衍射光學(xué)技術(shù)及其應(yīng)用-在線瀏覽
2025-06-29 18:00本頁面
【正文】 括離子刻蝕(IBE)、反應(yīng)離子刻蝕 (RIE)和反應(yīng)離子束刻蝕 (RIBE)等工藝方法，均屬各相異性刻蝕。 連續(xù)位相 BOE ? 無掩膜方法 激光直寫、電子束直寫 ? 有掩膜方法 灰階掩膜 移動掩膜或旋轉(zhuǎn)掩膜等 臺階位相衍射光學(xué)元件的制作需要多次重復(fù)掩模圖形轉(zhuǎn)印和刻蝕 (或薄膜淀積 )過程，加工環(huán)節(jié)多、周期長、且對準(zhǔn)精度難以控制。 直寫法 電子束：最小水平線寬 ?m 激光：最小水平線寬 ?m 輪廓深度難以控制和刻蝕圖形變形問題 灰階掩膜法 衍射光學(xué)器件的刻蝕深度與刻蝕時間、 曝光強度成正比。 刻蝕深度 刻蝕時間 ? 曝光強度 ? 移動掩膜與旋轉(zhuǎn)掩膜 刻蝕深度 圓心角 ? h 刻蝕深度 h ? 復(fù)制工藝 衍射光學(xué)器件母板制作成本較高。 鑄造法 (Casting) 模壓法(Embossing) 注入模壓法(Injection molding) 在光刻熱熔成型以及電鑄復(fù)制得到的微透鏡陣列鎳板基礎(chǔ)上，采用靜態(tài)鑄塑技術(shù)，得到了高質(zhì)量的PMMA微透鏡陣列．復(fù)制精度優(yōu)于 ?m。 ? 折衍混合物鏡 ? 光束勻滑 ? 光束準(zhǔn)直 ? 分束與合束 ? 光學(xué)圖象處理 ? 微光譜儀 ? 光束掃描 ? 光盤讀數(shù)頭 ? 激光熱處理 ? 亞波長結(jié)構(gòu) 衍射光學(xué)器件的應(yīng)用 1) 照相機物鏡 衍射光學(xué)色散、熱膨脹等特性與折射器件具有互補性， 校正折射透鏡的色差與熱差 光學(xué)系統(tǒng)的小型化與輕量化 2) 光束勻滑 神光 Ⅱ 裝置的慣性約束聚變 (ICF)靶場系統(tǒng) 定性描述衍射光學(xué)器件的束勻滑功能 焦點 ?100mm ?m LD 3) 消象散 半導(dǎo)體激光器 (LD)存在非對稱激活通道，發(fā)出的光具有較大的發(fā)散角且有像散，一般平行及垂直方向的發(fā)散角分別在 ?y=10?~30?、 ?x =30?~60?，需預(yù)先校正為準(zhǔn)直性好的圓形光束才能實際應(yīng)用。 5) 光束準(zhǔn)直 許多大型乃至巨型的機電設(shè)備的安裝及測量需要一條準(zhǔn)確的長距離光學(xué)基準(zhǔn)線。 6) 分束 在光纖通信 、 光計算 、 光盤存儲 、 光電技術(shù) 、 圖象處理及精密測試等現(xiàn)代科技的許多領(lǐng)域中 ， 越來越多地要求能將一信息 (圖象或數(shù)據(jù) )的輸入變換成多個信息的輸出 ， 因此需要光學(xué)分束器件 。 Dammann光柵 : 具有特殊孔徑函數(shù)的 二值 相位 光柵 , 其對入射光波產(chǎn)生的夫瑯和費衍射圖樣是一定點陣數(shù)目的等光強光斑，完全避免了一般振幅光柵因 sinc函數(shù)強度包絡(luò)所引起的譜點光強的不均勻分布。 Laser Spacial Filter Sample Dammann Grating Lens Lens Filter CCD Paralell Confocal Detection System Based on Dammann Gratings Confocal Pinhole Array Objective Dichroic Dammann光柵的應(yīng)用：并行共焦顯微鏡 Dammann光柵的應(yīng)用：激光加工、激光熱處理 劃片切割 激光熱處理
電大資料相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號-1