ods清洗劑替代品發(fā)展趨勢(參考版)
2025-01-20 00:19本頁面
【正文】 ? 從長遠看， HFC245fa和 HFC365mfc應(yīng)是較好的清洗劑替代品品種。在清洗行業(yè)， HFC365mfc在大多數(shù)場合可替代HCFC141b。 北京大學環(huán)境學院 新清洗劑 ? HFC365mfc 其物理性質(zhì)類似于 HCFC141b，其匹配性優(yōu)于 HCFC141b。 HFC245fa的主要優(yōu)點是 ODP為零、 GWP較低，使用它作為清洗劑對環(huán)境的影響小。 HFC245fa和醇類等組成的混合物可增加其清洗能力。 北京大學環(huán)境學院 當前的替代趨勢 —— 電子清洗 ? 免清洗是最經(jīng)濟和環(huán)境保護的替代技術(shù)； ? 如果需要清洗 ?水溶性的清洗最廣泛，污水處理相對簡單；大部分情景成本低于 CFC113； ?加入皂化劑的水清洗，由于堿性對部分材料有破壞性，水處理要求高，成本高； ?碳氫表面活性劑 半水洗，設(shè)備投資高、污水處理高； ?小企業(yè)清洗設(shè)備每臺 $ 50,000。 （ e）揮發(fā)性甲基硅氧烷 在精密清洗方面，十二甲基環(huán)六硅氧烷、六甲基二硅氧烷、八甲基三硅氧烷、十甲基四硅氧烷都是可接受的替代品。 （ d）超臨界流體清洗、等離子體清洗和紫外 臭氧清洗 超臨界流體清洗、等離子體清洗和紫外 臭氧清洗作為替代者都是可接受的。因此其危害性也會等于或低于金屬清洗造成的危害性。這兩類清洗劑都有可能占據(jù)大約 65%的精密清洗市場。 北京大學環(huán)境學院 允許使用的替代品 ? 精密清洗 （ a）半水系 /水系清洗劑 半水系和水系清洗劑是可接受的。 （ f）揮發(fā)性甲基硅氧烷 在電子清洗方面，十二甲基環(huán)六硅氧烷、六甲基二硅氧烷、八甲基三硅氧烷、十甲基四硅氧烷都是可接受的替代品。 （ e）超臨界流體清洗、等離子體清洗和紫外 臭氧清洗 在電子清洗方面，超臨界流體清洗、等離子體清洗和紫外 臭氧清洗都是可接受的。雖然在電子清洗方面這些溶劑還沒有象在金屬清洗方面有那么多的商業(yè)前景。 （ c）可溶性有機清洗劑 這種可接受性的定義可以擴展到單獨使用或混合使用的有機溶劑。為了檢測這種危害性，應(yīng)注意區(qū)別免清洗技術(shù)和傳統(tǒng)電子清洗過程的臨界因素。 （ b）免清洗替代技術(shù) 在電子清洗方面，隨著時間的推移，差不多 70%的電子清洗市場將轉(zhuǎn)向免清洗處理，許多電子公司對這種替代技術(shù)表示出高度興趣。 北京大學環(huán)境學院 允許使用的替代品 ? 電子清洗 （ a）半水性 /水性清洗劑 在電子方面，估計半水系清洗劑能擁有超過 80%的清洗劑市場，而水系清洗劑能占據(jù)超過 60%的市場。 （ f）揮發(fā)性甲基硅氧烷：十二甲基環(huán)六硅氧烷、六甲基二硅氧烷、八甲基三硅氧烷、十甲基四硅氧烷都是可接受的 CFC113和 MCF的替代品。 （ e）消散油 在金屬清洗方面，消散油是可接受的 CFC113和 MCF的替代品。 北京大學環(huán)境學院 允許使用的替代品 ?金屬清洗 （ d）超臨界二氧化碳清洗 在金屬清洗方面，超臨界二氧化碳作為替代品是可接受的。但是，這些危害可以根據(jù)現(xiàn)有的環(huán)境標準進行控制，包括有適當?shù)耐L排氣裝置以及好的工作習慣。這些替代品的化學性質(zhì)可以符合超過 80%的金屬清洗的需要。 這些溶劑的使用者應(yīng)考慮回收和
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