【正文】 維方向生長，達到一定尺寸后，進一步向三維方向生長，如圖 2一 8所示。前者取決于介質(zhì)的條件，后者則與晶體表面的結構和性質(zhì)有關。 (1)表面電荷分布不同 (2)表面完整性不同 增感主要分化學增感和光譜增感。 光譜增感主要增加記錄材料對光譜的感受范圍。 T顆粒主要包括包括兩種形式，即孿晶和雙晶。感光乳劑直接涂在片基上是不能形成很好的照相性能的，它必須要均勻分散，這種分散介質(zhì)就是明膠。 H2N C H CRO HOH2N C H CRO HO+H2N C H CRN HOC H CRO HOH2N—gel—COOH １、明膠的結構 ２、結構單位 a一氨基酸 性質(zhì)： (1)兩性 (2)光學活性 (3)化學性質(zhì) ①電離性質(zhì) ②與金屬成鹽 ③形成多膚 蛋自質(zhì)分子的空間構象主要取決于其分子結構，不同氨基酸的聯(lián)結次序會產(chǎn)生不同的螺 旋構象。 pH高 pH低 ② 水溶液的濁度 明膠水溶液具有很高的濁度，它與 pH值、溫度和濃度有密切的關系。隨著溫度升高，明膠水溶液的濁度隨之降低。 ③明膠的凝聚作用 明膠溶液中加入某些無機鹽或有機物，明膠會凝聚沉降 ④ 明膠的吸水膨脹 明膠是一種親水性物質(zhì)，可溶于熱水中，但在冷水中只吸水膨脹成膠狀，很少溶解。 ⑤明膠的凝點和熔點 明膠水溶液在冷卻時會形成膠凍，加熱后膠凍又熔化為溶液，一般熔點要比凝點高一些。 (三 )照相明膠的制備 明膠通過浸灰處理 (堿法制膠 )或浸酸處理(酸法制膠 )。 ① 無機硫化物 Na2S2O3： Ag2S、增感 Na2SO3： Ag、增感，灰霧增大 ② 有機硫化物 朧氨酸、半朧氨酸：減感 ③ 醛類 使乳劑層受到一定的堅膜作用，利于乳劑的堅牢和清洗。 ⑤金屬物質(zhì) 使明膠作為分散介質(zhì)的均勻度受到影響，從而使產(chǎn)品質(zhì)量也受到影響。 (l)明膠對于生成鹵化銀晶形的影響 (2)明膠在鹵化銀上的吸附 (3)保護性 (4)明膠對鹵化銀晶體感光度的影響 (5)乳劑的脫鹽沉降 (6)明膠的還原性 (7)與金離子的作用 明膠在感光材料中有以下不可替代的獨特作用 : ① 明膠起著保護膠體的作用 。 ③明膠具有良好的吸水膨脹性能。 ⑤明膠大分子會促進乳劑顆粒及感光中心的形成，還影響著鹵化銀微晶的晶形。 (五 )純膠、化學改性明膠和代用膠 第三 銀鹽信息記錄材料的分類 一、按色彩還原分類 黑白片、彩色片、 X射線片等 依感色性：全色片、分色片、色盲片、紅外片、紫外片、Ｘ光片 依影象顏色：黑白感光材料、彩色感光材料 二、按最終獲得影像分類 (1)負性材料 (2)正性材料 (3)一次成像材料 三、按尺寸分類 常見的有“ 120”，“ 135” ，“ 6 ＊ 4. 5”等 四、按感光（速）度分類 按感光速度有 ISO100、 IS0200、 IS0400等， GB, ASA, DIN等，分別是中國、美國、德國的標準。 五、按感光材料的支持體 玻璃、片基、紙基，照相干版，膠片、照相紙 六、按不同的反差系數(shù) 特硬片（ 5)、硬性片（ ）、中性片（ 2）、軟性片（ 1） 南方牌：Ｓ，Ａ，Ｂ，Ｃ 華光牌： 600,350,260， 160（中軟片） ,100 五、常用的銀鹽感光材料 按人們常用的銀鹽感光材料進行分類，則有如下一些主要類型 : ５ .相紙 例：黑白相紙、彩色反轉片、特硬全色印刷膠片、軟性正色印刷膠片，黑白正片等。 ３ .片基或支持體，它的用處就是一個架子，感性材料的支持體有兩大類 :片基和紙基。 ，其作用是使片基 (或支持體 )與乳劑層在使用過程中不易脫離。 片基的基本性能有以下要求： (1)厚度 (2)透明度 (3)耐光性 (4)機械性能 (5)幾何尺寸穩(wěn)定性 (6)防靜電性能 (7)化學穩(wěn)定性 (8)卷曲性 照相紙基 照相紙基是照相紙的支持體，依靠其白度作為反射光觀看畫面的基底照相紙基有鋇地 紙基和涂塑紙基兩種。 ⑴片基 明膠、高分子樹脂 ⑵紙基 黑白：鋇底， BaSO4+明膠 彩色：涂塑， TiO2+聚乙烯 ⑶玻璃 蛋白、明膠 2. 防卷曲層 保持感光材料的平整度 3. 防靜電層 防止靜電荷的積累 材料：電解質(zhì) 4. 防光暈層 防止光暈的產(chǎn)生 組成：吸光物質(zhì)、粘合劑 吸光物質(zhì)：膠態(tài)銀、碳黑、防光暈染料 染料顏色選擇：乳劑對什么光敏感，染 料對該色光吸收。 5. 保護層 保護乳劑層 組成：明膠 彩色：紫外吸收劑 彩色感光材料 6. 濾色層 吸收藍光 7. 隔層 防止顯影劑氧化產(chǎn)物竄層 ㈡ 感光乳劑及其制備 感光材料的基本成分為感光乳劑，它決定了感光材料的照相性能，照相乳劑實質(zhì)上是鹵化銀微晶高度分散在明膠水溶液中的懸浮液，將乳劑均勻涂布在支持體上，經(jīng)冷凝、干燥就得到銀鹽感光材料。 1. 配液 AgNO3水溶液 鹵化物水溶液 照相明膠水溶液 2. 乳化 將 AgNO3水溶液、鹵化物水溶液、照相明膠水溶液混合，生成 AgX明膠水溶液的過程。 3. 物理成熟 AgX晶體成長的過程 ?小顆粒的溶解，大顆粒的長大 ?顆粒的聚集、再結晶 決定感光乳劑最終的照相性能 乳化后，混合溶液還需在一定溫度下繼續(xù)攪拌一段時間，使鹵化銀顆粒繼續(xù)成長至一定大小尺寸，這類似于過飽和溶液再結晶的物理過程，故稱物理成熟，又稱第一成熟。 乳化與物理成熟的目的，就是要控制乳劑中鹵化銀晶體的顆粒大小、分散程度以及最終的晶體形狀。 ①嚴格控制溫度。 ③精確控制銀液和鹵液的注入速度， ④乳化和成熟時間對乳劑顆粒的大小、感光速度以及分辨率有較大影響。 除鹽方式有兩種 :水洗法和沉降法。 又叫絮凝法，絮凝劑有兩類，一類為高分子絮凝劑另一類為改性明膠 ?終止物理成熟 ?除去雜質(zhì)離子 5. 化學成熟 使照相乳劑中鹵化銀顆粒表面上發(fā)生局部的化學變化，形成感光中心，從而達到大幅度提高感光度的目的，又稱第二成熟。 ①專用于改善乳劑的照相性能。 ②彩色感光材料專用的成色劑。 ④其他用途補加劑。 １、穩(wěn)定劑和防灰霧劑 老化現(xiàn)象，主要表現(xiàn)為感光度的衰退和灰霧的增長。而能防止感光材料灰霧上升的補加劑就是防灰霧劑，它對感光度有一定的影響。 (1)表面活性劑 一種能降低乳劑表面張力，改善涂布時乳劑與支持體之間潤濕情況的補加劑，有陰離子型表面活性劑，陽離子型表面活性劑。 常用表面活性劑有 1292和 1283 (2)堅膜劑 增強涂層的機械強度 有無機堅膜劑和有機堅膜劑兩大類，常用的無機堅膜劑有鉻礬和醋酸鉻。 (3)增稠劑 提高涂布膠稠度的補加劑 聚丙烯酸、丙烯酸與甲基丙烯酸甲醋的聚物等。 (5)防粘連劑 毛面劑，用來防止感光材料發(fā)生粘連的補加劑。 (6)增塑劑 降低乳劑層脆性，增加韌性的補加劑， 聚丙酸乙酯。 (８ )內(nèi)防光暈染料 消除光散射、光漫射、光反射的補加劑。 (9)防斑點劑 一種能與重金屬偶合形成絡合物，以消除這些離子引起不良作用的補加劑。 四、涂布與干燥 (一 )涂布前的準備 涂布前的準備工作包括 :乳劑性能調(diào)試，乳劑稱量和混合。 (二 )感光乳劑涂布 要求 :涂層薄而均勻、性能一致而穩(wěn)定、表面干凈而平整、不能有各種劃傷、條道、疵點等弊病。 (三 )干燥 一般都采用低溫 (不超過 40 ℃ )、高風速 (20－30m/s)和低含水量的空氣進行干燥，干燥用空氣必須經(jīng)特殊的空調(diào)和凈化處理 。 整理和包裝是感光材料生產(chǎn)的最后一個工藝過程。 第五節(jié) 黑白銀鹽信息記錄材料成像 過程與機理 銀鹽材料的曝光過程就是形成潛像的過程，其沖洗加工按照使用感光材料不同分為黑白感光材料沖洗加工和彩色感光材料沖洗加工，還有黑白、彩色反轉材料沖洗加工等。 一、曝光過程及原理 曝光 顯影 AgX (hυ) ＋ 顯影劑 Ag (影像 )＋ 顯影劑氧化產(chǎn)物 定影 除去未曝光的 AgX AgX Ag+ ＋ X ＋ e Ag+ ＋ e Ag hυ 潛影理論（機理） 一 . AgX晶體的結構和性質(zhì) 1. AgX晶體的結構 點陣結構：質(zhì)子按照一定規(guī)律排列 AgCl、 AgBr、 AgI組成立方體的混合晶體 2. AgX晶體的不完整性 物理上的不完整性 化學上的不純潔性 ⑴ 物理上的不完整性 點陣結構的缺陷 點陣結構的位錯 ① 點陣結構的缺陷 AgX晶體中的離子在點陣位置發(fā)生遷移，出現(xiàn)在不該存在的位置。 棱位錯 螺旋位錯：晶面滑移 結果： AgX晶體點陣結構中電荷不平衡 ⑵ 化學上的不純潔性 點陣結構中摻入雜質(zhì) 結果： AgX晶體點陣結構中電荷不平衡 AgX晶體點陣結構中電荷不平衡，形成晶體內(nèi)部的薄弱環(huán)節(jié)，即 感光中心 二 . 潛影理論 1. 潛影的本質(zhì) 感光材料曝光后形成肉眼看不到的潛伏影像 組成：數(shù)個 Ag組成的微斑 位置：感光中心 2. 潛影的形成 hυ ⑴ AgX Ag+ ＋ X ＋ e ⑵ Ag+ ＋ e Ag …… Agn(顯影中心 ) 潛影 ⑶ 正空穴遷移至 AgX晶體表面，被明膠 吸收 感光中心 e e 潛影的形成 hυ 3. 潛影理論 ⑴ GurneyMott理論 光分解反應： AgX顆粒的幾個點 顯影： AgX顆粒的幾個點開始 Ａ . 兩個實體 感光中心： Ag2S、 Ag、 Au…… 空隙銀離子： Ag+i B. 兩個階段 電子階段： AgX Ag+ ＋ X ＋ e 離子階段： AgX表面的 Ag2S為電子深阱 Ag2S + e Ag2S hυ 價帶 導帶 AgX Ag2S e C. 在陷阱中 e與 Ag+i結合還原出 Ag Ag2S + Ag+i Ag2SAg …… Ag2SAgn(顯影中心 ) 缺陷： Ag2S分布 Ag2S的化學反應 正空穴的去向 ⑵ Mitchell理論 A. AgX Ag+ ＋ X ＋ e B. 存在 Ag+i C. 電子陷阱：位錯和缺陷 Ag+i + e Ag 不穩(wěn)定，回歸 兩個階段：低效階段 Ag Ag3~4 （穩(wěn)定） 高效階段 Ag3~4 Agn（顯影中心） hυ D. Ag2S為淺阱，捕獲電子后回溢出 Ag2S Ag2S Ag2S Ag2S AgS + Ag+i E. 正空穴的遷移及被 Ag2S捕獲 Ag2S + X AgS + Ag+i + X + e e 熱 感光材料的沖洗加工 沖洗加工過程 : 顯影：將曝光的 AgX還原成 Ag影像 停顯：終止顯影 漂白 (彩色 )：去除 Ag影像 定影：除去未曝光的 AgX 水洗：除去定影液 干燥： 二 . 顯影原理及其過程