物理氣相沉積技術(shù)ppt課件-wenkub.com
2025-04-28 12:11 本頁面
【正文】 然后接通交流電，使蒸發(fā)源中的膜料加熱蒸發(fā)，蒸發(fā)出的粒子通過輝光放電的等離子區(qū)時部分被電離成為正離子 ，通過 電場 與擴散作用，高速打在基片表面。 磁控濺射鍍膜（高速低溫濺射） 正交電磁場可以將電子的運動束縛在靶面附近，提高了電子的電離效率，使等離子體密度加大。 —— 射頻，磁控濺射 射頻濺射鍍膜 原理：利用 高頻電磁輻射 來維持低氣壓（ 10 － 2Pa） 的輝光放電。 二極濺射鍍膜 ? 屬于單純 直流濺射 法，裝置簡單，是最早采用的陰極濺射方法。 ? ：利用 低壓氣體 的異常 輝光放電 產(chǎn)生的 陽離子 ，在電極作用下高速沖向 陰極（耙材）， 以致對靶材表面產(chǎn)生非常強烈的濺射作用，并使濺射出的粒子沉積到 基片或工件 上成膜，是把 基片或工件作為陽極 。 （一）真空蒸發(fā)鍍示意圖 １、蒸發(fā) ２、汽化粒子的輸運 （源－基距＜平均自由程） ３、凝聚、生長過程 （二）主要過程 蒸發(fā)過程 ? 蒸發(fā)速率： Gm＝ *10－ 3PS(Ar/T） 確定材料的飽和蒸汽壓 PS ， T Gm 確定材料的飽和蒸汽壓 PS ， Gm T 蒸汽粒子的 空間分布 蒸發(fā)源 膜料 點，平面 類型 物性 加熱條件 蒸發(fā)方式（蒸發(fā)源類型） 電阻加熱蒸發(fā)方式 電子束加熱蒸發(fā) 方式 高頻加熱蒸發(fā)方式 激光加熱蒸發(fā)方式 優(yōu)點：可用于高熔點膜材，蒸發(fā)速率高 膜料與電阻絲不直接接觸 凝聚、生長過程 ◆ 表面現(xiàn)象： ◆ 被吸附粒子的凝聚、生長過程： ? 原子表面擴散 ，發(fā)生碰撞，形成原子簇團； ? 原子超過臨界值，形成穩(wěn)定核； ? 穩(wěn)定核合并； ? 晶核長大； ? 生成連續(xù)膜或納米粒子。 ? 二維材料：是指當(dāng)材料的任一維度，如 Z方向的尺寸小到納米量級，則此材料就成為 X， Y方向延展的二維材料。 —— 薄膜材料 (納米薄膜） ? 一維材料：當(dāng)材料在 Z方向縮小的同時
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