【正文】 質(zhì)的處置單位進(jìn)行妥善處理。本項(xiàng)目根據(jù)各種固體廢物的產(chǎn)生來(lái)源、組成及性質(zhì)，對(duì)照《國(guó)家危險(xiǎn)廢物名錄》，將固體廢物分為危險(xiǎn)廢物和一般固體廢物。經(jīng)上述治理后可有效的減少各類噪聲源在廠區(qū)內(nèi)外的擴(kuò)散，降低噪聲對(duì)環(huán)境造成的污染，廠區(qū)附近環(huán)境噪聲基本能達(dá)到《工業(yè)企業(yè)廠界噪聲標(biāo)準(zhǔn)》中的Ⅲ類標(biāo)準(zhǔn)。以減少噪聲的對(duì)外傳播。因此從接收水量、接管標(biāo)準(zhǔn)、時(shí)間和管網(wǎng)布設(shè)等方面綜合考慮，本項(xiàng)目廢水排入真州污水處理廠是可行的。本項(xiàng)目廢水經(jīng)廠區(qū)自建廢水處理設(shè)施處理后各項(xiàng)污染物濃度均低于接管標(biāo)準(zhǔn)限值。建設(shè)項(xiàng)目在污水收集范圍之內(nèi)。圖44 真州污水處理廠廢水處理工藝流程圖改良A2/O曝氣池泥餅外運(yùn)回流鼓風(fēng)機(jī)房紫外線殺毒沉渣外運(yùn)粗格柵進(jìn)水泵房沉砂池細(xì)格柵二沉池接觸消毒池出水至長(zhǎng)江儀征段排江泵房污泥泵房?jī)?chǔ)泥濃縮脫水間剩余污泥進(jìn) 水其工藝主要特點(diǎn)如下:①污染物去除效率高,運(yùn)行穩(wěn)定。工藝流程見(jiàn)圖44。真州污水處理廠服務(wù)范圍主要包括儀征主城區(qū)、汽車工業(yè)園、揚(yáng)州化學(xué)工業(yè)園（管道路以東）、儀征經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)（包括船舶工業(yè)園）等范圍。(c) 真州污水處理廠概況,主要接納生活污水和工業(yè)廢水。濃縮后的污泥由泵送入到廂式壓濾機(jī)，脫水的泥餅裝袋后委托處理。具體廢水工藝流程見(jiàn)圖43。經(jīng)過(guò)廢水處理設(shè)施處理過(guò)的廢水達(dá)到真州污水處理廠的接管標(biāo)準(zhǔn)，與生活污水接入真州污水處理廠處理達(dá)到《城鎮(zhèn)污水處理廠排放標(biāo)準(zhǔn)》（JB181982002）表1中一級(jí)B級(jí)標(biāo)準(zhǔn)后，統(tǒng)一排入長(zhǎng)江儀征段，廢水排放標(biāo)準(zhǔn)見(jiàn)表41。④一般廢水一般廢水來(lái)自拋光片的最后一道清洗和外延片的第一道清洗水，此類廢水較為清潔，直接排至混合廢水調(diào)節(jié)池中，與其他廢水一起處理。③切片倒角廢水、研磨廢水、拋光廢水切片倒角用水噴淋硅粉產(chǎn)生的切片倒角廢水；研磨廢水主要來(lái)源于研磨清洗工序；拋光廢水主要來(lái)源于拋光清洗工序。由于酸堿廢水中主要成分是無(wú)機(jī)酸、堿，故采用化學(xué)中和法處理。沉淀池污泥經(jīng)污泥濃縮，用污泥泵送至污泥脫水機(jī)干化后運(yùn)至指定地點(diǎn)填埋。廢水先進(jìn)入混凝反應(yīng)槽，在凝反應(yīng)槽內(nèi)投加H2SOPAC、PCM、Ca(OH)2，然后進(jìn)入沉淀池進(jìn)行固液分離。含氟廢水排至生產(chǎn)廢水處理站相應(yīng)的集水池。廢水中的主要污染因子為：COD、SS、氟化物、NH3N、TP。根據(jù)工程中廢水來(lái)源、廢水水質(zhì)的不同，將廢水按種類分為切片倒角廢水、研磨廢水、拋光廢水、酸性廢水、堿性廢水、含氟廢水、含氨廢水、一般清洗水、廢氣洗滌水、生活污水和清下水（包括鍋爐排水、純水制備產(chǎn)生的濃水、空調(diào)系統(tǒng)排水）。只要加強(qiáng)管理、嚴(yán)格按照廢氣治理措施進(jìn)行運(yùn)營(yíng)，本項(xiàng)目中產(chǎn)生的廢氣污染物在滿足達(dá)標(biāo)排放的前提下，會(huì)盡可能的減少向周圍環(huán)境的排放量，使其對(duì)大氣環(huán)境的影響得到合理的控制與減緩。特種廢氣HCl、SiHCl3和微量B2H6的去除率達(dá)到99%，微量PH3的去除率約1%。（3）特種廢氣對(duì)外延生產(chǎn)工序產(chǎn)生的特種廢氣HCl、SiHCl3以及微量的PH3和B2H6經(jīng)過(guò)收集后進(jìn)入濕式外延清洗器，采用5段水噴淋和水洗方式對(duì)外延尾氣進(jìn)行充分的水洗和稀釋，將其中絕大部分的HCl、SiHClB2H6和微量的PH3溶解于水，經(jīng)過(guò)水洗后的尾氣在設(shè)備中被大量的空氣稀釋，再通過(guò)管道向室外高空排放；廢氣洗滌水進(jìn)入廢水處理設(shè)施處理。凈化后的廢氣通過(guò)排氣筒排入大氣。洗滌液廢氣洗滌塔主風(fēng)管支風(fēng)管引風(fēng)機(jī)廢氣洗滌循環(huán)水池進(jìn)入廢水處理系統(tǒng)排放圖42酸、堿廢氣處理系統(tǒng)流程圖洗滌塔采用氣液逆向吸收方式處理，即吸收液霧撒而下形成小水滴，氣體由塔底向上逆流而上，使氣體充分接觸。酸、堿廢氣系統(tǒng)處理能力分別為80000m3/h，15000m3/h。具體工藝流程見(jiàn)圖41。廢氣處理主要工藝具體如下：（1）有機(jī)廢氣清洗工序產(chǎn)生的有機(jī)廢氣甲苯、異丙醇通過(guò)集氣罩、風(fēng)管導(dǎo)入吸附設(shè)備，利用活性炭的表面吸附力去除甲苯、異丙醇，凈化后的廢氣通過(guò)排氣筒直接排入大氣。表317 項(xiàng)目固體廢物產(chǎn)生及排放情況序號(hào)名稱分類編號(hào)產(chǎn)生量（t/a）形狀處置方式1廢有機(jī)溶劑S5HW42液委托有資質(zhì)的單位處理2廢硫酸SS1S20HW1730液3廢氫氟酸SSS1S1S2S24HW1796液4廢鹽酸SS1S21HW1720液5廢混酸S1S26HW17300液6廢堿液S12HW17111液7廢活性炭HW062固8含氟污泥HW32620固9廢氨水SS1S20188固由相應(yīng)的單位回收利用或處置10廢研磨劑141液11廢拋光劑170液12單晶硅渣71固13廢石墨固14廢石英固15廢品125固16生活垃圾固按環(huán)衛(wèi)部門要求處理合計(jì)4 污染防治措施 大氣污染防治措施評(píng)述(a) 大氣污染源根據(jù)工程分析，擬建項(xiàng)目的主要大氣污染源有：?jiǎn)尉Ч钂伖馄谱鳟a(chǎn)生的甲苯、異丙醇、HF、HCl、硫酸霧、NHNOx；硅外延片制作產(chǎn)生的硫酸霧、NHHCl、SiHCl3和微量的PHB2H6；外延爐的石英管清洗產(chǎn)生HF、NOx。（4）固體廢物產(chǎn)生及排放情況建設(shè)項(xiàng)目產(chǎn)生的固體廢物種類主要包括硅片表面處理產(chǎn)生的廢有機(jī)溶劑、廢活性炭、表面處理廢物（包括廢硫酸、廢氫氟酸、廢鹽酸、廢混酸和廢堿）、污水處理產(chǎn)生的含氟污泥、廢氨水、廢研磨劑、廢拋光劑、單晶硅渣、廢石墨、廢石英以及生活垃圾等，具體產(chǎn)生與排放處置情況見(jiàn)表317。主要設(shè)備噪聲源產(chǎn)生情況311。建設(shè)項(xiàng)目水污染物的三本帳見(jiàn)表310。表38 無(wú)組織排放廢氣產(chǎn)生源強(qiáng)序號(hào)污染物名稱污染源位置污染物產(chǎn)生量t/a面源面積m2面源高度m1HF各清洗區(qū)化學(xué)品倉(cāng)庫(kù)601~92HCl 801~93NOx1201~94H2SO4801~95NH3601~9（2）水污染物產(chǎn)生及排放情況項(xiàng)目各類廢水的來(lái)源、類別及排放量詳見(jiàn)39。項(xiàng)目的生產(chǎn)車間設(shè)計(jì)為密閉的車間，廢氣收集效率較高，達(dá)到99%。擬建工程大氣污染物三本帳情況見(jiàn)表37。?有組織排放廢氣項(xiàng)目在生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的有組織排放廢氣的種類與產(chǎn)生環(huán)節(jié)見(jiàn)表36。一定的壓力下，碳分子篩對(duì)空氣中的氧的吸附遠(yuǎn)大于氮，因此通過(guò)可編程序控制氣動(dòng)閥的啟閉，A、B兩塔可以交替循環(huán)，加壓吸附、減壓脫附，完成氧氮分離，得到所需純度的氮?dú)狻?f) 氫氣、氮?dú)獾墓?yīng)生產(chǎn)工藝中需要的氫氣、氮?dú)庥纱笞跉怏w供應(yīng)商在本廠區(qū)建造配套氣站，供應(yīng)氫氣和氮?dú)?。生產(chǎn)廢水經(jīng)過(guò)有效預(yù)處理達(dá)到接管標(biāo)準(zhǔn)后與生活污水通過(guò)開(kāi)發(fā)區(qū)管網(wǎng)排入真州污水處理廠集中處理，達(dá)標(biāo)后排入長(zhǎng)江儀征段。(d) 純水制備項(xiàng)目設(shè)有一套超純水制備設(shè)施，其制備能力為110t/h，產(chǎn)生的濃水和反沖洗水642t/d作為清下水排放，其超純水制備工藝流程如下：自來(lái)水加絮凝劑原水箱原水泵機(jī)械過(guò)濾器活性炭吸附器熱交換器5μ保安過(guò)濾Ⅰ級(jí)高壓泵器Ⅰ級(jí)RO裝置器Ⅱ級(jí)高壓泵器Ⅱ級(jí)RO裝置器真空脫氣裝置中間水箱中間水泵EDI裝置氮封純水箱純水泵拋光樹(shù)脂床TOC殺菌器器超過(guò)濾器器生產(chǎn)工藝用水水箱水泵循環(huán)冷卻系統(tǒng)器冷卻器圖35 超純水制備工藝流程圖清洗裝置清洗裝置pH調(diào)節(jié)加阻垢劑(e) 排水項(xiàng)目采用雨污分流、清污分流的排水體制。(b) 供水項(xiàng)目供水由開(kāi)發(fā)區(qū)的給水管網(wǎng)提供，開(kāi)發(fā)區(qū)內(nèi)建有日供水能力20萬(wàn)噸的自來(lái)水廠二座。研磨劑SiO230%，有機(jī)堿 70%水60t6t精磨劑SiO210%，(C6H10O5)n，1%無(wú)機(jī)堿水89%40t4t精磨劑SiO210%1t磨片劑Al2O3≧45%ZrO2≦33%SiO2≦20%Fe2O3≦%TiO2≦2%101t9t溶劑(CH3)2CHOH 56%C6H5CH3 24%固形分 20%4t混酸HF %HNO3 %CH3COOH %280t1t氫氟酸HF 49%80t1t單晶硅拋光片和硅外延片鹽酸HCl 35%12t1tH2O2H2O2 31%290t25tHNO363%54L5LH2SO498%3750L312LNaOHNaOH 48%68 t6tNaOHNaOH 3%25 t氨水NH4OH 28%180 t3t硅襯底材料%64萬(wàn)片6萬(wàn)片SiHCl312tHCl石英（配件）SiO2石墨（配件）CPH3B2H6H2%以上36萬(wàn)m3N2%以上、%90萬(wàn)m3工藝真空壓縮空氣87萬(wàn)m3活性炭新鮮水自來(lái)水H2O1022045t——水網(wǎng)電電——電網(wǎng)燃料燃?xì)馓烊粴狻獨(dú)饩W(wǎng) 主要生產(chǎn)、公用及貯運(yùn)設(shè)備項(xiàng)目主要的生產(chǎn)、公用、貯運(yùn)設(shè)備見(jiàn)表35。表33 主要原輔料及能源消耗類別名稱重要組份、規(guī)格、指標(biāo)年耗量存貯量來(lái)源及運(yùn)輸單晶硅拋光片和硅外延片單晶硅棒%Si2000t167t主要原輔料進(jìn)口，部分于國(guó)內(nèi)購(gòu)買。外延爐石英管清洗：在外延生長(zhǎng)中會(huì)在外延爐的石英管上沉積一些雜質(zhì)。此處會(huì)產(chǎn)生一些廢品。堿洗：去除上一道工序在硅片表面形成的氧化膜。具體反應(yīng)如下：SPM清洗：去除硅片表面的雜質(zhì)。有99% 的SiHClPHB2H6參加反應(yīng)。二、硅外延片制作純水洗硅襯底材料檢測(cè)外延生長(zhǎng)測(cè)試檢驗(yàn)真空包裝外延爐石英管清洗HCl+NHSiHClPHB2HN石英、石墨G14 SS21混酸G17~18 S23水洗純水W26圖33 硅外延生產(chǎn)工藝流程及產(chǎn)污節(jié)點(diǎn)圖圖34 外延爐石英管清洗工序及產(chǎn)污節(jié)點(diǎn)圖S24水SPM清洗純水洗堿清洗純水洗硫酸、雙氧水水水氨水G15 S22W23W24G16 S23W25生產(chǎn)工藝流程具體介紹如下：純水洗：簡(jiǎn)單清洗，去除硅襯底材料表面的表面雜質(zhì)。檢測(cè)：查看硅片表面是否清潔，表面如不清潔則從新刷洗，直至清潔。產(chǎn)生精拋廢液。此處產(chǎn)生粗拋廢液。分檔監(jiān)測(cè)：對(duì)硅片進(jìn)行損傷檢測(cè)，存在損傷的硅片重新進(jìn)行腐蝕。腐蝕A是酸性腐蝕，用混酸溶液去除損傷層，產(chǎn)生氟化氫、NOX和廢混酸；腐蝕B是堿性腐蝕，用氫氧化鈉溶液去除損傷層，產(chǎn)生廢堿液。磨片檢測(cè)：檢測(cè)經(jīng)過(guò)研磨、RCA清洗后的硅片的質(zhì)量，不符合要求的則從新進(jìn)行研磨和RCA清洗。此工序產(chǎn)生氯化氫和廢鹽酸。此處產(chǎn)生氨氣和廢氨水。此過(guò)程產(chǎn)生氟化氫和廢氫氟酸。此工序會(huì)產(chǎn)生硫酸霧和廢硫酸。具體工藝流程如下：SPM清洗純水洗DHF清洗純水洗APM清洗HPM清洗純水洗DHF清洗純水洗圖32 RCA清洗工藝流程及產(chǎn)污節(jié)點(diǎn)圖硫酸、雙氧水氫氟酸氨水、雙氧水鹽酸、雙氧水氟化氫G SW4G SW5G SW6W7W8W9W10G SG S純水洗熱水洗純水洗水水水水水水水SPM清洗：用H2SO4溶液和H2O2溶液按比例配成SPM溶液，SPM溶液具有很強(qiáng)的氧化能力，可將金屬氧化后溶于清洗液，并將有機(jī)污染物氧化成CO2和H2O。此工序產(chǎn)生有機(jī)廢氣和廢有機(jī)溶劑。此過(guò)程產(chǎn)生廢磨片劑。此處會(huì)產(chǎn)生廢品。此過(guò)程中產(chǎn)生的硅粉采用水淋，產(chǎn)生廢水和硅渣。退火：雙工位熱氧化爐經(jīng)氮?dú)獯祾吆?，用紅外加熱至300~500℃，硅片表面和氧氣發(fā)生反應(yīng)，使硅片表面形成二氧化硅保護(hù)層。切片：將單晶硅棒切成具有精確幾何尺寸的薄硅片。工作制度：預(yù)計(jì)年工作日355天，每天工作24小時(shí)，年工作時(shí)數(shù)為8520小時(shí)。綠化為美化環(huán)境、凈化空氣、降低噪聲，廠內(nèi)在空閑地帶、道路兩側(cè)進(jìn)行種草