第十一章dna損傷、修復(fù)和基因突變-展示頁(yè)
2024-08-05 00:40本頁(yè)面
【正文】 線引起的 DNA損傷 ? 紫外線（ UV）照射引起的 DNA損傷主要是形成嘧啶二聚體 。例如，腺嘌呤的互變異構(gòu)體（ A’）可以與胞嘧啶配對(duì)，模板鏈上存在這些異構(gòu)體的時(shí)候，子代鏈上就可能發(fā)生錯(cuò)誤，形成損傷。 ? 影響復(fù)制過程諸因素中的某一環(huán)節(jié)出現(xiàn)問題，錯(cuò)配率就會(huì)增高，如 DNA本身功能和底物的改變， 二價(jià)陽(yáng)離子 的改變等。 一、自發(fā)性損傷 1. 復(fù)制中的損傷 ? 復(fù)制中的損傷 指復(fù)制過程中堿基配對(duì)時(shí)發(fā)生的誤差再經(jīng)過 DNA聚合酶“校讀”和單鏈結(jié)合蛋白等綜合因素作用下仍然存在的DNA損傷。第十一章 DNA損傷、修復(fù)和基因突變 第一節(jié) DNA損傷 ? DNA損傷即是指在生物體生命過程中 DNA雙螺旋結(jié)構(gòu) 發(fā)生的任何改變。 ? DNA損傷大體上可以分為兩類： 單個(gè)堿基改變 和 結(jié)構(gòu)扭曲 。正常情況下， 大腸桿菌復(fù)制過程中的錯(cuò)配率為 10－ 10左右 。 2. 堿基的自發(fā)性化學(xué)改變 ? 這類損傷包括 互變異構(gòu)、堿基的脫氨基作用、自發(fā)的脫嘌呤和脫嘧啶、以及細(xì)胞代謝產(chǎn)物對(duì) DNA的損傷 。細(xì)胞呼吸的副產(chǎn)物 O2－ 和 H2O2都能造成 DNA的氧化損傷。 2. 電離輻射引起的 DNA損傷 ? 電離輻射對(duì) DN
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