【正文】 安排線內(nèi)外教育訓練 建立教育訓練系統(tǒng) 4學個時 /人 標準化 無標準化 人員教育訓練 1. 隨線抽檢漏檢率平均 % D A P C 2. 每月人均培訓課時 4H達成91% 0 . 72 %1 . 01 % 1 . 03 %2 . 92 %0 . 81 %1 . 00 %0 . 99 % 1 . 05 %1 . 26 %1 . 16 %0 . 64 %0 . 38 %0 . 00 % 0 . 00 % 0 . 00 % 0 . 00 % 0 . 00 % 0 . 00 % 0 . 00 % 0 . 00 % 0 . 00 % 0 . 00 %1 . 08 % 1 . 11 % 1 . 03 %0 . 81 %1 . 21 %1 . 57 %1 . 16 %0 . 69 %0 . 43 %0 . 00 %0 . 50 %1 . 00 %1 . 50 %2 . 00 %2 . 50 %3 . 00 %3 . 50 %050000100000150000202300250000Ja n F e b W 11 W 12 W 13 W 14 W 15 W 16 W 17 W 18 W 19 W 20 W 21 W 22 W 23 W 24 W 25 W 26 W 27 W 28 W 29 W 30 0隨 線 抽 檢 良 率 趨 勢 圖A I S 抽檢數(shù)量 CT 2 抽檢數(shù)量A I S 漏檢比率 CT 2 漏檢比率T a r g e t1 12 2 2 2 2 2 2 2321 12 232 2 23 3 3 301234567W 1 0 W 1 1 W 1 2 W 1 3 W 1 4 W 1 5 W 1 6 W 1 7 W 1 8 W 1 9 W 2 0 W 2 1 W 2 2 W 2 3 W 2 5 W 2 7 W 2 9 W 3 1線外培訓 線內(nèi)培訓T a r g e t T o t a l HLEAN SYSTEM 幸福 總分大於 1 5 1 . 2 即列為要因 (6 3 * 3 * 8 0 % = 1 5 1 . 2 )為何P o lL o s s壓傷刺傷偏高人員作業(yè)技能不足T r a y 盤臟污 / 破損光源光線不合理電檢棚空氣不流通機臺內(nèi)部環(huán)境差總分是否實施實施時間責任人評估項目問題點 真因 擬定對策 降低 Pola Loss改善對策 通過 5個造成偏損飆高的要因 ,對重要性 ,影響性 ,迫切性 ,擬定 10個對策 HLEAN SYSTEM 幸福 精益 高效企業(yè)管理系統(tǒng)！ 我們關注企業(yè)的愿景，是幫助企業(yè)提升競爭力的發(fā)動機！ 17 要因分析與真因驗證 電檢棚規(guī)格 : 尺寸 :(L)*(W)*2(H) 作業(yè)員 : 3人 電檢棚實物圖 1. 為防止 Clean Room照明燈光干擾 CT2檢測棚均用黑色簾幕遮擋 2. 棚內(nèi)空間狹小 ,相對密閉 ,由於人員呼吸 /機臺散熱 /燈光照明等因素 3. 造成內(nèi)部空氣混濁 ,人員情緒煩躁 真因五 : 電檢棚內(nèi)空氣不流通 佐證的證據(jù) 結論 1. 由於空間狹小 ,相對密閉導致電檢棚內(nèi)空氣無法流通 ,空氣質量差人員容易疲倦 2. 電測棚封閉無法隨時監(jiān)控在檢人員紀律及作業(yè)狀況 HLEAN SYSTEM 幸福 ) HLEAN SYSTEM 幸福 精益 高效企業(yè)管理系統(tǒng)！ 我們關注企業(yè)的愿景，是幫助企業(yè)提升競爭力的發(fā)動機！ 15 要因分析與真因驗證 1. 機臺內(nèi)部機構運行 ,磨損造成內(nèi)部環(huán)境惡化 ,存在污染源 2. Pol保護膜與 Pol分離 ,治具吸附 /破真空摩擦落屑 ,產(chǎn)生 Particle,存在污染源 3. 機臺 PM手法不規(guī)範 ,PM點位不明確存在保養(yǎng)盲點 真因二 : 機臺內(nèi)部潔淨度差 佐證的證據(jù) 結論 P A 8 1 2 P a rt i c l e c h a rt030060090012001500W 1 4 W 1 5 W 1 6 4 / 1 9 4 / 2 0 4 / 2 1 4 / 2 2 4 / 2 3P A 8 P A 9 P A 1 0 P A 1 1 L C L PM (Production Maintain) 效果差 PM頻率為一班 2次 ,可能殘留 particle 環(huán)測 4條線 particle平均 1025顆 /M179。 精益 高效企業(yè)管理系統(tǒng)！ 我們關注企業(yè)的愿景，是幫助企業(yè)提升競爭力的發(fā)動機！ 13 要因分析與真因驗證 真因驗證對象 人 料 機臺內(nèi)部潔淨度差 作業(yè)技能不足 人員調動頻繁 Pol邊緣殘膠污染 治具磨損掉屑 機 DI Water不達標 注意力不集中 法 培訓流程不規(guī)範 作業(yè)手法不規(guī)範 環(huán) 光源設置不合理 電檢棚空氣不流通 機臺噪音大 眼睛疲勞 貼片 Stage臟污 Glass表面污染 Pol平整度不佳 UPH不合理 Defect規(guī)格不明確 真因 次要因素 為何 Pol壓傷 /刺傷偏高 ? Tray贓污 /破損 HLEAN SYSTEM 幸福 精益 高效企業(yè)管理系統(tǒng)！ 我們關注企業(yè)的愿景，是幫助企業(yè)提升競爭力的發(fā)動機！ 12 要因分析與真因驗證 原因匯總表 經(jīng)過全體圈員對重要性 ,影響性 ,迫切性分析 ,選定其中 5項為要因 ! 重要性 影響性 迫切性注意力不集中 42 51 43 136眼睛疲勞 47 56 49 152人員調動頻率大 39 46 37 122作業(yè)技能不足 52 54 50 156治具磨損掉屑 42 45 46 133內(nèi)部潔淨度差 48 50 55 153D I W a t e r 不達標 45 39 28 112貼片 S t a g e 污染 39 51 42 132Tra y盤贓污/破損 51 56 58 165G l a s s 切割不平整 32 41 34 107P o l 切割邊緣污染 41 48 45 134G l a s s 表面贓污 39 44 37 120P o l 來料平整度差 36 35 29 100U P H 設定不合理 45 50 42 137作業(yè)手法不規(guī)範 45 48 46 139培訓流程不規(guī)範 32 41 34 107D e f e c t 規(guī)格不明確 45 39 28 112光源設置不合理 52 56 58 166高速機臺噪音大 45 48 19 112電檢棚空氣