斷層解剖學課件1斷層頭部-展示頁
2025-06-04 12:07本頁面
【正文】 表面 。吸收系數(shù)轉換成 CT值， Hu，是相對值，水為 0 Hu，骨密質為＋ 1000 Hu，空氣為－ 1000 Hu。 當超聲傳經兩種聲阻抗不同相鄰介質的界面時，如界面的線度大于波長，則產生反射和折射，這種反射和折射回來的超聲稱為 回聲。 密度分辨力 （又稱對比度分辨力），是指能夠區(qū)分出密度微小差別的能力。 窗寬 是指 CT圖像上顯示的 CT值范圍， CT值高于或低于此范圍的結構均分別以白影或黑影顯示。 第一章 頭部斷層解剖 第一節(jié) 概述 一、境界與分區(qū) 二、標志性結構 ：恰對大腦額葉下緣。 ：耳廓尖上方 5cm處，其下 2cm處對應大腦外側溝后支末端。 ：枕外窿凸兩側，平對橫竇。經該線平面約與顱底平面一致，有利于顯示顱后窩結構及減少顱骨偽影。頭部橫斷層標本的制作多以此線為準。 RBL 與 SML 成角為 176。 176。 顱腦橫斷層掃描（ MRI、 CT ）多以此為基線。角。 腦立體定位斷層解剖 研究多以此為基線。 4. 連合間線（ intermissural line）： 5. 冠狀斷層常用基線 經外耳門中點向眥耳線所作的垂線即為 冠狀斷層常用基線。 6. 矢狀斷層常用基線 顱的正中矢狀面即為 矢狀斷層基線。中央前回 ,額上、中、下回 頂葉 中央后溝 、中央后回；頂內溝 、頂上小葉 ,頂下小葉 (緣上回、 角回、 ) 顳葉 顳上、下溝；顳上、中、下回， 顳橫回 角回 緣上回 頂枕弓 1．中央溝： 端腦上部橫斷面上最深的一條腦溝，依以下五點可準確辨認。 二、大腦半球內側面的溝和回 大腦半球內側面 胼胝體 （嘴、膝、干、壓）、扣帶溝、胼胝體溝、中央旁小葉 ,扣帶回、 距狀溝 、頂枕溝、楔回(葉 ),舌回。溝內有溝，溝內有回。 2． 外側溝 ：分垂直部和水平部，端腦中部橫斷面上 島葉與顳葉之間，顳葉與額葉或頂葉之間 。 枕顳溝 ,側副溝 ,海馬溝、枕顳內、外側回 ,海馬旁回 ,鉤 ,齒狀回 ,海馬 (海馬結構 ) 海馬 ? 基底節(jié) ：是位于大腦半球基底部的厚的灰質黑團。嘴部向下延伸與終板相連 ? 胼胝體輻射：經過胼胝體的纖維束呈扇形向兩側半球投射 胼胝體膝部 胼胝體壓部 內囊前肢 額橋束 丘腦前輻射 內囊膝 皮質核束 內囊后肢 皮質脊髓束 皮質紅核束 頂橋束 丘腦中央輻射 視輻射 枕橋束 聽輻射 顳橋束 內囊各部的投射纖維 皮質核束 皮質脊髓束 視輻射 聽輻射 額橋束 丘腦中
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