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foundry工廠專業(yè)名詞解釋—chapter1-展示頁

2025-05-22 22:25本頁面
  

【正文】 sembly)。2. 電漿光阻去除的原理,系利用氧氣在電漿中所產(chǎn)生只自由基(Radical)與光阻(高分子的有機物)發(fā)生作用,產(chǎn)生揮發(fā)性的氣體,再由幫浦抽走,達到光阻去除的目的。砷是NTYPE DOPANT 常用作N場區(qū)、空乏區(qū)及S/D植入。   14 AS75 砷 自然界元素之一;由33個質(zhì)子,42個中子即75個電子所組成。此單位常用于IC制程上,表示其層(如SiO2,Poly,SiN….)厚度時用。如SRP(Spreading Resistance Prqbing)也是應(yīng)用Angle Lapping的方法作前處理,采用的方法是以表面植入濃度與阻值的對應(yīng)關(guān)系求出Junction的深度,精確度遠超過入射光干涉法。公式為Xj=λ/2 NF即Junction深度等于入射光波長的一半與干涉條紋數(shù)之乘積。   10 ALUMINUN 鋁 此為金屬濺鍍時所使用的一種金屬材料,利用Ar游離的離子,讓其撞擊此種材料做成的靶表面,把Al的原子撞擊出來,而鍍在芯片表面上,將此當作組件與外界導線之連接。   8 AL/SI 鋁/硅 靶 此為金屬濺鍍時所使用的一種金屬合金材料利用Ar游離的離子,讓其撞擊此靶的表面,把Al/Si的原子撞擊出來,而鍍在芯片表面上,一般使用之組成為Al/Si (1%),將此當作組件與外界導線連接。   7 ALLOY/SINTER 熔合 Alloy之目的在使鋁與硅基(Silicon Substrate)之接觸有Ohmic特性,即電壓與電流成線性關(guān)系。2. 目的:在IC的制造過程中,必須經(jīng)過6~10次左右的對準、曝光來定義電路圖案,對準就是要將層層圖案精確地定義顯像在芯片上面。   5 AIR SHOWER 空氣洗塵室 進入潔凈室之前,需穿無塵衣,因在外面更衣室之故,無塵衣上沾著塵埃,故進潔凈室之前,需經(jīng)空氣噴洗機將塵埃吹掉。22達到品質(zhì)的一致性和制程之重復性。   4 AEI 蝕刻后檢查 1. 定義:AEI即After Etching Inspection,在蝕刻制程光阻去除前及光阻去除后,分別對產(chǎn)品實施全檢或抽樣檢查。發(fā)現(xiàn)缺點后,如覆蓋不良、顯影不良…等即予修改,以維護產(chǎn)品良率、品質(zhì)。5. 允許濃度1000PPM。3. 在FAB內(nèi)之用途,主要在于黃光室內(nèi)正光阻之清洗、擦拭。   2 ACETONE 丙酮 1. 丙酮是有機溶劑的一種,分子式為CH3COCH3。Foundry工廠專業(yè)名詞解釋—chapter1  1 Active Area 有源區(qū)(工作區(qū)) 有源晶體管(ACTIVE TRANSISTOR)被制造的區(qū)域即所謂的有源區(qū)(ACTIVE AREA)。在標準之MOS制造過程中ACTIVE AREA是由一層氮化硅光罩即等接氮化硅蝕刻之后的局部場區(qū)氧化所形成的,而由于利用到局部場氧化之步驟,所以ACTIVE AREA會受到鳥嘴(BIRD’S BEAK)之影響而比原先之氮化硅光罩所定義的區(qū)域來的小,’S BEAK存在,也就是說ACTIVE 。2. 性質(zhì)為無色,具刺激性及薄荷臭味之液體。4. 對神經(jīng)中樞具中度麻醉性,對皮膚黏膜具輕微毒性,長期接觸會引起皮膚炎,吸入過量之丙酮蒸汽會刺激鼻、眼結(jié)膜及咽喉黏膜,甚至引起頭痛、惡心、嘔吐、目眩、意識不明等。   3 ADI 顯影后檢查 :After Developing Inspection :檢查黃光室制程;光阻覆蓋→對準→曝光→顯影。:利用目檢、顯微鏡為之。:21提高產(chǎn)品良率,避免不良品外流。23顯示制程能力之指針24阻止異常擴大,非必要時很少作修改,因為重去氧化層或重長氧化層可能造成組件特性改變可靠性變差、缺點密度增加,生產(chǎn)成本增高,以及良率降低之缺點。   6 ALIGNMENT 對準 1. 定義:利用芯片上的對準鍵,一般用十字鍵和光罩上的對準鍵合對為之。3. 方法:、電組合代替人眼,即機械式對準。Alloy也可降低接觸的阻值。   9 AL/SI/CU 鋁/硅 /銅 金屬濺鍍時所使用的原料名稱,通常是稱為TARGET,﹪銅,1﹪﹪鋁,一般制程通常是使用99﹪鋁1﹪硅,后來為了金屬電荷遷移現(xiàn)象(ELEC TROMIGRATION)﹪銅,以降低金屬電荷遷移。   11 ANGLE LAPPING 角度研磨 Angle Lapping 的目的是為了測量Junction的深度,所作的芯片前處理,這種采用光線干涉測量的方法就稱之Angle Lapping。但漸漸的隨著VLSI組件的縮小,準確度及精密度都無法因應(yīng)。   12 ANGSTRON 埃 是一個長度單位,其大小為1公尺的百億分之一,約為人的頭發(fā)寬度
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