化工單元操作ppt課件-展示頁
2025-05-15 12:14本頁面
【正文】 對設(shè)備強度、制造、操作等方面的考慮，實際上，通常采用提高轉(zhuǎn)速并適當縮小半徑的方法來獲得較大的 Kc。 離心沉降速度： 離心沉降速度是指重相顆粒相對于周圍流體的運動速度 。沉降時間 θt為 為滿足除塵要求，氣流的停留時間至少必須與顆粒的沉降時間相等，即應(yīng)有 θ≥ θ t。若氣流在整個流動截面上均勻分布，則任一流體質(zhì)點進入至離開降塵室的時間間隔 (停留時間 ) θ為 第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 垂直方向上，顆粒在重力作用下以沉降速度向下運動。 顆粒在降塵室內(nèi)的運動情況如圖所示。實際上為避免沉下的塵粒重新被揚起，往往采用更低的氣速。 ③連續(xù)相流體在沉降方向上不發(fā)生運動。 ②顆?？梢暈榍蛐瘟Ｗ印蛩匐A段中顆粒相對于流體的運動速度 ut稱為沉降速度。 ?顆粒沉降時加速運動階段時間很短，在整個沉降過程中往往可以忽略。 第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 自由沉降： 顆粒在沉降過程中不受流體及其它粒子的影響的沉降過程。 4．環(huán)境保護 第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 二、重力沉降 沉降操作是靠重力的作用，利用分離物質(zhì)與分散介質(zhì)的密度差異，使之發(fā)生相對運動而分離的過程，在重力的作用下，發(fā)生的沉降過程稱為重力沉降。 2．收集分散物質(zhì)。 2．液態(tài)非均相物系 如乳濁液、懸浮液、泡沫液等。第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 知識目標： ●了解非均相物系分離、膜分離及冷凍操作技術(shù)的設(shè)備結(jié)構(gòu)、特點及應(yīng)用 ●理解非均相物系分離、膜分離及冷凍操作技術(shù)的工作原理及流程 ●掌握其過程計算 能力目標： ●了解主要設(shè)備的操作 第六章 其他單元操作技術(shù) 第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 一、非均相物系分離的分類及應(yīng)用 非均相混合物 ：物系內(nèi)部存在相界面，且界面兩側(cè)的物料性質(zhì)截然不同 分散物質(zhì)（分散相）： 非均相物系中，處于分散狀態(tài)的物質(zhì) 。 分散介質(zhì)（連續(xù)相） ： 包圍分散物質(zhì)而處于連續(xù)狀態(tài)的流體 第一節(jié) 非均相物系分離技術(shù) 第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 非均相物系分類： 1． 氣態(tài)非均相物系 如含塵氣體 ， 含霧氣體等 。 第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 非均相物系分離方法： ?沉降 ?過濾 ?濕法分離 ?靜電分離 非均相物系分離在化工生產(chǎn)中的應(yīng)用： 1．滿足對連續(xù)相或分散相進一步加工的需要。 3．凈化分散介質(zhì)。 重力沉降可分為自由沉降和干擾沉降。 顆粒的自由沉降過程分析 : ?顆粒在靜止流體中的沉降過程可分為兩個階段，第一階段為加速運動，第二階段為勻速運動。整個沉降過程可視為勻速運動過程。 第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 2/13)(4?????? ?????? stdgu重力沉降速度 : 阻力系數(shù) : 滯流區(qū)或斯托克斯（ Stokes）定律區(qū)（ 10－ 4 Ret 1） ζ= 過渡區(qū)或艾侖 (Allen)定律區(qū) (1 Ret103) ζ= 湍流區(qū)或牛頓 (Newton)定律區(qū)（ 103 Ret2 105） ζ= tRe24t第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 重力沉降速度 : 滯流區(qū) 過渡區(qū) 湍流區(qū) ???18)(2 gdu st?? )(1 5 ???????? ?????? stgdu2/1)(?????? ????? gdu st第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 沉降速度的計算 : 1．試差法 2．用無因次數(shù)群 K值判斷流型 說明： ①沉降可視為自由沉降。若實際顆粒為非球形顆粒時，應(yīng)先以實際顆粒的當量直徑 de計算，后確定實際顆粒的沉降速度 ut。 第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 其它因素對沉降速度的影響 (1) 干擾沉降 (顆粒含量 ) (2)顆粒大小 (3)流體性質(zhì) (4) 非球形 (顆粒形狀 ) 閱讀課文，回答問題 (5)流體流動 (6)器壁 第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 重力沉降設(shè)備 （ 1）結(jié)構(gòu) （ 2）操作 （ 3）降塵條件 （ 4）生產(chǎn)能力 第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 降塵室的容積一般較大，氣體在其中的流速 1m/s。通常它可捕獲大于 50μm 的粗顆粒。設(shè)有流量為 V(m3/s)的含塵氣體進入降塵室，降塵室的底面積為 A，高度為 H。設(shè)大于某直徑的顆粒必須除去，該直徑的顆粒的沉降速度為 ut。 vv qB H LBHqLuL ???)/(?tt uH??則 降塵室的生產(chǎn)能力 ： qv≤bl ut 第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 思考： ？ 2. 將降塵室設(shè)計為多層隔板式的原因是什么？ 多層降塵室 第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 三、離心沉降 離心沉降是利用連續(xù)相與分散相在離心力場中所受離心力的差異使重相顆粒迅速沉降實現(xiàn)分離的操作。 第六章 其它單元操作技術(shù) 化工單元操作技術(shù) 滯流區(qū) ur= 過渡區(qū) ur =
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