【正文】 現(xiàn)分述如下：大氣降水本區(qū)域降水充沛。因此，礦井在未來生產(chǎn)中應進一步對f3斷層的導水及越流補給布置工程加以了解，進行探防水工作。根據(jù)5號勘探線剖面圖分析，f3斷層為ZK11號單孔揭露的隱伏斷層，揭露斷層標高+，切割長興組、吳家坪、茅口組地層，該斷層為張性斷裂，具有一定的導水性，對礦區(qū)礦床的充水有影響。斷距25m。ZK11號孔揭露的f3斷層，位于勘探區(qū)東部邊界，發(fā)育標高+，發(fā)育于長興組下部，為一張性斷裂，斷層傾向143176。及57176。長興組和吳家坪組二段含水層位于煤系地層頂板，茅口組含水層位于煤系地層底板，其間有吳家坪組一段和孤峰組隔水層相間，阻隔礦床頂?shù)装搴畬拥叵滤M入煤系地層。區(qū)內(nèi)無河流及地表水體，含水層地下水由大氣降水直接補給。本區(qū)域地下水賦存條件較差，具有流程較短，排泄分散等特點。礦區(qū)位于官渡向斜南東翼上部，無河流及地表水體，各含水層露頭分布于礦區(qū)內(nèi)及區(qū)外南側(cè)靠近長梁子背斜軸部，區(qū)內(nèi)和區(qū)外含水層露頭接受大氣降水補給，直接進入含水層，沿含水層傾向、走向逕流，至低處河流切割含水層出露部分，以泉水的形式排泄，所以礦區(qū)的地表水、地下水均由大氣降水直接補給。含水層地下水雨季涌水量比枯季涌水量成倍增長。除去地表水排泄逕流部分，其余的大氣降水由勘探區(qū)含水層露頭的巖溶裂隙、落水洞、漏斗、巖溶管道進入含水層成為地下水，由上至下沿含水層傾向發(fā)育，匯集于官渡向斜軸部水平循環(huán)帶沿含水層走向逕流排泄。DT1硐探揭露本含水層的巖溶裂隙時，揭露含水層時的瞬時其最大的涌水量達19682m3/d，所以礦區(qū)含水層的富水性強。本層厚約170~215m，平均190m（勘探揭露不全，為區(qū)域厚度）。本隔水層阻隔了上部長興組、吳家坪組二段含水層與下部茅口組含水層的水力聯(lián)系，由于煤層賦存于隔水層上部，~，上部含水層距煤層的層間距小于采空塌陷裂隙帶高度，含水層地下水通過裂隙補給礦井，所以隔水層上部不能起到隔水作用，其上部含水層將對礦床充水有影響。二疊系中統(tǒng)孤峰組（P2g）黑色薄層狀硅質(zhì)巖、硅質(zhì)炭質(zhì)頁巖及炭質(zhì)頁巖組成。二疊系上統(tǒng)吳家坪組一段（P3w1）和中統(tǒng)孤峰組（P2 g）二疊系吳家坪組一段（P3w1）系礦區(qū)含煤巖系。長興組（P3c）與吳家坪組二段（P3w2）巖溶不發(fā)育，未見較大的溶洞及巖溶裂隙，地表無泉井出露，探硐揭露巖層未見明顯的出水、滴水，偶有微弱滲水現(xiàn)象，巖層潮濕，局部有細小間斷滴水。均為巖溶裂隙含水層，含水層出露于勘探區(qū)外官渡向斜河間地塊南東翼西段上部，呈條帶狀沿地層走向展布。吳家坪組二段（P3w2）上部為灰黑色薄層泥巖與硅質(zhì)巖互層；下部為灰?guī)r、泥質(zhì)灰?guī)r，含少量燧石。二疊系上統(tǒng)長興組（P3c）和吳家坪組二段（P3w2）長興組（P3c）為灰黑色中至厚層狀灰?guī)r。二疊系上統(tǒng)大隆組（P3d）本區(qū)內(nèi)大隆組（P3d）呈長條狀展布于礦區(qū)外官渡向斜河間地塊南東翼西段上部，厚度約45~55m。因此本層下段起到了阻擋上段含水層和下部含水層的水力聯(lián)系，減少了對礦床的充水影響。大冶組一段（T1d1）厚82~85m，主要為泥巖、泥灰?guī)r夾少量石灰?guī)r，分布在勘探區(qū)南東側(cè)官渡向斜南東翼的斜坡地帶，出露標高+1741~+1060m，地面未見巖溶發(fā)育，為相對的隔水層。由DT1硐探揭露本含水層無涌水，卻發(fā)生漏失現(xiàn)象。壁面有水銹斑跡，所以勘探區(qū)未出露泉水。區(qū)內(nèi)巖溶較發(fā)育，其類型大多是垂直形態(tài)的落水洞、漏斗，零星分布于區(qū)內(nèi)，成為勘探區(qū)本含水層補給區(qū)，這些巖溶是吸收地表水滲入地下的良好通道，巖溶出露標高大多在+1000~+1600m標高，以下幾乎未發(fā)現(xiàn)巖溶。一段（T1d1）~，薄至中厚層狀鈣質(zhì)泥巖、粉砂質(zhì)泥巖及中厚層狀石灰?guī)r。三疊系上統(tǒng)大冶組（T1d）按巖性差異劃分為四個段，按巖層的富水性劃分為二個段： 二段（T1d2）至四段（T1d4）為含水層（T1d2~4）段；一段（T1d1）為隔水層段?，F(xiàn)將礦區(qū)內(nèi)出露和露的各地層含（隔）水性由新至老敘述于后：第四系全新統(tǒng)（Q4）出露于地形低洼處，厚0~，以亞粘土、沙土、碎石為主，夾少量礫石，透水性強而儲水性差。（二）含水層和隔水層礦區(qū)范圍內(nèi)出露的地層為三疊系下統(tǒng)大冶組石灰?guī)r，局部溶蝕洼地有少量的第四系全新統(tǒng)沉積物覆蓋于上。綜上所述，礦區(qū)的水文地質(zhì)條件，具有以下特征：區(qū)內(nèi)為一強烈侵蝕、溶蝕的中山地貌?？趶?0m近似圓形，充填大量泥沙、石塊，接受周圍大氣降水。YL4X=3418930Y=373893001545T1d漏斗，口徑3m，是三里宮、鐵匠坪一帶的出水口。YL2X=3417050Y=373881201590T1d干漏斗，口徑約4m，洞口不規(guī)則，洞內(nèi)有泥沙充填。壁上常有鈣質(zhì)薄膜水銹斑跡附著，說明地下水活動跡象，發(fā)育深度可達1000m（詳見表132）。礦區(qū)內(nèi)巖溶主要發(fā)育在洼地內(nèi)或與峰叢連接的埡口部位，一般在洼地邊緣或沖溝腳部或埡口的低處，都會有落水洞發(fā)育；它們大多沿巖層裂隙垂直或傾斜向下發(fā)育延伸，這些巖溶是大氣降雨向地下滲透性補給的良好通道。由此根據(jù)電測井實測的幾個鉆孔終孔水位預測T1d含水層地下水位標高可能在+~+，P3c含水層地下水位標高可能在+~+（詳見表131）。2）泉水集中在大溪河、抱龍河、官渡河切割的沿河兩岸，岸邊及斜坡地帶，勘探區(qū)內(nèi)無泉井發(fā)育。各含水層的富水性將在區(qū)域水文地質(zhì)單元的基礎上予以減弱?？碧絽^(qū)各含水層出露標高+1200~+1550m，此次勘探控制礦床最低標高+560m，而官渡向斜河間地塊水文地質(zhì)單元最低侵蝕基準面標高抱龍河標高只有+190m，和勘探區(qū)控制礦床標高+560m比較，相對高差達370m。水文地質(zhì)條件和特征1）礦區(qū)位于官渡向斜河間地塊水文地質(zhì)單元南東翼地下水補給區(qū)，各含水層除三疊系大冶組大面積出露勘探區(qū)內(nèi)，其余各含水層呈條帶沿地層走向由西向東展布于勘探區(qū)外南東側(cè)，成為勘探區(qū)地下水補給區(qū)?？碧絽^(qū)地表水大部分沿沖溝分別匯入官渡河、大溪河、抱龍河，最后流入長江。大氣降水，地表水逕流排泄后的剩余部分成為地下水補給源?？碧絽^(qū)東界被獅子包西側(cè)的橫向沖溝切割，切割標高+1550~+1250m，向斜南東翼縱觀勘探區(qū)，勘探區(qū)為侵蝕、剝蝕低中山巖溶地貌。大氣降水大部分順坡面排入附近橫向沖溝，向北匯聚于大石頭灣流向官渡河，然后注入長江；官渡河的河床標高+300m，為勘探區(qū)的最低侵蝕基準面，而勘探區(qū)內(nèi)地形最低標高+1060m，礦床開采標高+560m，和侵蝕基準面相差760~260m，為地表水、地下水向深部發(fā)育十分有利，大部分降水由沖溝、河流排泄，少部分通過巖層露頭，巖溶洼地、構(gòu)造裂隙等滲入地下，形成含水層補給源。主要地貌為單面山順向坡。K2下部分層為主采煤層，礦區(qū)范圍內(nèi)各見煤點均達可采。礦區(qū)內(nèi)可采煤層一般為K2煤層最下面一個分層，~，煤質(zhì)差，為不可采煤層；一般含夾矸厚一層，~；個別點含夾矸兩層；僅個別孔如ZK6號孔因頂板有溶蝕現(xiàn)象及ZK11號孔遇f3隱伏小正斷層影響。~，；一般含矸石1～2層，矸石厚度大于分煤層（煤線）厚度。九、煤層礦區(qū)內(nèi)含煤地層為二疊系上統(tǒng)吳家坪組（P3w）一段（P3w1），僅有K2煤層一層，賦存于二疊系上統(tǒng)吳家坪組（P3w）一段（P3w1）中上部。泥巖中常含星點狀硫鐵礦晶粒及蠕蟲狀硫鐵礦結(jié)核。一段（P3w1）：為本次勘探的含煤巖系。八、含煤地層礦區(qū)含煤巖系為二疊系上統(tǒng)吳家坪組（P3w），根據(jù)巖性及含煤情況可分為一、二兩段：二段（P3w2）：該段不含煤層，上部為灰黑色薄層硅質(zhì)石灰?guī)r；下部為灰?guī)r、泥質(zhì)灰?guī)r，含少量燧石。相對本勘探區(qū)而言較遠，對本區(qū)煤層無影響。左右。左右，斷距大于50m。F1斷層：為一走向逆斷層，此斷層分布在勘探區(qū)外以南K2煤層露頭以外茅口組地層中，斷層產(chǎn)狀：傾向137176。礦區(qū)內(nèi)總體是地層沿走向、傾向變化不大，地層出露完整、連續(xù)，未發(fā)現(xiàn)＞30m的斷裂存在；無巖漿巖影響?？梢姅鄬訋r芯破碎，造成本孔K2煤層上盤缺失。傾角25176。～，見一隱伏小正斷層f3，發(fā)生在長興組（P3c）下部?？梢姅鄬由媳P地層有牽引現(xiàn)象，破碎帶中方解石脈穿插。傾角57176。DT2探硐中見f2逆斷層，發(fā)生在大冶組一段底部。下盤煤層傾角12176?？梢姅鄬由媳P煤層傾角變緩為5176。傾角63176。其中DT1探硐中見f1正斷層發(fā)生在吳家坪組一段頂部。波動起伏高差＜10m。~4