干膜光致抗蝕劑的技術條件-展示頁
2024-09-06 20:54本頁面
【正文】 7—1所述：表7—1 干膜外觀的技術指標指標名稱指 標 一級 二級 透明度透明度良好，無渾濁。聚酯薄膜必須透明度高，否則會增加曝光時間。膜卷必須卷繞緊密、整齊，層間對準誤差應小于1mm，這是為了防止在貼膜時因卷繞誤差而弄臟熱壓輥，也不會因卷繞不緊而出現(xiàn)連續(xù)貼膜的故障。質量好的干膜必須無氣泡、顆粒、雜質；抗蝕膜厚度均勻；顏色均勻一致；無膠層流動?，F(xiàn)將83年制定的技術要求的主要內容介紹如下，雖具體數(shù)字指標已與現(xiàn)今干膜產品及應用工藝技術有差距，但作為評價干膜產品的技術內容仍有參考價值。為此在電子部、化工部的支持下，1983年在大連召開了光致抗蝕干膜技術協(xié)調會議，制定了國產水溶性光致抗蝕干膜的總技術要求。：；:；：干膜光致抗蝕劑的技術條件印制電路制造者都希望選用性能良好的干膜，以保證印制板質量，穩(wěn)定生產，提高效益。生產干膜的廠家也需要有一個標準來衡量產品質量。近年來隨著電子工業(yè)的迅速發(fā)展，印制板的精度密度不斷提高，為滿足印制板生產的需要，不斷推出新的干膜產品系列，性能和質量有了很大的改進和提高，但至今國產干膜的技術要求還沒 有修訂。外觀使用干膜時，首先應進行外觀檢查。如果干膜存在上述要求中的缺陷，就會增加圖像轉移后的修版量，嚴重者根本無法使用。聚酯薄膜應盡可能薄，聚酯膜太厚會造成曝光時光線嚴重散射，而使圖像失真，降低干膜分辨率。聚乙烯保護膜厚度應均勻，如厚度不均勻將造成光致抗蝕層膠層流動，嚴重影響干膜的質量。透明度良好，允許有不明顯的渾濁。淺色，允許有色不均勻現(xiàn)象，但不得相差懸殊。指標名稱指 標 一級 二級 凝膠粒子。 允許有少量的機械雜質。允許有不明顯的劃傷。允許有不明顯的流膠。允許有輕微折痕。如印制蝕刻工藝可選光致抗蝕層厚度為25μm的干膜，圖形電鍍工藝則需選光 致抗蝕層厚度為38
化學相關推薦
鄂ICP備17016276號-1