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【電子行—emi濾波器的設(shè)計(jì)原理】-展示頁

2024-08-13 00:26本頁面
  

【正文】 為減小體積、降低成本,單片開關(guān)電源一般采用簡易式單級(jí)EMI濾波器,典型電路圖3所示。顯然,這種EMI濾波器的效果更佳?!?0MHz傳導(dǎo)噪聲的波形(即電磁干擾峰值包絡(luò)線)。圖(d)則是把共模干擾濾波電容C3和C4接在輸出端。圖(c)中的L、C1和C2用來濾除共模干擾,C3和C4濾除串模干擾。圖(a)與圖(b)中的電容器C能濾除串模干擾,區(qū)別僅是圖(a)將C接在輸入端,圖(b)則接到輸出端。針對(duì)某些用戶現(xiàn)場存在重復(fù)頻率為幾千赫茲的快速瞬態(tài)群脈沖干擾的問題,國內(nèi)外還開發(fā)出群脈沖濾波器(亦稱群脈沖對(duì)抗器),能對(duì)上述干擾起到抑制作用。為減小漏電流,并且電容器中點(diǎn)應(yīng)與大地接通。C3和C4跨接在輸出端,并將電容器的中點(diǎn)接地,能有效地抑制共模干擾。此外,適當(dāng)增加電感量, 可改善低頻衰減特性。L的電感量與EMI濾波器的額定電流I有關(guān),參見表1。L對(duì)串模干擾不起作用,但當(dāng)出現(xiàn)共模干擾時(shí),由于兩個(gè)線圈的磁通方向相同,經(jīng)過耦合后總電感量迅速增大,因此對(duì)共模信號(hào)呈現(xiàn)很大的感抗,使之不易通過,故稱作共模扼流圈。 精品資料網(wǎng)該五端器件有兩個(gè)輸入端、兩個(gè)輸出端和一個(gè)接地端,使用時(shí)外殼應(yīng)接通大地。例如在計(jì)算某個(gè)頻率下襯墊的大小和間距時(shí)還必須考慮信號(hào)的強(qiáng)度,如同在一個(gè)設(shè)備中使用了多個(gè)處理器時(shí)的情形。 結(jié)論 設(shè)備一般都需要進(jìn)行屏蔽,這是因?yàn)榻Y(jié)構(gòu)本身存在一些槽和縫隙。這些襯墊的外部覆層對(duì)紫外線穩(wěn)定,可防潮、防風(fēng)、防清洗溶劑,內(nèi)部涂層則進(jìn)行金屬化處理并具有較高導(dǎo)電性。這類襯墊可做成多種形狀,也可減少厚度以滿足UL燃燒及環(huán)境密封標(biāo)準(zhǔn)。目前許多襯墊帶有粘膠或在襯墊上面就有固定裝置,如擠壓插入、管腳插入或倒鉤裝置等。大多數(shù)屏蔽材料制造商都可提供各種襯墊能達(dá)到的SE估計(jì)值,但要記住SE是個(gè)相對(duì)數(shù)值,還取決于孔隙、襯墊尺寸、襯墊壓縮比以及材料成分等。襯墊安裝在墊片的一邊,以完成對(duì)EMI的屏蔽。 如果屏蔽罩或墊片結(jié)構(gòu)是金屬的,那么在噴涂拋光材料之前可加一個(gè)襯墊把墊片表面包住,只需用導(dǎo)電膜和卷帶即可。 如果屏蔽罩或墊片由涂有導(dǎo)電層的塑料制成,則添加一個(gè)EMI襯墊不會(huì)產(chǎn)生太多問題,但是設(shè)計(jì)人員必須考慮很多襯墊在導(dǎo)電表面上都會(huì)有磨損,通常金屬襯墊的鍍層表面更易磨損。若襯墊易于壓縮,那么屏蔽性能會(huì)隨著門的每次轉(zhuǎn)動(dòng)而下降,此時(shí)襯墊需要更高的壓縮力才能達(dá)到與新襯墊相同的屏蔽性能。在某些情況下,可能需要另外一些緊固件以防止外殼結(jié)構(gòu)彎曲。 另一方面,對(duì)襯墊的壓力不應(yīng)大到使襯墊處于非正常壓縮狀態(tài),因?yàn)榇藭r(shí)會(huì)導(dǎo)致襯墊接觸失效,并可能產(chǎn)生電磁泄漏。大多數(shù)襯墊在壓縮到原來厚度的30%至70%時(shí)效果比較好。導(dǎo)電襯墊的可壓縮特性可以彌補(bǔ)墊片的任何不規(guī)則情況。襯墊和墊片之間導(dǎo)電性太差會(huì)降低屏蔽效率,另外接合處如果少了一塊則會(huì)出現(xiàn)細(xì)縫而形成槽狀天線,其輻射波長比縫隙長度小約4倍。成本 大多數(shù)商用襯墊都具有足夠的屏蔽性能以使設(shè)備滿足EMC標(biāo)準(zhǔn),關(guān)鍵是在屏蔽罩內(nèi)正確地對(duì)墊片進(jìn)行設(shè)計(jì)。 安裝方法和密封強(qiáng)度 封孔EMI襯墊的選用可參照以下性能參數(shù): EMI襯墊是一種導(dǎo)電介質(zhì),用于填補(bǔ)屏蔽罩內(nèi)的空隙并提供連續(xù)低阻抗接點(diǎn)。不建議用螺釘或鉚釘進(jìn)行固定,因?yàn)榫o固件之間接合處的低阻接觸狀態(tài)不容易長久保持。下面是此類情況下屏蔽效率計(jì)算公式 SE=[20lg (fc/o/σ)]10lg n 其中 fc/o:截止頻率 n:孔洞數(shù)目 注意此公式僅適用于孔間距小于孔直徑的情況,也可用于計(jì)算金屬編織網(wǎng)的相關(guān)屏蔽效率。上述原理及其在多縫情況下的推廣構(gòu)成多孔屏蔽罩設(shè)計(jì)基礎(chǔ)。要注意低于截止頻率的輻射其衰減只取決于縫隙的長度直徑比,例如長度直徑比為3時(shí)可獲得100dB的衰減。 可采用合適的導(dǎo)電襯墊使縫隙大小限定在規(guī)定尺寸內(nèi),從而實(shí)現(xiàn)這種衰減效果。例如如果需要對(duì)1GHz(波長為300mm)的輻射衰減26dB,則150mm的縫隙將會(huì)開始產(chǎn)生衰減,因此當(dāng)存在小于150mm的縫隙時(shí),1GHz輻射就會(huì)被衰減。當(dāng)涉及到最高頻率時(shí),必須要考慮可能會(huì)出現(xiàn)的任何諧波,不過實(shí)際上只需考慮一次及二次諧波即可。 任一頻率電磁波的波長為: 波長(λ)=光速(C)/頻率(Hz) 當(dāng)縫隙長度為波長(截止頻率)的一半時(shí),RF波開始以20dB/10倍頻(1/10截止頻率)或6dB/8倍頻(1/2截止頻率)的速率衰減。制造、面板連線、通風(fēng)口、外部監(jiān)測窗口以及面板安裝組件等都需要在屏蔽罩上打孔,從而大大降低了屏蔽性能。然而在實(shí)際中要制造一個(gè)無接縫及缺口的屏蔽罩是不可能的,由于屏蔽罩要分成多個(gè)部分進(jìn)行制作,因此就會(huì)有縫隙需要接合,另外通常還得在屏蔽罩上打孔以便安裝與插卡或裝配組件的連線。綜上所述,選擇用于屏蔽的高導(dǎo)磁性材料非常復(fù)雜,通常要向EMI屏蔽材料供應(yīng)商以及有關(guān)咨詢機(jī)構(gòu)尋求解決方案。 EMI抑制策略 只有如金屬和鐵之類導(dǎo)磁率高的材料才能在極低頻率下達(dá)到較高屏蔽效率。 SE算式最后一項(xiàng)是校正因子B,其計(jì)算公式為 B=20lg[exp(2t/σ)] 此式僅適用于近磁場環(huán)境并且吸收損耗小于10dB的情況。這種情況適用于小型帶屏蔽的設(shè)備。波阻隨著與波源距離的增加而增加,但當(dāng)距離超過波長的六分之一時(shí),波阻不再變化,恒定在377處。對(duì)于桿狀或直線形發(fā)射天線而言,離波源越近波阻越高,然后隨著與波源距離的增加而下降,但平面波阻則無變化(恒為377)。 金屬屏蔽效率 可用屏蔽效率(SE)對(duì)屏蔽罩的適用性進(jìn)行評(píng)估,其單位是分貝,計(jì)算公式為 SEdB=A+R+B 其中 A:吸收損耗(dB) R:反射損耗(dB) B:校正因子(dB)(適用于薄屏蔽罩內(nèi)存在多個(gè)反射的情況) 一個(gè)簡單的屏蔽罩會(huì)使所產(chǎn)生的電磁場強(qiáng)度降至最初的十分之一,即SE等于20dB;而有些場合可能會(huì)要求將場強(qiáng)降至為最初的十萬分之一,即SE要等于100dB。如今已有多種外殼屏蔽材料得到廣泛使用,從金屬罐、薄金屬片和箔帶到在導(dǎo)電織物或卷帶上噴射涂層及鍍層(如導(dǎo)電漆及鋅線噴涂等)。EMI抑制性、隔離性和低敏感性應(yīng)該作為所有電路設(shè)計(jì)人員的目標(biāo),這些性能在設(shè)計(jì)階段的早期就應(yīng)完成。信號(hào)輻射是通過外殼的縫、槽、開孔或其他缺口泄漏出去;而信號(hào)傳導(dǎo)則通過耦合到電源 精品資料網(wǎng)、信號(hào)和控制線上離開外殼,在開放的空間中自由輻射,從而產(chǎn)生干擾。 EMC問題來源 所有電器和電子設(shè)備工作時(shí)都會(huì)有間歇或連續(xù)性電壓電流變化,有時(shí)變化速率還相當(dāng)快,這樣會(huì)導(dǎo)致在不同頻率內(nèi)或一個(gè)頻帶間產(chǎn)生電磁能量,而相應(yīng)的電路則會(huì)將這種能量發(fā)射到周圍的環(huán)境中?!睂?duì)于無線收發(fā)設(shè)備來說,采用非連續(xù)頻譜可部分實(shí)現(xiàn)EMC性能,但是很多有關(guān)的例子也表明EMC并不總是能夠做到。電磁干擾的屏蔽方法EMC問題常常是制約中國電子產(chǎn)品出口的一個(gè)原因,本文主要論述EMI的來源及一些非常具體的抑制方法。因此,電磁干擾濾波器應(yīng)符合電磁兼容性(EMC)的要求,也必須是雙向射頻濾波器,一方面要濾除從交流電源線上引入的外部電磁干擾,另一方面還能避免本身設(shè)備向外部發(fā)出噪聲干擾,以免影響同一電磁環(huán)境下其他電子設(shè)備的正常工作 精品資料網(wǎng)。串模干擾是兩條電源線之間(簡稱線對(duì)線)的噪聲。這表明噪聲屬于雙向干擾信號(hào),電子設(shè)備既是噪聲干擾的對(duì)象,又是一個(gè)噪聲源。 精品資料網(wǎng)1 電磁干擾濾波器的構(gòu)造原理及應(yīng)用 構(gòu)造原理電源噪聲是電磁干擾的一種,其傳導(dǎo)噪聲的頻譜大致為10kHz~30MHz,最高可達(dá)150MHz。 電磁干擾濾波器(EMI Filter)是近年來被推廣應(yīng)用的一種新型組合器件。EMI濾波器的設(shè)計(jì)原理隨著電子設(shè)計(jì)、計(jì)算機(jī)與家用電器的大量涌現(xiàn)和廣泛普及,電網(wǎng)噪聲干擾日益嚴(yán)重并形成一種公害。特別是瞬態(tài)噪聲干擾,其上升速度快、持續(xù)時(shí)間短、電壓振幅度高(幾百伏至幾千伏)、隨機(jī)性強(qiáng),對(duì)微機(jī)和數(shù)字電路易產(chǎn)生嚴(yán)重干擾,常使人防不勝防,這已引起國內(nèi)外電子界的高度重視。它能有效地抑制電網(wǎng)噪聲,提高電子設(shè)備的抗干擾能力及系統(tǒng)的可靠性,可廣泛用于電子測量儀器、計(jì)算機(jī)機(jī)房設(shè)備、開關(guān)電源、測控系統(tǒng)等領(lǐng)域。根據(jù)傳播方向的不同,電源噪聲可分為兩大類:一類是從電源進(jìn)線引入的外界干擾,另一類是由電子設(shè)備產(chǎn)生并經(jīng)電源線傳導(dǎo)出去的噪聲。若從形成特點(diǎn)看,噪聲干擾分串模干擾與共模干擾兩種。共模干擾則是兩條電源線對(duì)大地(簡稱線對(duì)地)的噪聲。此外,電磁干擾濾波器就對(duì)串模、共模干擾都起到抑制作用. 基本電路及其典型應(yīng)用電磁干擾濾波器的基本電路如圖1所示。 電磁兼容性(EMC)是指“一種器件、設(shè)備或系統(tǒng)的性能,它可以使其在自身環(huán)境下正常工作并且同時(shí)不會(huì)對(duì)此環(huán)境中任何其他設(shè)備產(chǎn)生強(qiáng)烈電磁干擾(IEEE )。例如在筆記本電腦和測試設(shè)備之間、打印機(jī)和臺(tái)式電腦之間以及蜂窩電話和醫(yī)療儀器之間等都具有高頻干擾,我們把這種干擾稱為電磁干擾(EMI)。 EMI有兩條途徑離開或進(jìn)入一個(gè)電路:輻射和傳導(dǎo)。 很多EMI抑制都采用外殼屏蔽和縫隙屏蔽結(jié)合的方式來實(shí)現(xiàn),大多數(shù)時(shí)候下面這些簡單原則可以有助于實(shí)現(xiàn)EMI屏蔽:從源頭處降低干擾;通過屏蔽、過濾或接地將干擾產(chǎn)生電路隔離以及增強(qiáng)敏感電路的抗干擾能力等。 對(duì)設(shè)計(jì)工程師而言,采用屏蔽材料是一種有效降低EMI的方法。無論是金屬還是涂有導(dǎo)電層的塑料,一旦設(shè)計(jì)人員確定作為外殼材料之后,就可著手開始選擇襯墊。 吸收損耗是指電磁波穿過屏蔽罩時(shí)能量損耗的數(shù)量,吸收損耗計(jì)算式 精品資料網(wǎng)為 AdB=(fσμ)1/2t 其中 f:頻率(MHz) μ:銅的導(dǎo)磁率 σ:銅的導(dǎo)電率 t:屏蔽罩厚度 反射損耗(近場)的大小取決于電磁波產(chǎn)生源的性質(zhì)以及與波源的距離。 相反,如果波源是一個(gè)小型線圈,則此時(shí)將以磁場為主,離波源越近波阻越低。 反射損耗隨波阻與屏蔽阻抗的比率變化,因此它不僅取決于波的類型,而且取決于屏蔽罩與波源之間的距離。 近場反射損耗可按下式計(jì)算 R(電)dB=(20lg r)(30lg f)[10lg(μ/σ)] R(磁)dB=+(20lg r)+(10lg f)+[10lg(μ/σ)] 其中 r:波源與屏蔽之間的距離。由于屏蔽物吸收效率不高,其內(nèi)部的再反射會(huì)使穿過屏蔽層另一面的能量增加,所以校正因子是個(gè)負(fù)數(shù),表示屏蔽效率的下降情況。這些材料的導(dǎo)磁率會(huì)隨著頻率增加而降低,另外如果初始磁場較強(qiáng)也會(huì)使導(dǎo)磁率降低,還有就是采用機(jī)械方法將屏蔽罩作成規(guī)定形狀同樣會(huì) 精品資料網(wǎng)降低導(dǎo)磁率。 在高頻電場下,采用薄層金屬作為外殼或內(nèi)襯材料可達(dá)到良好的屏蔽效果,但條件是屏蔽必須連續(xù),并將敏感部分完全遮蓋住,沒有缺口或縫隙(形成一個(gè)法拉第籠)。 設(shè)計(jì)屏蔽罩的困難在于制造過程中不可避免會(huì)產(chǎn)生孔隙,而且設(shè)備運(yùn)行過程中還會(huì)需要用到這些孔隙。盡管溝槽和縫隙不可避免,但在屏蔽設(shè)計(jì)中對(duì)與電路工作頻率波長有關(guān)的溝槽長度作仔細(xì)考慮是很有好處的。通常RF發(fā)射頻率越高衰減越嚴(yán)重,因?yàn)樗牟ㄩL越短。 一旦知道了屏蔽罩內(nèi)RF輻射的頻率及強(qiáng)度,就可計(jì)算出屏蔽罩的最大允許縫隙和溝槽。所以對(duì)1GHz頻率來講,若需要衰減20dB,則縫隙應(yīng)小于15 mm(150mm的1/10),需要衰減26dB時(shí), mm(15mm的1/2以上),需要衰減32dB時(shí), mm( 精品資料網(wǎng)m的1/2以上)。 屏蔽設(shè)計(jì)難點(diǎn) 由于接縫會(huì)導(dǎo)致屏蔽罩導(dǎo)通率下降,因此屏蔽效率也會(huì)降低。在需要穿孔時(shí),可利用厚屏蔽罩上面小孔的波導(dǎo)特性;另一種實(shí)現(xiàn)較高長度直徑比的方法是附加一個(gè)小型金屬屏蔽物,如一個(gè)大小合適的襯墊。 多孔薄型屏蔽層:多孔的例子很多,比如薄金屬片上的通風(fēng)孔等等,當(dāng)各孔間距較近時(shí)設(shè)計(jì)上必須要仔細(xì)考慮。 接縫和接點(diǎn):電焊、銅焊或錫焊是薄片之間進(jìn)行永久性固定的常用方式,接合部位金屬表面必須清理干凈,以使接合處能完全用導(dǎo)電的金屬填滿。 精品資料網(wǎng)導(dǎo)電襯墊的作用是減少接縫或接合處的槽、孔或縫隙,使RF輻射不會(huì)散發(fā)出去。通常EMI襯墊可在兩個(gè)導(dǎo)體之間提供一種靈活的連接,使一個(gè)導(dǎo)體上的電流傳至另一導(dǎo)體。特定頻率范圍的屏蔽效率 與外罩電流兼容性以及對(duì)外部環(huán)境的抗腐蝕能力。工作溫度范圍 墊片系統(tǒng):一個(gè)需要考慮的重要因素是壓縮,壓縮能在襯墊和墊片之間產(chǎn)生較高導(dǎo)電率。 確保導(dǎo)通性首先要保證墊片表面平滑、干凈并經(jīng)過必要處理以具有良好導(dǎo)電性,這些表面在接合之前必須先遮住;另外屏蔽襯墊材料對(duì)這種墊片具有持續(xù)良好的粘合性也非常重要。 所有襯墊都有一個(gè)有效工作最小接觸電阻,設(shè)計(jì)人員可以加大對(duì)襯墊的壓縮力度以降低多個(gè)襯墊的接觸電阻,當(dāng)然這將增加密封強(qiáng)度,會(huì)使屏蔽罩變得更為彎曲。 精品資料網(wǎng)因此在建議的最小接觸面范圍內(nèi),兩個(gè)相向凹點(diǎn)之間的壓力應(yīng)足以確保襯墊和墊片之間具有良好的導(dǎo)電性。與墊片分離的要求對(duì)于將襯墊壓縮控制在制造商建議范圍非常重要,這種設(shè)計(jì)需要確保墊片具有足夠的硬度,以免在墊片緊固件之間產(chǎn)生較大彎曲。 壓縮性也是轉(zhuǎn)動(dòng)接合處的一個(gè)重要特性,如在門或插板等位置。在大多數(shù)情況下這不太可能做得到,因此需要一個(gè)長期EMI解決方案。隨著時(shí)間增長這種磨損會(huì)降低襯墊接合處的屏蔽效率,并給后面的制造商帶來麻煩。若在接合墊片的兩邊都使用卷帶,則可用機(jī)械固件對(duì)EMI襯墊進(jìn)行緊固,例如帶有塑料鉚釘或壓敏粘結(jié)劑(PSA)的“C型”襯墊。 襯墊及附件 目前可用的屏蔽和襯墊產(chǎn)品非常多,包括鈹銅接頭、金屬網(wǎng)線(帶彈性內(nèi)芯 精品資料網(wǎng)或不帶)、嵌入橡膠中的金屬網(wǎng)和定向線、導(dǎo)電橡膠以及具有金屬鍍層的聚氨酯泡沫襯墊等。襯墊有多種形狀,可用于各種特定應(yīng)用,包括有磨損、滑動(dòng)以及帶鉸鏈的場合。 各類襯墊中,涂層泡沫襯墊是最新也是市面上用途最廣的產(chǎn)品之一。還有另一種新型襯墊即環(huán)境/EMI混合襯墊,有了它就可以無需再使用單獨(dú)的密封材料,從而降低屏蔽罩成本和復(fù)雜程度。最近的另外一項(xiàng)革新是在EMI襯墊上裝了一個(gè)塑料夾,同傳統(tǒng)壓制型金屬襯墊相比,它的重量較輕,裝配時(shí)間短,而且成本更低,因此更具市場吸引力。所需屏蔽可通過一些基本原則確定,但是理論與現(xiàn)實(shí)之間還是有差別。表面處理及墊片設(shè)計(jì)是保持長期屏蔽以實(shí)現(xiàn)EMC性能的關(guān)鍵因素。電路中包括共模扼流圈(亦稱共模電感)L、濾波電容C1~C4。它的兩個(gè)線圈分別繞在低損耗、高導(dǎo)磁率的鐵氧體磁環(huán)上,當(dāng)有電流通過時(shí),兩個(gè)線圈上的磁場就會(huì)互相加強(qiáng)。需要指出,當(dāng)額定電流較大時(shí),共模扼流圈的線徑也要相應(yīng)增大,以便能承受較大的電
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