工程復(fù)合材料-在線瀏覽
2025-02-02 15:39本頁(yè)面
【正文】 102～ 105） Pa。 蒸發(fā)溫度 ? 蒸發(fā)溫度是如何影響到蒸鍍過(guò)程的？ ? 加熱溫度 的高低直接影響到鍍膜材料的蒸發(fā)速率和蒸發(fā)方式。 ? 蒸發(fā)溫度一般為將鍍料加熱到使其平衡蒸氣壓達(dá)到幾 Pa時(shí)的溫度。 ? 常用材料 ：鎢、鉬、鉭 ? 加熱方式 ：利用大電流通過(guò)時(shí)產(chǎn)生的焦耳熱直接加熱鍍膜材料使其蒸發(fā)，可用于蒸發(fā)溫度小于 1500℃ 的許多金屬和一些化合物。蒸發(fā)源與鍍料相互接觸，易對(duì)鍍料造成污染或與其反應(yīng)，且無(wú)法進(jìn)行高熔點(diǎn)材料的蒸發(fā)鍍膜。 優(yōu)點(diǎn)：有利于蒸發(fā)高熔點(diǎn)金屬和化合物材料；熔池用水冷卻，鍍膜材料與熔池不會(huì)發(fā)生污染和反應(yīng)； 缺點(diǎn)：電子束轟擊會(huì)造成化合物部分分解，影響薄膜結(jié)構(gòu)和性能；電子束蒸發(fā)源體積大，價(jià)格高 激光蒸發(fā)源 ? 與電子束蒸發(fā)源加熱原理相同 ? 性能優(yōu)于電子束蒸發(fā)源 ? 價(jià)格昂貴 三、合金與化合物的蒸鍍 ? 合金蒸鍍 ? 分餾現(xiàn)象：合金中的各組分在同樣的溫度下有不同的蒸氣壓，組成合金后，在同樣溫度下合金液中各組分的蒸氣壓差異仍然存在，產(chǎn)生分餾現(xiàn)象。 ? 解決方法：控制蒸發(fā)源溫度和向反應(yīng)室內(nèi)加熱反應(yīng)氣體以補(bǔ)充氣體組分的損失。 例如用作電極的導(dǎo)電膜 ， 光學(xué)鏡頭用的增透膜等 。 濺射鍍膜 ? 概念：帶有幾十電子伏以上動(dòng)能的荷能粒子轟擊固體材料時(shí)，材料表面的原子或分子會(huì)獲得足夠的能量而脫離固體的束縛逸出到氣相中，這一現(xiàn)象稱為濺射。 一、濺射鍍膜的原理 ? 濺射現(xiàn)象 ? 濺射原理： ? 濺射完全是動(dòng)能的交換過(guò)程，是發(fā)生了級(jí)聯(lián)碰撞的結(jié)果。 ? 影響濺射速率的因素： ? （ 1）入射離子能量和種類 ? （ 2）靶材 ? （ 3）離子的入射角及靶材溫度等 ? 濺射原子的能量：熱蒸發(fā)原子 101ev，濺射原子能量（ 110） ev。 ? 缺點(diǎn)：沉積速率低，只能濺射金屬等導(dǎo)電材料。但對(duì)薄膜成分影響不大 ? 反應(yīng)濺射：化合物靶材濺射時(shí)，部分化合物分子的化學(xué)鍵被擊斷后部分逃逸，造成薄膜成分與靶材化合物成分有一定偏離。 離子鍍膜 ? 概念：離子鍍膜簡(jiǎn)稱離子鍍，是在真空條件下利用氣體放電，使被氣化的物質(zhì)部分離子化，并在這些荷能粒子轟擊基體表面的同時(shí)沉積于其上并形成薄膜的一種氣相
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