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等離子體清洗技術(shù)ppt課件-展示頁

2025-01-24 06:54本頁面

　　

【正文】體清洗 ? 傳統(tǒng)的濕法清洗 ? 典型的為 RCA清洗工藝，使用化學(xué)品（ SC SC2 、 piranha溶液等）和超純水 ? 存在缺點(diǎn)： ? ? ，需要反復(fù)清洗 ? ? ? 二、等離子體清洗 ? 新出現(xiàn)等離子體干法清洗被考慮為濕法清洗的主要替代。二、等離子體清洗 ? 輝光放電 ? 通過在混合氣體中施加直流電壓或者射頻（ RF）范圍內(nèi)使用交流電都可以產(chǎn)生輝光放電。 ? 高能電子與中性原子或離子相撞并激發(fā)它們。二、等離子體清洗 ? 等離子體清洗的分類 ? 根據(jù) 反應(yīng)類型分為： ? 物理反應(yīng)（濺射 SPE或離子銑 IM）：活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面最終被真空泵吸走化學(xué)反應(yīng) :活性粒子與表面雜質(zhì)反應(yīng)生成易揮發(fā)的物質(zhì)，被真空泵抽走二、等離子體清洗 ? 簡(jiǎn)單平行金屬板直流二極管濺射系統(tǒng) 尾氣 e e e D

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