dna損傷,修復和基因突變-展示頁
2025-05-16 18:05本頁面
【正文】 線引起的 DNA損傷 ? 紫外線（ UV）照射引起的 DNA損傷主要是形成嘧啶二聚體 。例如，腺嘌呤的互變異構體（ A’）可以與胞嘧啶配對，模板鏈上存在這些異構體的時候，子代鏈上就可能發(fā)生錯誤，形成損傷。 ? 影響復制過程諸因素中的某一環(huán)節(jié)出現問題，錯配率就會增高，如 DNA本身功能和底物的改變， 二價陽離子 的改變等。 一、自發(fā)性損傷 1. 復制中的損傷 ? 復制中的損傷 指復制過程中堿基配對時發(fā)生的誤差再經過 DNA聚合酶“校讀”和單鏈結合蛋白等綜合因素作用下仍然存在的DNA損傷。第十一章 DNA損傷、修復和基因突變 第一節(jié) DNA損傷 ? DNA損傷即是指在生物體生命過程中 DNA雙螺旋結構 發(fā)生的任何改變。 ? DNA損傷大體上可以分為兩類： 單個堿基改變 和 結構扭曲 。正常情況下， 大腸桿菌復制過程中的錯配率為 10－ 10左右 。 2. 堿基的自發(fā)性化學改變 ? 這類損傷包括 互變異構、堿基的脫氨基作用、自發(fā)的脫嘌呤和脫嘧啶、以及細胞代謝產物對 DNA的損傷 。細胞呼吸的副產物 O2－ 和 H2O2都能造成 DNA的氧化損傷。 2. 電離輻射引起的 DNA損傷 ? 電離輻射對 DN
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