水處理基礎(chǔ)知識(shí)試題和答案-文庫(kù)吧資料
2025-06-30 21:50本頁(yè)面
【正文】 法二氧化氯消毒中，常用的藥劑有 氯酸鈉 、 次氯酸鈉 、 鹽酸 。設(shè)計(jì)規(guī)范中，豎流沉淀池的中心布水器最大流速為 30mm/s 。亞鐵指鐵離子的化合價(jià)是 +2 。城鎮(zhèn)污水廠污染物排放標(biāo)準(zhǔn)一級(jí)A標(biāo)準(zhǔn)中，指標(biāo)COD、BOD、SS、TP分別對(duì)應(yīng)的數(shù)值是 50 、 10 、 10 、 。
A. CODcr B. BOD5
C. DO D. TOC6生物膜法的微生物生長(zhǎng)方式是( B )。 C． A、0A 70% B 94% C % D % 60、國(guó)內(nèi)外普遍采用的BOD培養(yǎng)時(shí)間是（ A ）天。A 〈50 B 50—150 C 150—200 D 〉2005污水消毒下列哪一種效率最高（ A ）。A．MLSS B．DO C．MLVSS D．SVl5(B)是衡量污泥沉降性能的指標(biāo)，也是衡量污泥吸附性能的指標(biāo)。 ：10：1：50：10 5活性污泥法處理污水，曝氣池中的微生物需要營(yíng)養(yǎng)物比為（D）。 A．增加 B．減小 C．不變 D．無(wú)關(guān)5（B）一是衡量污泥沉降性能的指標(biāo)，也是衡量污泥吸附性能的指標(biāo)。A： 無(wú)機(jī)物 B： SVI C：有機(jī)物 D： DO50、通常SVI在（C）時(shí)，將引起活性污泥膨脹。 B．C．） 。 D．MLSS4一般衡量污水可生化的程度為BOD／COD為（ B．SVI） 指標(biāo)來(lái)表示。A. 1/3倍 B. 3倍C. 30倍 D. 4測(cè)定水中有機(jī)物的含量，通常用 （A．～／s B．～／sC．—／s D．—／s4KgBOD5/. 是( B )的單位。A. 懸浮生長(zhǎng)型 B. 固著生長(zhǎng)型C. 混合生長(zhǎng)型 D. 以上都不是4泵的型號(hào)為QW型則此泵為( C )。h)4細(xì)格柵是指柵間距( B)。d)C、kgBOD5/（kgMLSS A. 混合液懸浮固體濃度 B. 混合液揮發(fā)性懸浮固體濃度C. 懸浮物濃度 D. 污泥指數(shù)容積負(fù)荷指(b)A、m3/(m2A. 聚合氯化鋁 B. 聚合氯化鐵C. 聚氯乙烯 D. 聚丙烯酰胺3,他的曝氣沉淀池的水力停留時(shí)間為2min,池的總有效容積為( B )?！? 】(A) (B) (C) (D) 3%%時(shí)，求污水的體積是原體積的幾分之幾? 【 】(A) 2/7 (B) 1/8 (C) 7/8 (D) 1/43曝氣池混合液污泥沉降比為30%,混合液懸浮固體濃度為3000mg/L，則污泥容積指數(shù)為下列何值? 【 】 (A) 10 (B) 50 (C) 100 (D) 1503( A )稱悶曝。 A 臭氧 B 氯氣 C 二氧化碳 D 氧氣2平流式沉淀池沉淀效率與深度無(wú)關(guān)，但深度又不能設(shè)計(jì)過(guò)淺，其主要原因是下列哪一項(xiàng)？【 】（A）較小的水深作用水頭較小，排泥不暢 （B）沉淀顆粒過(guò)早沉淀到池底，會(huì)重新浮起（C）在深度方向水流分布不均勻 （D）易受風(fēng)浪等外界因素?cái)_動(dòng)影響2當(dāng)校核發(fā)現(xiàn)沉淀池的出水堰負(fù)荷超過(guò)規(guī)定的出水堰最大負(fù)荷時(shí)，在設(shè)計(jì)上應(yīng)作出如下哪一種調(diào)整，使之滿足規(guī)范要求？【 】（A）減少設(shè)計(jì)停留時(shí)間（B）減少固體負(fù)荷（C）增加出水堰長(zhǎng)度（D）增加池深2在傳統(tǒng)活性污泥處理系統(tǒng)中，關(guān)于污泥回流的目的，下述哪種說(shuō)法是正確的？【 】（A）反硝化膠氮（B）厭氧釋磷（C）維持曝氣池中的微生物濃度（D）污泥減量2A2/O 法脫氮工藝中，將缺氧反應(yīng)器前置的主要目的是下述哪一項(xiàng)？【 】（A）充分利用內(nèi)循環(huán)的硝化液進(jìn)行脫氮 （B）使回流污泥與內(nèi)循環(huán)硝化液充分接觸硝化（C）改善污泥性質(zhì)，防止污泥膨脹 （D）充分利用原污水中的碳源進(jìn)行脫氮上流式厭氧污泥床反應(yīng)器（UASB）的處理效能大大高于厭氧接觸池及厭氧生物濾床等厭氧工藝，其主要原因是下列哪一項(xiàng)？【 】（A）污水在 UASB 反應(yīng)器內(nèi)停留
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