干膜光致抗蝕劑的技術(shù)條件-文庫吧資料
2024-09-04 20:54本頁面
【正文】 對 光的透過率不好，在抗蝕層較厚時(shí)，如上層的曝光量合適，下層就可能不發(fā)生反應(yīng)，顯影后抗蝕 層的邊緣不整齊，將影響圖像的精度和分辨率，嚴(yán)重時(shí)抗蝕層容易發(fā)生起翹和脫落現(xiàn)象。干膜的深度曝光性很重要。通常干膜的最佳曝 光時(shí)間選擇在最小曝光時(shí)間與最大曝光時(shí)間之間。 干膜曝光一段時(shí)間后，經(jīng)顯影，光致抗蝕層已全部或大部分聚合，一般來說所形成的圖像 可以使用，該時(shí)間稱為最小曝光時(shí)間。 感光速度是指光致抗蝕劑在紫外光照射下，光聚合單體產(chǎn)生聚合反應(yīng)形成具有一定抗蝕、 能力的聚合物所需光能量的多少。故可選用低壓鈉燈作為干膜操作的安全光。高壓汞燈及鹵化物燈在近紫外區(qū)附近輻射強(qiáng)度較大，均可作為干膜曝光的光源?！?光譜特性 在紫外——可見光自動(dòng)記錄分光光度計(jì)上制作光譜吸收曲線(揭去聚乙烯保護(hù)膜，以聚酯 薄膜作參比，光譜波長為橫坐標(biāo)，吸收率即光密度D作縱坐標(biāo))，確定光譜吸收區(qū)域波長及安 全光區(qū)域?！蚓垡蚁┍Ｗo(hù)膜的剝禺性 要求揭去聚乙烯保護(hù)膜時(shí)，保護(hù)膜不粘連抗蝕層。16．5 寬度(mm) 485,300177。30．5177。10．5 177。2．5177。表7—2 干膜的厚度及尺寸公差規(guī)格名稱標(biāo)稱尺寸公 差一級(jí)二級(jí)厚度(um)聚酯片基光致抗蝕層聚乙烯保護(hù)膜總厚度25～30235025～30 75～110 177。如用于掩孔，光致抗蝕層厚度應(yīng)達(dá)到50μm?！蚬庵驴刮g層厚度一般在產(chǎn)品包裝單或產(chǎn)品說明書上都標(biāo)出光致抗蝕層的厚度，可根據(jù)不同的用途選用不 同厚度的干膜。折痕不允許。流膠不允許。劃傷 不允許。，～≤15個(gè)／平方米機(jī)械雜質(zhì)不允許有明顯的機(jī)械雜質(zhì)。氣泡、針孔，～＜20個(gè)平方米。色澤淺色，不允許有明顯的色不均勻現(xiàn)象。 干膜外觀具體技術(shù)指標(biāo)如表
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