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正文內(nèi)容

膜厚分布與監(jiān)控技術(shù)-文庫吧資料

2024-08-29 01:28本頁面
  

【正文】 薄膜的厚度和折射率分別是 Df 和 nf,入射單色光波長為 ?, 空氣的折射率 n0≈1,則 P 點(diǎn)處反射光 ADP與折 反射光 CEP 間的光程差 ? 滿足 : 式中: ? — 折射角,滿足: 4)干涉條件: ? 干涉極大條件 —— ? 是 ? 的整數(shù)倍,即: ? = N?; ? 干涉極小條件 —— ? = (N+1/2)? ! 可見: 利用光的干涉實(shí)現(xiàn)對薄膜厚度的測量,需要設(shè)計(jì)出對光強(qiáng)空間 分布變化的具體測量方法! 光學(xué)干涉 法 光的干涉現(xiàn)象及其實(shí)現(xiàn)薄膜厚度測量的原理 6)(5 c os2)( ?? ?????? fff DnANBCABn7)(5 s in39。 近似公式: ? 磨坑直徑及磨穿區(qū)寬度 磨球直徑 Db 時(shí), 任意一層薄膜的厚度 D 近似滿足: 式中: d — 該層薄膜下表面對應(yīng)磨坑直徑; y — 該層薄膜對應(yīng)的磨穿區(qū)寬度。 探針法的測量原理 探針法 (粗糙度儀 ) 非原位測量 臺階儀 (Stylus Profilometer) 測量原理: 用高硬度的磨球通過傳動機(jī)構(gòu)在薄膜表面接觸滾動, 待薄膜磨穿之后,測量磨坑直徑和薄膜磨穿區(qū)寬度, 進(jìn)而通過幾何關(guān)系折算出薄膜的厚度。 ? 可同時(shí)測得薄膜的表面粗糙度及膜厚! 儀器特征: 1)探針:一般為金剛石,頭部磨成 R= 210 ?m的圓弧形; 2 分辯率: 1 nm (機(jī)械 /光電放大位移量 103106倍 )。 一束激光從懸臂梁上反射到感知器,這樣就能實(shí)時(shí)給出高度的偏移值。由于針尖尖端原子與樣品表面原子間存在極微弱的排斥力( 108~106N),通過在掃描時(shí)控制這種力的恒定,帶有針尖的微懸臂將對應(yīng)于針尖與樣品表面原子間作用力的等位面而在垂直于樣品的表面方向起伏運(yùn)動。 2/320 ])/(1[1hltt??220 ])/(1[1hltt??下圖表示與蒸發(fā)源
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