高電壓工程基礎(chǔ),施圍邱毓昌第2章氣體放電的基本物理過程-展示頁
2025-01-17 13:24本頁面
【正文】 熱力學(xué)溫度 （ 2）光電離 Wh??普朗克常數(shù) 1034Js （ 3）碰撞電離 ihcW? ?條件：212 im v e E x W??iUxE?條件：高電壓工程基礎(chǔ) （ 4）分級電離 原子中電子在外界因素的作用下可躍遷到能級較高的外層軌道，稱之為激勵(lì)，所需的能量稱為激勵(lì)能。 高電壓工程基礎(chǔ) ? 電極表面的電子逸出 一些金屬的逸出功 金屬 逸出功 鋁 銀 銅 鐵 氧化銅 （ 1）正離子撞擊陰極 （ 2）光電子發(fā)射 （ 3）強(qiáng)場發(fā)射 （ 4）熱電子發(fā)射 高電壓工程基礎(chǔ) ? 氣體中負(fù)離子的形成 電子與氣體分子或原子碰撞時(shí)，也有可能發(fā)生電子附著過程而形成負(fù)離子，并釋放出能量，稱為 電子親合能 。 元素 電子親合能（ eV） 電負(fù)性值 F Cl Br I 負(fù)離子的形成使自由電子數(shù)減少，因而 對放電發(fā)展起抑制作用 。 高電壓工程基礎(chǔ) ? 帶電質(zhì)點(diǎn)的消失 （ 1）帶電質(zhì)點(diǎn)的擴(kuò)散 帶電質(zhì)點(diǎn)從濃度較大的區(qū)域向濃度較小的區(qū)域的移動(dòng)，從而使?jié)舛茸兊镁鶆虻倪^程，稱為帶電質(zhì)點(diǎn)的擴(kuò)散。 （ 2）帶電質(zhì)點(diǎn)的復(fù)合 帶異號電荷的質(zhì)點(diǎn)相遇，發(fā)生電荷的傳遞和中和而還原為中性質(zhì)點(diǎn)的過程，稱為復(fù)合。帶電質(zhì)點(diǎn)的復(fù)合率與正、負(fù)電荷的濃度有關(guān)，濃度越大則復(fù)合率越高。電壓到達(dá) U0后，電流劇增，間隙中電離過程只靠外施電壓已能維持，不再需要外電離因素。 0 e xnn ??高電
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