納米科技導(dǎo)論-9-納米技術(shù)應(yīng)用集景之二-修改-文庫吧資料
2025-05-06 05:59本頁面
【正文】 lity control（質(zhì)量控制） …… Back End（后續(xù)處理）： cleaving（切割） facet coating（端面鍍膜） characterization（參數(shù)塑造） mounting (TOheader)（安裝） fiber coupling（光纖耦合） burnIn（預(yù)燒） 壓印模版的制作 A、母版的 EBeam制作 光柵模版的設(shè)計和制作是納米壓印制作 DFB激光器的一個關(guān)鍵步驟，適合 DWDM技術(shù)要求的 1550nm波段 DFB激光器，根據(jù)Bragg條件將光柵的周期設(shè)計為 242nm，長度為 250181。從一些國外最新發(fā)表論文看，通過對新物質(zhì)材料的研究， Nanoplus已經(jīng)把中心波長做到了 4000nm，其它公司也開始往20223000nm之間發(fā)展，在材料的研究和工藝技術(shù)上展開了激烈的競爭。由于部分國家對 DFB激光器的技術(shù)保護，部分產(chǎn)品對中國禁售，目前主要通過代理商向國內(nèi)銷售，主要包括Nanoplus代理商深圳市華儒科技、 Eagleyard代理商富泰 (香港 )科技、 NTT北京代表處、 Thorlabs代理商上海瞬渺光電科技等等。 二、可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜技術(shù)（ TDLAS） a) 過程控制 (HCl, O2 …) b) 火災(zāi)預(yù)警 (CO/CO2 ratio) c) 成分檢測 (moisture in natural gas) d) 醫(yī)療應(yīng)用 (blood sugar, breath gas, helicobacter) e) 大氣測量 (isotope position of H2O, O2, CO) f) 泄漏檢查 (Methane) g) 安全 (H2S, HF) h) 環(huán)境測量 (Ozone, Methane) i) 科研 (Mars and space missions) j) … 三、原子光譜學(xué)應(yīng)用 k) 原子鐘 (GALILEO, chip scale atomic clock) l) 磁力計 (SERF) m) ... 四、新興市場 a) 精密測量 (Ellipsometry, 3D vision) b) 夜視儀 c) 同位素監(jiān)測 (distinction of 235UHF / 238UHF) d) … DFB激光器國內(nèi)外廠商現(xiàn)狀 當(dāng)前， DFB激光器芯片技術(shù)基本上由德國、美國、日本等發(fā)達國家掌握，比如德國 Nanoplus、Sacher、 Eagleyard、 Toptica公司，美國 Thorlabs、EM Power Technology、 Sarnoff公司，日本NTT、 Oclaro等公司。DFB激光器最大特點是具有非常好的單色性（即光譜純度），它的線寬普遍可以做到1MHz以內(nèi)，以及具有非常高的邊摸抑制比（ SMSR），目前可高達 4050dB以上。 五、納米壓印制作 DFB激光器光柵 DFB( Distributed Feedback Laser)，即分布式反饋激光器 ，其不同之處是 內(nèi)置了布拉格光柵 （ Bragg Grating），屬于側(cè)面發(fā)射的半導(dǎo)體激光器。 同樣是由于接觸式工藝的原因，納米壓印技術(shù)對晶片平整度有非常高的要求，不平的晶片會產(chǎn)生非常嚴重的圖形缺陷。 壓印模版的表面需要進行疏水處理，使聚合物壓印膠與襯底的粘附性遠遠大于其與模版之間的粘附性，這樣才能保證脫模時，模版不會將壓印膠拉起來而破壞壓印圖形。 納米壓印技術(shù)相比于現(xiàn)有的技術(shù)，在成本、生產(chǎn)效率、加工尺寸、制作圖形的多樣性、圖形面積上都具有很大的優(yōu)勢，非常適合器件的大規(guī)模生產(chǎn)。 納米壓印技術(shù)制作的圖形由模版上的圖形決定，沒有周期性的要求，能夠復(fù)制任意圖形。 納米壓印相比于傳統(tǒng)的光刻技術(shù)有許多優(yōu)點： 納米壓印技術(shù)制作的圖形面積和工藝最小尺寸只與模版上圖形的面積與最小尺寸有關(guān)。值得一提的是，利用納米壓印技術(shù)制作光子晶體和圖形襯底提高 LED的出光效率已經(jīng)被很多廠商商業(yè)化。 在 MEMS領(lǐng)域 ，制作出了的微流管道，高精度 MEMS傳感器等。在 半導(dǎo)體工藝領(lǐng)域 ，實現(xiàn)了最小 5nm特征尺寸的圖形，100mm晶片下高均勻性，高質(zhì)量的納米圖形，全程質(zhì)量在線監(jiān)控。微接觸壓印主要的優(yōu)點是生物兼容性好，它在整個壓印過程中，沒有高溫、高壓、紫外曝光的過程，最大程度的保護了生物樣品不受到工藝過程的影響。微接觸壓印通常是利用聚合物模版，聚合物模版是旋涂在加工好的模具上經(jīng)固化形成的，通常使用的材料是聚二甲基硅氧烷 (polydimethylsiloxan， PDMS)，然后將聚合物模版浸入到具有形成自組裝分子層的化學(xué)溶液中，然后將模版慢慢的靠近晶片，形成微接觸，由于 PDMS的強疏水性能，模版上突出圖形區(qū)域的自組裝分子層會轉(zhuǎn)移到晶片上，從而在晶片上形成具有一定圖形的自組裝分子層。 圖 7 步進閃光 微接觸式壓印 （ Micro contact imprint）與普通壓印的功能不同。但是滴膠式壓印也有其優(yōu)點，它只在需要壓印的地方滴膠，因此可以大大減少壓印膠的用量，從另一方面來說，需要壓印的區(qū)域也可以通過滴膠的位置來進行選擇。
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