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反滲透純水機技術(shù)理論有哪些-展示頁

2024-09-02 16:32本頁面
  

【正文】 劑或鐵沉淀  過量的陽離子聚合物 ( 來源于預處理的過濾器 )   生物污染  復合膜 ( CPA,ESPA,ESNA ) 表面形成生物粘泥  細菌對醋酸膜 ( CAB ) 的浸蝕  藻類  真菌   反滲透污染癥狀   系統(tǒng)進水與濃水間壓降增加   反滲透進水壓力發(fā)生變化   標準化后的產(chǎn)水流量變化   標準后的鹽透過率發(fā)生變化   反滲透故障診斷一覽表,實驗室超純水機,反滲透純水機  可能的原因 可能的發(fā)生地點 進水與濃水間壓降 產(chǎn)水流量 鹽透過率  金屬氧化物 第一段 正?;蛟黾?降低 正?;蛟黾印 ∧z體污染 第一段 正?;蛟黾?降低 正?;蛟黾印 〗Y(jié)垢 最后一段 增加 降低 增加  生物污染 任何一段 正?;蛟黾?降低 正?;蛟黾印 ∮袡C污染 所有各段 正常 降低 降低或增加  氧化物(如Cl2) 第一段最嚴重 正常或降低 增加 增加  磨損(碳粒、污泥粒) 第一段最嚴重 降低 增加 增加  O型圈或粘結(jié)部位泄漏 隨機分布 正常或增加 正?;蛟黾?增加  回收率過高 所有各段 降低 正?;蚪档?增加  佳木斯反滲透純水機技術(shù)理論佳木斯實驗室 超純水機,佳木斯反滲透純水機   如何減少故障和降低反滲透清洗頻率   在取得水質(zhì)全分析的基礎(chǔ)上設(shè)計反滲透系統(tǒng)   在進行設(shè)計前確定 RO 進水的 SDI 值   如果進水水質(zhì)變化,需要作出相應的設(shè)計調(diào)整   必須保證足夠的預處理   選擇正確的膜元件, CAB 或 LFC1 膜對于處理比較復雜的地表水或污水可能更為適用   選擇比較保守的水通量   選擇合理的水回收率   設(shè)計足夠的橫向流速及濃水流速   對運行數(shù)據(jù)進行標準化   反滲透系統(tǒng)的標準化  使用計算機和和程序來分析產(chǎn)水水質(zhì)和產(chǎn)水水量在一段時間內(nèi)的變化趨勢,監(jiān)測反滲透系統(tǒng)的運行  然后可以初步掌握 “ 該反滲透系統(tǒng)是否運轉(zhuǎn)正常? ”  有助于反滲透系統(tǒng)故障排除   標準化  由于下列原因?qū)е路礉B透系統(tǒng)性能變化:  基本設(shè)計參數(shù)如溫度、使用年限、進水 TDS 、回收率、水通量等發(fā)生變化 —— ( 即:系統(tǒng)發(fā)生變化是正常的 )  膜元件發(fā)生污染或結(jié)垢 —— ( 即:需要清洗! )  膜元件降解 —— ( 即:需要購買新膜更換 )   標準化定義  標準化:將現(xiàn)在經(jīng)過計算的操作數(shù)據(jù) ( 標準化后的產(chǎn)水流量和標準化后的脫鹽率 ) 和原來選定的基準參考時間的操作參數(shù)進行比較的過程?! 藴驶蟮拿擕}率:如果系統(tǒng)運行條件與初投運時相同,現(xiàn)在理論上所能達到的脫鹽率  參考點:  A. 初投運時 ( 穩(wěn)定運行或經(jīng)過 24 小時 ) ( 優(yōu)先選用 )  B. 反滲透膜元件制造廠商的標準參數(shù)   標準化后的一般特征  通常 CAB 膜元件鹽透過率每年增加 33%  通常 CPA 膜元件鹽透過率每年增加 10~17%  通常反滲透膜元件產(chǎn)水流量每年減少 4~10%  標準化的真正意義在于了解變化趨勢,而不是評價某一天的變化  前一次有效清洗后,標準化后的流量或產(chǎn)水水質(zhì)下降 15% 或壓降增加 15% 時,建議進行再清洗   標準化實例 —— 系統(tǒng)運行數(shù)據(jù)  進水  溫度 進水  TDS 產(chǎn)水  TDS 脫鹽  率 產(chǎn)水  流量 濃水  流量 回收  率 進水  壓力 濃水  壓力 產(chǎn)水  壓力 ΔP(進水  減產(chǎn)水壓力) ΔP(進水  減濃水壓力)  注: 1gpm = L/min  4. 反滲透膜的清洗、消毒及保存  目的:保證反滲透系統(tǒng)的正常運行  目的:延長反滲透膜元件使用壽命  什么時候需要清洗及消毒  如何清洗消毒及用何種藥品進行清洗消毒   什么時候需要清洗反滲透系統(tǒng)  當標準化后的產(chǎn)水流量比上次清洗后減少 10~15%  當標準化后的產(chǎn)水水質(zhì)比上次清洗后降低 10~15%  當標準化后的壓降比上次清洗后增加 10~15%  在長期停用前  作為日常的維護   需要清洗什么  碳酸鈣垢  硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢  水合金屬氧化物垢 ( 鐵、錳、鎳、銅等 )  硅垢  膠體沉積物 ( 無機 )  膠體沉積物 ( 無機、有機混合物 )  有機沉積物 ( 自然產(chǎn)物 )  有機沉積物 ( 人為產(chǎn)物 )
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