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正文內(nèi)容

晶原生產(chǎn)工藝流程、設(shè)備及真空泵-展示頁(yè)

2025-07-03 12:36本頁(yè)面
  

【正文】 Cutting amp。 5)、尾部成長(zhǎng)(Tail Growth):當(dāng)晶棒長(zhǎng)度達(dá)到預(yù)定值后再逐漸加快提升速度并提高融煉溫度,使晶棒直徑逐漸變小,以避免因熱應(yīng)力造成排差和滑移等現(xiàn)象產(chǎn)生,最終使晶棒與液面完全分離。 3)、晶冠成長(zhǎng)(Crown Growth):頸部成長(zhǎng)完成后,慢慢降低提升速度和溫度,使頸部直徑逐漸加大到所需尺寸(如12吋等)。C以上,使其完全融化。IC制造流程見(jiàn)圖一。IC產(chǎn)業(yè)可分為設(shè)備業(yè)、設(shè)計(jì)業(yè)、加工業(yè)和支撐業(yè)(包括硅晶圓、各種化學(xué)試劑、氣體、引線框架等)。IC加工業(yè)本身按其順序可分為光掩膜業(yè)、制造業(yè)(包括IDM模式和Foundry模式)、封裝業(yè)和測(cè)試業(yè)?!?LED晶片生產(chǎn)流程圖:晶圓的生產(chǎn)工藝流程:   從大的方面來(lái)講,晶圓生產(chǎn)包括晶棒制造和晶片制造兩大步驟,它又可細(xì)分為以下幾道主要工序(其中晶棒制造只包括下面的第一道工序,其余的全部屬晶片制造,所以有時(shí)又統(tǒng)稱它們?yōu)榫е衅筇幚砉ば颍骸 ?晶棒成長(zhǎng) 晶棒裁切與檢測(cè) 外徑研磨 切片 圓邊 表層研磨 蝕刻 去疵 拋光 清洗 檢驗(yàn) 包裝   晶棒成長(zhǎng)工序:它又可細(xì)分為: 1)、融化(Melt Down):將塊狀的高純度復(fù)晶硅置于石英坩鍋內(nèi),加熱到其熔點(diǎn)1420176。2)、頸部成長(zhǎng)(Neck Growth):待硅融漿的溫度穩(wěn)定之后,將〈〉方向的晶種慢慢插入其中,接著將晶種慢慢往上提升,使其直徑縮小到一定尺寸(一般約6mm左右),維持此直徑并拉長(zhǎng)100200mm,以消除晶種內(nèi)的晶粒排列取向差異。 4)、晶體成長(zhǎng)(Body Growth):不斷調(diào)整提升速度和融煉溫度,維持固定的晶棒直徑,只到晶棒長(zhǎng)度達(dá)到預(yù)定值。到此即得到一根完整的晶棒。 Inspection):將長(zhǎng)成的晶棒去掉直徑偏小的頭、尾部分,并對(duì)尺寸進(jìn)行檢測(cè),以決定下步加工的工藝參數(shù)。 Shaping):由于在晶棒成長(zhǎng)過(guò)程中,其外徑尺寸和圓度均有一定偏差,其外園柱面也凹凸不平,所以必須對(duì)外徑進(jìn)行修整、研磨,使其尺寸、形狀誤差均小于允許偏差。   圓邊(Edge Profiling):由于剛切下來(lái)的晶片外邊緣很鋒利,硅單晶又是脆性材料,為避免邊角崩裂影響晶片強(qiáng)度、破壞晶片表面光潔和對(duì)后工序帶來(lái)污染顆粒,必須用專(zhuān)用的電腦控制設(shè)備自動(dòng)修整晶片邊緣形狀和外徑尺寸。
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