水污染控制工程實(shí)驗(yàn)-在線(xiàn)瀏覽
2024-08-29 21:06本頁(yè)面
【正文】 理前水樣的 COD處理后水樣的 COD） /處理前水樣 COD 100% ? ： ? 水樣處理前水樣 COD處理后水樣 CODV0滴定終讀數(shù) /mL滴定始讀數(shù) /mLCOD/(mg/L) 水 樣 處理前水樣 COD 處理后水樣 COD V0 滴定終讀數(shù)/mL 滴定始讀數(shù)/mL COD/(mg/L) 海南大學(xué)環(huán)境與植物保護(hù)學(xué)院 徐文 六、結(jié)果與討論 ? ? ? ? ? 、臭氧氧化、氯氣氧化等氧化方法分別適用于哪類(lèi)工業(yè)廢水的處理 ? 海南大學(xué)環(huán)境與植物保護(hù)學(xué)院 徐 文 實(shí)驗(yàn)三 水污染控制模擬實(shí)驗(yàn) 海南大學(xué)環(huán)境與植物保護(hù)學(xué)院 徐文 一、實(shí)驗(yàn)?zāi)康? ? 水處理 (給水或廢水處理 )工程設(shè)計(jì)中 ,停留時(shí)間是水處理設(shè)備使用最廣泛的參數(shù)之一。 ? 。 海南大學(xué)環(huán)境與植物保護(hù)學(xué)院 徐文 二、實(shí)驗(yàn)原理 ? ? 水進(jìn)入構(gòu)筑物后 ,便以不同的路線(xiàn)流過(guò)構(gòu)筑物 ,在同一時(shí)刻進(jìn)入構(gòu)筑物的水 ,其停留時(shí)間各不相同 ,一般不等于設(shè)計(jì)值。 海南大學(xué)環(huán)境與植物保護(hù)學(xué)院 徐文 三、實(shí)驗(yàn)裝置與設(shè)備 ? :高位穩(wěn)壓水槽 ,氧化溝模型或完全混合型曝氣池組成。 ? 在 5只 50ml的容量瓶?jī)?nèi)分別加入 5ml %的若丹明 B溶液，配制成濃度分別 10mg/l的標(biāo)準(zhǔn)溶液。 ? B濃度的光密度，并繪制光密度與若丹明 B濃度關(guān)系標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)。 ? 200~250mg若丹明 B ，溶解于 30ml的自來(lái)水中。 ? 50ml燒杯在出口端定期取樣，并記錄取樣時(shí)間。 海南大學(xué)環(huán)境與植物保護(hù)學(xué)院 徐文 五、實(shí)驗(yàn)結(jié)果整理 ? ? 試驗(yàn)日期 年 月 日 ? 氧化溝模型有效容積 L ? 曝氣池模型有效容積 L ? 流量 Q L/min ? 最大吸收波長(zhǎng) nm ? 若丹明 B的用量 M0 mg ? B標(biāo)準(zhǔn)濃度曲線(xiàn)記錄 海南大學(xué)環(huán)境與植物保護(hù)學(xué)院 徐文 ? 表 1 若丹明 B標(biāo)準(zhǔn)濃度曲線(xiàn)記錄表 容量瓶序號(hào) %的若丹明 B標(biāo)準(zhǔn)溶液 體積 /ml 若丹明 B濃度（ mg /l） 光密度（吸光度） A 海南大學(xué)環(huán)境與植物保護(hù)學(xué)院 徐文 ? 表 2 氧化溝（或曝氣池）模型測(cè)得的示蹤物濃度 燒杯序號(hào) 取樣時(shí)間 /min 若丹明 B濃度（ mg /l） 光密度（吸光度） A 海南大學(xué)環(huán)境與植物保護(hù)學(xué)院 徐文 六、實(shí)驗(yàn)結(jié)果討論 ? ？ ? ，討論影響本實(shí)驗(yàn)成果的主要因素。 如 SVI較高 ， 表示 SV較大 ， 污泥沉降性能較差 ， 如SVI較小 ， 污泥顆粒密實(shí) ， 污泥老化 ， 沉降性能好 。 ? 一般來(lái)說(shuō) ， 當(dāng) SVI＜ 100時(shí) ， 污泥沉降性能良好；當(dāng)SVI=100~200時(shí) ， 沉降性能一半 ， 而當(dāng) SVI ＞ 200時(shí) ， 沉降性能較差 ， 污泥易膨脹 。 ? 2. 將已編號(hào)的瓷坩堝放入馬福爐中，在 600℃ 溫度下灼燒 30min，取出瓷坩堝，放入干燥器中冷卻 30min，在電子天平上稱(chēng)重，記下編號(hào)和質(zhì)量 m2（ g）。 ? 4. 從已知編號(hào)和稱(chēng)重的稱(chēng)量瓶中取出濾紙，放置到已插在 250mL三角燒瓶上的玻璃漏斗中，取 100mL曝氣池中混合液慢慢倒入漏斗過(guò)濾。 ? 6. 取出稱(chēng)量瓶中已烘干的污泥和濾紙，放入已編號(hào)和稱(chēng)重的瓷坩堝中，在 600℃ 溫度下灼燒 30min，取出瓷坩堝，放入干燥器中冷卻30min，在電子天平上稱(chēng)重，記下瓷坩堝編號(hào)和質(zhì)量 m4（ g）。 ? 污泥濃度 MLSS（ g/L） =（ 10W） /1000V 式中： W—— 烘干污泥后天平平衡時(shí)，所加砝碼重， g； V—— 取污泥體積， mL。 ? 2. 發(fā)育良好的活性污泥具有哪些特征
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