。未來，負(fù)折射率材料將會在無線通信的發(fā)展中起到不可忽略的作用。雖然現(xiàn)在已有很多關(guān)于負(fù)折射率的研究，但是從各方面的反映來看，研究成果論點(diǎn)不一，爭議較大。
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