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2025-08-03 21:53 本頁面
   

【正文】 3 C 834 過程控制解釋(同 P管制圖) 835 過程能力解釋 固定樣本容量為 n 的過程能力為其不合格數(shù)的平均值 c. 84 單位不合格(缺陷)數(shù)的 u圖 841 使用的時機 u圖用來測量具有不同的樣本(受檢材料的量不同)的子組 內(nèi)每檢驗單位產(chǎn)品之內(nèi)的不合格數(shù)量(可以用 不良率 表示) . 842 數(shù)據(jù)的收集 8421 各子組樣本容量彼此不必都相同,盡量使它的容量在其平 均值的正負擔(dān)過重 25%以內(nèi),可以簡化控制限的計算 . 8422 記錄并描繪每個子組內(nèi)的單位產(chǎn)品不合格數(shù)( u) u=c / n 式中 : C為發(fā)現(xiàn)的不合格數(shù)量, n為子組中樣本的容量。 824 過程控制解釋和過程能力解釋 同 p管制圖 83 不合格(缺陷)數(shù)的 c 圖 831 采用時機 C圖用來測量一個檢驗批內(nèi)的不合格(的缺陷)的數(shù)量, C圖 要求樣本的容量恒定或受檢驗材料的數(shù)量恒定,主要用于以下兩 類檢驗: 8311 不合格分布在連續(xù)的產(chǎn)品流上(如:每條尼龍上的瑕疵,玻 璃上的氣泡或電線上絕緣層薄的點),以及可以用不合格的 平均比率表示的地方(如 100平方米上的缺陷) 8312 在單個的產(chǎn)品檢驗中可能發(fā)現(xiàn)不同原因造成的不合格。 822 數(shù)據(jù)的收集(基本和 p 圖相同) 8221 受檢驗的樣本的容量必須相同,樣本容量足夠大使每個子組 內(nèi)都有幾個不良品并在。并在備 注欄中詳細記錄。 81313 明顯的非隨機圖形 a 非隨機圖形例子:明顯的趨勢;周期性;子組內(nèi)數(shù)據(jù)間有 規(guī)律的關(guān)系等 。 b 低于控制限之下的點,說明存在下列情況的一種或多種: 控制限或描點時描錯。 ) 813 過程控制用控制圖解釋: 8131 分析數(shù)據(jù)點,找出不穩(wěn)定的證據(jù)(一個受控的 P管制圖 中,落在均值兩側(cè)的點的數(shù)量將幾乎相等) 。 C、 按上式分別計算樣本容量為 n 和 n 時的點的控制限 . UCL,LCL = P 177。 在實際運用中 , 當(dāng)各組容量不超過其平均容量 25%時 , 可用平均樣本容量 n 代替 n 來計算控制限 USL; LSL。 選擇控制圖的坐標刻度 8113 選擇控制圖的坐標刻度 一般不良品率為縱坐標 , 子組別 ( 小時 /天 ) 作為橫坐標 ,縱坐標的刻度應(yīng)從 0到初步研究數(shù)據(jù)讀讀數(shù)中最大的不合格率值的 到 2倍 。 分組頻率: 根據(jù)實際情況,兼大容量和信息反饋快的要求。 式中: R 為移動極差的均值, d2是隨樣本容量變化的常數(shù)。 b 單值的最大值與最小值之差的 2倍 。 單值和移動極差圖( X—MR) 用途 測量費用很大時,(例如破壞性實驗)或是當(dāng)任何時刻點的輸出 性質(zhì)比較一致時(例如:化學(xué)溶液的 PH值)。 53 描點 操作者將每個單值的點標在中位數(shù)圖上。 32 畫一個窄的垂直框標注超過極差控制限的子組。 c 刻度應(yīng)與量具一致。 13 過程控制的分析(同 XR) 14 過程能力的分析(同 XR) 估計過程標準差: σ = S / C4= σ S / C4 n 2 3 4 5 6 7 8 9 10 B4 B3 * * * * A3 ? ? 式中: S 是樣本標準差的均值(標準差受控時的), C4為隨樣本容量變化的常數(shù)。 n – 1 式中: Xi, X; N 分別代表單值、均值和樣本容量。 ≤Cpk≤,說明制程能力正常 。 UCL–X 3 σ X – LCL 3 σ ? ? ? ? 423 估計超出規(guī)范的百分比 :( PZ ) a 對于單邊容差,直接使用 Z值查標準正態(tài)分布表,換算成 百分比。 421 對于單邊容差,計算: Z=(USLX) / σ? 或 Z=(XLSL) / σ? (選擇合適的確一個) 注:式中的 SL=規(guī)范界限, X=測量的過程均值, σ? =估計的過程標準偏差 。方法如下: b 1 估計過程的標準偏差(用 σ? 表示),用 現(xiàn)有的 子組容 量計算: σ? = R/d2 式中 R為子組極差的均值(在極差受控期間), d2 為隨樣本 容量變化的常數(shù),如下表: n 2 3 4 5 6 7 8 9 10 d2 b –2 按照 新的 子組容量查表得到系數(shù) d2 、 D D4 和 A2,計算新 的極差和控制限: R新 = σ? d2 UCLR= D4 R新 LCLR = D3 R新 UCLX = X+ A2 R新 LCLX = X– A2 R新 將這些控制限畫在控制圖上。 b 應(yīng)及時分析問題,例如:出現(xiàn)一個超出控制限的點就立即開 始分析過程原因。 c3 數(shù)據(jù)已經(jīng)過編輯 (極差和均值相差太遠的幾個子組更改刪除) d 如果顯著少余 2/3以上的描點落在離 R很近之處(對于 25子組, 如 果有 40%的點落在控制限的 1/3區(qū)域),則應(yīng)對下列情況的一 種或更多進行調(diào)查: d1 控制限或描點計算錯描錯 。 a1 過程均值已改變 a2 測量系統(tǒng)已改變(漂移,偏差,靈敏度) 注:標注這些使人們作出決定的點,并從該點做一條參考線延伸到 鏈的開始點,分析時應(yīng)考慮開始出現(xiàn)變化趨勢或變化的時間。而是排除受已知的特殊原因影響的點。 b 由于出現(xiàn)特殊原因而從 R 圖中去掉的子組,也應(yīng)從 X圖中去掉。 注: 如果存在幾個過程流,應(yīng)分別識別和追蹤。 c2 過程或取樣方法被分層,每個子組系統(tǒng)化包含了從兩個或多 個具有完全不同的過程均值的過程流的測量值(如:從幾組 軸中,每組抽一根來測取數(shù)據(jù))。 注 2: 標注這些使人們作出決定的點,并從該點做一條參考線延伸 到鏈的開始點,分析時應(yīng)考慮開始出現(xiàn)變化趨勢或變化的時間 。 a2 測量系統(tǒng)的改變 ( 如新的檢驗人或新的量具 )。 注 1: R 圖和 X 圖應(yīng)分別分析,但可進行比較,了解影響過程 的特殊原因。 ? 各控制限畫成虛線。 計算公式: UCLx=X+ A2R UCLR=D4R LCLx=X A2R LCLR=D3R 接上頁 注: 式中 A2,D3,D4為常系數(shù),決定于子組樣本容量。 注: 對于還沒有計算控制限的初期操作的控制圖上應(yīng)清楚地注明“ 初始研究 ”字樣。 42 刻度選擇 : 接上頁 對于 X 圖,坐標上的刻度值的最大值與最小值的差應(yīng)至少為子組均值( X)的最大值與最小值的差的 2倍,對于 R圖坐標上的刻度值的最大值與最小值的差應(yīng)為初始階段所遇到的最大極差( R)的 2倍。 接上頁 113 子組數(shù): 子組越多,變差越有機會出現(xiàn)。 11 選擇子組大小,頻率和數(shù)據(jù) 111 子組大小 :一般為 5件連續(xù)的產(chǎn)品,僅代表單一刀具 /沖頭 /過程 流等。 b 確保檢測設(shè)備或量具本身的準確性和精密性。 達到統(tǒng)計控制狀態(tài)? 確定能力 計劃 實施 計劃 實施 措施 研究 措施 研究 計劃 實施 改進過程 措施 研究 改進過程從而更好地理解 普通原因變差 減少普通原因變差 控制圖 上控制限 中心限 下控制限 收集 收集數(shù)據(jù)并畫在圖上 控制 根據(jù)過程數(shù)據(jù)計算實驗控制限 識別變差的特殊原因并采取措施 分析及改進 確定普通原因變差的大小并采取減小它的措施 重復(fù)這三個階段從而不斷改進過程 管制圖類型 計量型數(shù)據(jù) XR 均值和極差圖 計數(shù)型數(shù)據(jù) P chart 不良率管制圖 Xδ均值和標準差圖 nP chart 不良數(shù)管制圖 X R 中位值極差圖 C chart 缺點數(shù)管制圖 XMR 單值移動極差圖 U chart 單位缺點數(shù)管制圖 控制圖的選擇方法 確定要制定控制圖的特性 是計量型數(shù)據(jù)嗎? 否 關(guān)心的是不合格品率? 否 關(guān)心的是不合格數(shù)嗎? 是 樣本容量是否恒定? 是 使用 np或 p圖 否 使用 p圖 樣本容量是否 桓 定? 否 使用 u圖 是 是 使用 c或 u圖 是 性質(zhì)上是否是均勻或不能按子組取樣 —例如:化學(xué)槽液、批量油漆等? 否 子組均值是
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