【正文】 蒸鍍條件如表 22 所示。清洗 涂膠 前烘 曝光 顯影 檢測(cè) 去膠 刻蝕 檢測(cè) 堅(jiān)膜圖 215 ITO 光刻工藝過(guò)程ITO 表面處理： a)先將 ITO 玻璃表面洗凈；b)利用勻膠機(jī)涂布光刻膠，采用光刻膠: 光刻膠稀釋劑=1:1 的光刻膠，通過(guò)控制勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速來(lái)控制膠的厚度；c) 通過(guò)前烘消除在光刻中膠與掩模板發(fā)生黏結(jié)；d)利用紫外光將陽(yáng)極光刻掩模板圖形投影在膠上；e)曝光與未曝光的部分光刻膠成分不同，曝光部分在顯影液中會(huì)溶解；f)清洗留在 ITO 玻璃上的顯影液并在烘箱中堅(jiān)膜；g)檢測(cè)光刻膠圖形的完整性；h)用 HCl:H2O=1:1 并加入一定量的 FeCl3 對(duì) ITO 進(jìn)行刻蝕，將圖形轉(zhuǎn)到 ITO 上； i)用 4％的 NaOH 溶液進(jìn)行去膠。ITO 光刻 ITO 清洗發(fā)光層蒸鍍金屬電極蒸鍍空穴傳輸層蒸鍍緩沖層蒸鍍封裝測(cè)試圖 214 OLED 器件的制備過(guò)程（1） ITO 玻璃表面處理為了得到精細(xì)的條紋，實(shí)現(xiàn)無(wú)源驅(qū)動(dòng)，必須對(duì) ITO 進(jìn)行光刻。依次蒸發(fā) CuPc、NPB、Alq Mg、Ag 薄膜 [11]。如圖 213 所示。而有機(jī)層掩模板就是給有機(jī)層限定范圍，決定有機(jī)層的形狀與大小。圖 212 陰極電極和 ITO 連接圖圖 213 陰極掩模板 有機(jī)層掩模板設(shè)計(jì)有機(jī)層包括三層，電子傳輸層、空穴傳輸層和發(fā)光層。陰極電極引腳和 ITO連接圖如 212 所示。所以在與電極引腳相連部分要有一部分與 ITO 電極重合，即覆蓋一部分 ITO 電極。所以不能將電信號(hào)直接加到金屬上，需通過(guò) ITO 電極將電信號(hào)傳遞給陰極。圖 211 陽(yáng)極掩模板 陰極掩模板設(shè)計(jì)在 OLED 器件中用金屬、合金做陰極，利用蒸鍍工藝制備。 陽(yáng)極掩模板設(shè)計(jì)陽(yáng)極圖形及電極和所有引腳都是在 ITO 玻璃上光刻形成的，所以陽(yáng)極掩模板的設(shè)計(jì)并不同于陰極掩模板和有機(jī)層掩模板。最終電極走線及引腳連接如圖 210 所示。在可視區(qū)不該顯示的區(qū)域陰陽(yáng)極不能重疊。設(shè)計(jì)圖形中一個(gè)點(diǎn)矩陣電極的設(shè)計(jì)如圖 29 所示。設(shè)計(jì)的其中一個(gè)字符如圖 28 所示。最好不要留有懸空實(shí)體；5）處理引線部分：內(nèi)層電極出線時(shí)，由外層來(lái)控制該處邊緣。設(shè)計(jì)的 8 字電極如圖 27 所示?？傊?，在某一層上由于筆段連通或引線使筆段邊緣擴(kuò)大，必須由另一層將多余部分去掉，以使圖形不發(fā)生變形；7）分層檢測(cè)，看是否有多余線頭，重線或斷線；8）檢測(cè)：設(shè)計(jì)完成后，必須將兩個(gè)版重合在一起檢查設(shè)計(jì)質(zhì)量，要求上下版圖重合部分就是外觀圖重要顯示的部分，而非顯示的內(nèi)容上下版不能有重合。這就是設(shè)計(jì)電極所要遵循的基本的原則。電極設(shè)計(jì)原理：設(shè)計(jì)原理是在繪制電極過(guò)程中始終要遵循的原則，需要顯示的區(qū)域?qū)?yīng)的 ITO 玻璃的 ITO 膜必須保留且陰極必須鍍上金屬，而不需要顯示的區(qū)域（如圖案之間的間隔，引線）對(duì)應(yīng)的陽(yáng)極 ITO 不能夠保留、陰極金屬不能鍍上或不能使其在上下對(duì)應(yīng)部分發(fā)生重疊。而且電極之間的間隔（稱為線間距）也要滿足光刻機(jī)的要求。而且，電極也是通過(guò)光刻技術(shù)來(lái)完成的，而光刻是不能刻單線的，因此電極必須具有一定寬度。表 21 邏輯真值表（分解圖）PIN S14 S15 S16 S17 S18 S19 S20 S21 S22 S23 S24 S25C1 3B 3A 3F 2B 2A 2F 1B 1A 1FC2 3C 3G 3E 2C 2G 2E 1C 1G 1EC11 3D 2D 1DC12 W7C13 W6C14 W5PIN S26 S27 …… S42 S43 S44 S45C16 D1,1 D1,2 …… D1,17C17 D2,1 D2,2 …… D2,17…… …… …… …… ……C27 D12,1 D12,2 …… D12,17C28 W8C29 W9C30 W10PIN S1 S2 S3 S4 S5 S6 S7 S8 S9 S10 S11 S12 S13C3 6B 6A 6F 5B 5A 5F 4B 4A 4FC4 6C 6G 6E 5C 5G 5E 4C 4G 4EC5 W1C6 W2C7 W3C8 W4C9 6D 5D 4DC10 Q1PIN S46 S47 S48 S49 S50 S51 S52 S53 S54 S55C46 7F 7A 7B 8F 8A 8B Q2 9F 9A 9BC47 7E 7G 7C 8E 8G 8C Q3 9E 9G 9CC48 7D 8D 9DPIN S56 S57 S58 S59 S60 S61 S62 S63 S64 S65C46 10F 10A 10B Q4 11F 11A 11B 12F 12A 12BC47 10E 10G 10C Q5 11E 11G 11C 12E 12G 12CC48 10D 11D 12DPIN S66 S67 …… S114 S152C15 Q10C31 D13,1 D13,2 …… D13,49C32 D14,1 D14,2 …… D14,49…… …… …… …… ……C41 D23,1 D23,2 …… D23,49PINS115S116S117S118S119S120 S121 S122 S123 S124 S125 S126 S127 S128C43 13F 13A 13B 14F 14A 14B Q6 15F 15A 15B 16F 16A 16B Q8C44 13E 13G 13C 14E 14G 14C Q7 15E 15G 15C 16E 16G 16C Q9C45 13D 14D 15D 16DPIN S129 S130 S131 S132 S133 S134 S135 …… S151C42 S16 …… S1C43 17F 17A 17B 18F 18A 18BC44 17E 17G 17C 18E 18G 18CC45 17D 18D 電極走線的設(shè)計(jì)在邏輯走線表的基礎(chǔ)上，就可以進(jìn)行電極圖形的設(shè)計(jì)，所謂電極指的是陽(yáng)極 ITO玻璃、金屬陰極的圖形，因此，陽(yáng)極 ITO 膜的功能有兩個(gè)：一是作為電極，將信號(hào)加到電極上，二是通過(guò)本身的形狀來(lái)控制顯示圖案。電極陽(yáng)極分布在左邊，陰極在右邊。這是進(jìn)行邏輯走線表設(shè)計(jì)的最基本的原則。 邏輯真值表的設(shè)計(jì)圖 26 邏輯走線圖邏輯走線表是指顯示像素所對(duì)應(yīng)的陰、陽(yáng)電極之間的邏輯連接關(guān)系，包括筆段或點(diǎn)陣電極之間的連接以及它們與引線的連接，連接方式一般由驅(qū)動(dòng)電路來(lái)決定，或由客戶提供。如圖 25 所示。圖 24 點(diǎn)陣的設(shè)計(jì)圖設(shè)計(jì)電極引腳考慮到驅(qū)動(dòng)電路和整體的美觀，所以設(shè)計(jì)在玻璃基板的下邊，通過(guò)設(shè)計(jì)顯示圖形的電極計(jì)算出共需要 200 個(gè)電極引腳，其中陽(yáng)極引腳 152 個(gè)，陰極引腳48 個(gè)。點(diǎn)陣子像素之間的距離為 mm。圖 23 七段八字的設(shè)計(jì)圖設(shè)計(jì)的用來(lái)顯示視覺(jué)效果個(gè)歌詞的區(qū)域選擇點(diǎn)陣顯示，所設(shè)計(jì)的點(diǎn)陣分八個(gè)區(qū)域。相鄰的兩個(gè)八字之間的距離是 。圖中設(shè)計(jì)的七段八字大小完全一樣，只是根據(jù)顯示要求來(lái)合理分布顯示位置。最明顯的就是顯示電量和音量的圖形。最下面的十二個(gè)八字圖中 6 所示區(qū)域，顯示時(shí)間。后面的字符顯示圖中 4 所示區(qū)域，用來(lái)表示播放模式，NOR 表示正常模式，3D表示 3D 效果模式，ROCK 表示搖滾模式，POP 表示流行音樂(lè)模式， JAZZ 表示爵士音樂(lè)模式，USER 表示用戶自定義模式。最上面八字后面的圖形圖中 2 所示區(qū)域是用來(lái)顯示循環(huán)模式的，從左到右分別表示單曲播放，單曲循環(huán)，全部播放和全部循環(huán)。總體顯示效果圖如圖 22 所示。不在局限于顯示音量和電量，所以本設(shè)計(jì)增加了播放模式、視覺(jué)效果、時(shí)間、循環(huán)模式、播放進(jìn)度和播放時(shí)間的顯示。顯示屏外觀圖如圖 21 所示。設(shè)計(jì)封裝蓋的長(zhǎng)為 58mm，寬為 47mm。設(shè)計(jì) ITO 玻璃基板的長(zhǎng)為 58mm，寬為 50mm，玻璃厚度為 。53=36mm?？梢晠^(qū)的長(zhǎng)為 247。可視區(qū)的對(duì)角線尺寸為 英寸。相對(duì)于傳統(tǒng)的封裝方法具有低成本、更輕、更薄的優(yōu)點(diǎn)，有效延長(zhǎng)了 OLED 的使用壽命，并能有效消除各防護(hù)層材料之間的相互影響。（2）化學(xué)法封裝技術(shù)利用熱化學(xué)氣相沉積聚合成膜技術(shù)封裝 OLED 器件，TCVDPF 封裝過(guò)程并不影響OLED 的發(fā)光性能和電流與電壓的性質(zhì)，而且封裝后的 OLED 使用壽命較未封裝的壽命提高了 4 倍。為了避免金屬涂層的針孔缺陷，使用玻璃封裝，即將顯示器件密封在干燥的惰性氣體環(huán)境中，如密封在一有玻璃蓋的干燥盒內(nèi)。這種方法簡(jiǎn)便、價(jià)格低廉。常用的封裝技術(shù)有玻璃封裝和薄膜封裝 [10]。否則，蒸發(fā)物原子或分子將與大量空氣分子碰撞，使膜層受到嚴(yán)重的污染，甚至形成氧化物；或者蒸發(fā)源被加熱氧化燒毀；或者由于空氣分子的碰撞阻擋，難以形成均勻連續(xù)的薄膜。由于基板溫度遠(yuǎn)低于蒸發(fā)源溫度，因此，沉積物分子在基板表面將直接發(fā)生從氣相到固相的轉(zhuǎn)變過(guò)程。飛行過(guò)程中與真空室內(nèi)殘余氣體分子發(fā)生碰撞的次數(shù)，取決于蒸發(fā)原子的平均自由程，以及蒸發(fā)源到基片之間的距離，常稱源—基距。每種蒸發(fā)物質(zhì)在不同溫度時(shí)有不相同的飽和蒸氣壓：蒸發(fā)化合物時(shí)，其組分之間發(fā)生反應(yīng)，其中有些組分以氣態(tài)或蒸氣進(jìn)入蒸發(fā)空間。真空蒸發(fā)鍍膜包括以下三個(gè)基本過(guò)程：（1）加熱蒸發(fā)過(guò)程。一般說(shuō)來(lái)，真空蒸發(fā)（除電子束蒸發(fā)外）與化學(xué)氣相沉積、濺射鍍膜等成膜方法相比較，有如下特點(diǎn)：設(shè)備比較簡(jiǎn)單、操作容易；制成的薄膜純度高、質(zhì)量好，厚度可較準(zhǔn)確控制；成膜速率效率高，用掩膜可以獲得清晰圖形；薄膜的生長(zhǎng)機(jī)理比較單純。真空蒸發(fā)鍍膜法（簡(jiǎn)稱真空蒸鍍）是在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸汽流，入射到固體（稱為襯底或基片）表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo) 磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長(zhǎng)產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得顯著技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益的作用。光刻的步驟包括：涂膠，利用旋轉(zhuǎn)法在 ITO 表面涂上一層粘附性好、厚度適當(dāng)、均勻、表面無(wú)顆粒無(wú)劃痕的光刻膠；前烘，將 ITO 玻璃基板在紅外燈下烘焙，促使膠膜內(nèi)溶劑充分的揮發(fā)掉，使膠膜干燥，增加膠膜與 ITO 之間的粘附性和提高膠膜的耐磨性，不沾污掩模板，只有干燥的光刻膠才能充分進(jìn)行光化學(xué)反應(yīng)；曝光，預(yù)熱紫外光燈，使光源穩(wěn)定，將光刻掩模板安裝在支架上，光刻掩模板與工作臺(tái)上的玻璃基板涂有光刻膠的一面緊貼，是光刻掩模板上的圖形與 ITO 相應(yīng)位置對(duì)準(zhǔn)進(jìn)行曝光；顯影，將經(jīng)過(guò)曝光的 ITO 玻璃基板放在顯影液中，將未感光部分的光刻膠溶除，以獲得腐蝕時(shí)所需要的圖形；堅(jiān)膜，顯影時(shí)膠膜發(fā)生軟化，膨脹，堅(jiān)膜可以使膠膜與 ITO 之間的粘貼更牢，以增強(qiáng)膠膜本身的抗蝕能力；腐蝕，選適當(dāng)?shù)母g液，將無(wú)光刻膠覆蓋的ITO 腐蝕掉，而有光刻膠覆蓋的區(qū)域保存下來(lái)；去膠，去掉覆蓋在 ITO 上的保護(hù)膠膜。光刻是一種復(fù)印圖像與化學(xué)腐蝕相結(jié)合的綜合性技術(shù)，它先采用照相復(fù)印的方法，將光刻掩模板上的圖形精確的復(fù)制在涂有光刻膠的 ITO 玻璃基板表面，在適當(dāng)?shù)牟ㄩL(zhǎng)光照射下，光刻膠的溶解性發(fā)生變化，提高了強(qiáng)度，從而不溶于有些有機(jī)溶劑中，未受照射的部分光刻膠沒(méi)有發(fā)生變化，很容易被某些有機(jī)溶劑溶解。光刻主要用于 ITO 玻璃基板即陽(yáng)極的刻蝕；蒸鍍主要用于有機(jī)層（空穴緩沖層，空穴傳輸層，發(fā)光層，電子傳輸層等） ，陰極的制備；封裝是在制作完器件，對(duì)器件起保護(hù)作用避免氧化而進(jìn)行的工藝